맞춤기술찾기

이전대상기술

선형 편광을 이용한 표면 플라즈몬 초점 조절 장치 및 방법(APPARATUS AND METHOD FOR SURFACE PLASMON FOCUS CONTROL USING LINEAR POLARIZATION)

  • 기술번호 : KST2017014269
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 선형 편광을 이용한 표면 플라즈몬 초점 조절 장치는 금속층, 금속층의 하부면 방향에서 입사광을 전달하는 광원부, 광원부 및 상기 금속층 사이에서 상기 입사광을 편광시켜 선편광을 생성하는 선형 편광판 및 기 산출된 나노 슬릿의 기준선 간격, 슬릿 각도 및 이격 거리에 기초하여 상기 금속층 표면에 다수의 포물선 형태를 나타내도록 배치되어 생성되며 상기 선편광에 의해 표면 플라즈몬이 여기되는 다수의 나노 슬릿을 포함한다.
Int. CL G02B 6/122 (2016.04.01) G02B 6/126 (2016.04.01) G02B 5/00 (2016.04.01) G02B 7/28 (2016.04.01)
CPC G02B 6/1226(2013.01) G02B 6/1226(2013.01) G02B 6/1226(2013.01) G02B 6/1226(2013.01)
출원번호/일자 1020160024652 (2016.02.29)
출원인 서울대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2017-0101717 (2017.09.06) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.02.29)
심사청구항수 9

