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제 1 전극;제 2 전극; 및상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이에 배치되고 적어도 일부에 결정화된 칼코게나이드 재료를 포함하는 칼코게나이드계 박막을 포함하며,상기 결정화된 칼코게나이드 재료 내의 나노 결정들이, 상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이에 비선형 셋 동작과 리셋 동작이 가능한 전도 패스를 제공하도록 정렬되는 비선형 스위칭 소자
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제 1 항에 있어서,상기 칼코게나이드 재료는, Te, Se 또는 이의 혼합물을 포함하는 비선형 스위칭 소자
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제 1 항에 있어서,상기 칼코게나이드계 박막은, As-Te, Ge-Te, As-Te-Ge, As-Se, Ge-Se, 또는 As-Se-Ge 화합물을 포함하는 비선형 스위칭 소자
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제 1 항에 있어서,상기 결정화된 칼코게나이드 재료는 상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이를 연결하도록 정렬되는 비선형 스위칭 소자
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제 1 항에 있어서,상기 칼코게나이드계 박막은 하기 화학식 1에 따른 조성비를 갖는 화합물을 포함하는 비선형 스위칭 소자;[화학식 1]AsxTey (0 003c# x ≤1, 0 003c# y/x ≤ 4 )
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제 1 항에 있어서,상기 칼코게나이드계 박막은 하기 화학식 2에 따른 조성비를 갖는 화합물을 포함하는 비선형 스위칭 소자;[화학식 2]AsxTeyGez(0 003c# x, y 003c# 1 이고, z = 1-x-y)
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제 1 전극을 형성하는 제 1 단계; 상기 제 1 전극 상에 칼코게나이드계 박막을 형성하는 제 2 단계; 및상기 칼코게나이드계 박막 상에 제 2 전극을 형성하는 제 3 단계를 포함하는 비선형 스위치 소자의 제조 방법으로서, 상기 제 2 단계 이후 상기 제 3 단계 이전에, 상기 칼코게나이드계 박막을 열처리하여 상기 칼코게나이드계 박막의 적어도 일부에 결정화된 칼코게나이드 재료를 형성하는 단계를 포함하거나, 상기 3 단계 이후에, 상기 칼코게나이드계 박막을 열처리하여 상기 칼코게나이드계 박막의 적어도 일부에 결정화된 칼코게나이드 재료를 형성하는 단계를 포함하며,상기 열처리에 의해 결정화된 칼코게나이드 재료 내의 나노 결정들이, 상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이에 비선형 셋 동작과 리셋 동작이 가능한 전도 패스를 제공하도록 정렬되는 비선형 스위치 소자의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 결정화된 칼코게나이드 재료를 형성하는 단계는 상기 칼코게나이드계 박막을 비활성 분위기에서 180 ℃ 내지 400 ℃의 범위 내에서 열처리하는 비선형 스위치 소자의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 칼코게나이드 재료는, Te, Se 및 또는 이의 혼합물을 포함하는 비선형 스위치 소자의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 칼코게나이드계 박막은 As-Te, Ge-Te, As-Te-Ge, As-Se, Ge-Se, 또는 As-Se-Ge 을 포함하는 비선형 스위칭 소자의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 결정화된 칼코게나이드 재료를 형성하는 단계는, 상기 칼코게나이드 재료가 상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이를 연결하도록 정렬시키는 비선형 스위칭 소자의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 칼코게나이드계 박막은 하기 화학식 1에 따른 조성비를 갖는 화합물을 포함하는 비선형 스위칭 소자의 제조 방법;[화학식 1]AsxTey (0 003c# x ≤1, 0 003c# y/x ≤ 4 )
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제 7 항에 있어서,상기 칼코게나이드계 박막은 하기 화학식 2에 따른 조성비를 갖는 화합물을 포함하는 비선형 스위칭 소자의 제조 방법;[화학식 2]AsxTeyGez(0 003c# x, y 003c# 1 이고, z = 1-x-y)
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제 1 항 기재의 비선형 스위칭 소자; 및상기 비선형 스위칭 소자에 전기적으로 직렬 연결된 상변화 메모리, 자기메모리, 또는 저항변화 메모리를 구현하기 위한 정보 저장 부재를 포함하고,상기 정보 저장 부재는, 상변화 재료, 가변 저항성 재료, 프로그램 가능한 금속화셀 재료, 자성체 재료 또는 이들의 조합을 포함하는 비휘발성 메모리 소자
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제 14 항에 있어서, 상기 정보 저장 부재는 단일층 또는 복수의 적층 구조체로 형성되는 비휘발성 메모리 소자
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