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이병호 대한민국 서울특별시 관악구
2 이건열 대한민국 서울특별시 관악구
3 이승열 대한민국 대전광역시 유성구
4 윤한식 대한민국 서울특별시 관악구
5 박현수 대한민국 서울특별시 노원구
6 김준수 대한민국 인천광역시 연수구
7 이규근 대한민국 서울특별시 관악구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인 신지 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **, *층 ***호실(역삼동, 청원빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 서울대학교 산학협력단 서울특별시 관악구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.02.29 수리 (Accepted) 1-1-2016-0199716-37
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2017.02.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.03.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2017-0046864-92
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.07.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0489821-84
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.09.13 수리 (Accepted) 1-1-2017-0891372-13
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.09.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0891373-58
7 등록결정서
Decision to grant
2018.01.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0052459-66
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2020-5265458-48
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
금속층; 상기 금속층의 일면 방향에서 입사광을 전달하는 광원부;상기 광원부 및 상기 금속층 사이에서 상기 입사광을 편광시켜 선편광을 생성하는 선형 편광판; 및기 산출된 나노 슬릿의 기준선 간격, 슬릿 각도 및 이격 거리에 기초하여 상기 금속층 표면에 다수의 포물선 형태를 나타내도록 배치되어 생성되며, 상기 선편광에 의해 표면 플라즈몬이 여기되는 다수의 나노 슬릿;을 포함하며,상기 선형 편광판의 회전에 의해 상기 표면 플라즈몬의 초점이 이동되며,상기 표면 플라즈몬의 초점의 위치, 이동 범위 및 방향은 나노 슬릿의 기준선 간격, 슬릿 각도 및 이격 거리에 의해 결정되는 선형 편광을 이용한 표면 플라즈몬 초점 조절 장치
2 2
삭제
3 3
금속층; 상기 금속층의 일면 방향에서 입사광을 전달하는 광원부;상기 광원부 및 상기 금속층 사이에서 상기 입사광을 편광시켜 선편광을 생성하는 선형 편광판; 및기 산출된 나노 슬릿의 기준선 간격, 슬릿 각도 및 이격 거리에 기초하여 상기 금속층 표면에 다수의 포물선 형태를 나타내도록 배치되어 생성되며, 상기 선편광에 의해 표면 플라즈몬이 여기되는 다수의 나노 슬릿;을 포함하며,상기 선형 편광판의 회전에 의해 상기 표면 플라즈몬의 초점이 이동되며,상기 나노 슬릿의 가로 및 세로의 비율은 모두 동일한 것을 특징으로 하는 선형 편광을 이용한 표면 플라즈몬 초점 조절 장치
4 4
금속층; 상기 금속층의 일면 방향에서 입사광을 전달하는 광원부;상기 광원부 및 상기 금속층 사이에서 상기 입사광을 편광시켜 선편광을 생성하는 선형 편광판; 및기 산출된 나노 슬릿의 기준선 간격, 슬릿 각도 및 이격 거리에 기초하여 상기 금속층 표면에 다수의 포물선 형태를 나타내도록 배치되어 생성되며, 상기 선편광에 의해 표면 플라즈몬이 여기되는 다수의 나노 슬릿;을 포함하며,상기 선형 편광판의 회전에 의해 상기 표면 플라즈몬의 초점이 이동되며,동일한 기준선에 위치하는 둘 이상의 나노 슬릿은 모두 동일한 슬릿 각도를 가지는 것을 특징으로 하는 선형 편광을 이용한 표면 플라즈몬 초점 조절 장치
5 5
금속층; 상기 금속층의 일면 방향에서 입사광을 전달하는 광원부;상기 광원부 및 상기 금속층 사이에서 상기 입사광을 편광시켜 선편광을 생성하는 선형 편광판; 및기 산출된 나노 슬릿의 기준선 간격, 슬릿 각도 및 이격 거리에 기초하여 상기 금속층 표면에 다수의 포물선 형태를 나타내도록 배치되어 생성되며, 상기 선편광에 의해 표면 플라즈몬이 여기되는 다수의 나노 슬릿;을 포함하며,상기 선형 편광판의 회전에 의해 상기 표면 플라즈몬의 초점이 이동되며,동일한 기준선에 위치하는 나노 슬릿 사이의 슬릿 간격은 상기 입사광에 의해 여기되는 표면 플라즈몬 파장의 절반 미만인 것을 특징으로 하는 선형 편광을 이용한 표면 플라즈몬 초점 조절 장치
6 6
금속층; 상기 금속층의 일면 방향에서 입사광을 전달하는 광원부;상기 광원부 및 상기 금속층 사이에서 상기 입사광을 편광시켜 선편광을 생성하는 선형 편광판; 및기 산출된 나노 슬릿의 기준선 간격, 슬릿 각도 및 이격 거리에 기초하여 상기 금속층 표면에 다수의 포물선 형태를 나타내도록 배치되어 생성되며, 상기 선편광에 의해 표면 플라즈몬이 여기되는 다수의 나노 슬릿;을 포함하며,상기 선형 편광판의 회전에 의해 상기 표면 플라즈몬의 초점이 이동되며,나노 슬릿과 기준선 사이의 이격 거리는 표면 플라즈몬의 동작 파장 이하인 것을 특징으로 하는 선형 편광을 이용한 표면 플라즈몬 초점 조절 장치
7 7
금속층; 상기 금속층의 일면 방향에서 입사광을 전달하는 광원부;상기 광원부 및 상기 금속층 사이에서 상기 입사광을 편광시켜 선편광을 생성하는 선형 편광판; 및기 산출된 나노 슬릿의 기준선 간격, 슬릿 각도 및 이격 거리에 기초하여 상기 금속층 표면에 다수의 포물선 형태를 나타내도록 배치되어 생성되며, 상기 선편광에 의해 표면 플라즈몬이 여기되는 다수의 나노 슬릿;을 포함하며,상기 선형 편광판의 회전에 의해 상기 표면 플라즈몬의 초점이 이동되며,상기 나노 슬릿의 이격 거리는 표면 플라즈몬의 복소 진폭의 크기, 슬릿 각도 및 선편광의 각도에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는 선형 편광을 이용한 표면 플라즈몬 초점 조절 장치
8 8
금속층; 상기 금속층의 일면 방향에서 입사광을 전달하는 광원부;상기 광원부 및 상기 금속층 사이에서 상기 입사광을 편광시켜 선편광을 생성하는 선형 편광판; 및기 산출된 나노 슬릿의 기준선 간격, 슬릿 각도 및 이격 거리에 기초하여 상기 금속층 표면에 다수의 포물선 형태를 나타내도록 배치되어 생성되며, 상기 선편광에 의해 표면 플라즈몬이 여기되는 다수의 나노 슬릿;을 포함하며,상기 선형 편광판의 회전에 의해 상기 표면 플라즈몬의 초점이 이동되며,상기 나노 슬릿의 기준선 간격은 표면 플라즈몬의 유효 파장의 길이와 동일한 것을 특징으로 하는 선형 편광을 이용한 표면 플라즈몬 초점 조절 장치
9 9
제1항의 선형 편광을 이용한 표면 플라즈몬 초점 조절 장치를 이용한 초점 조절 방법에 있어서,산출된 기준선 간격, 슬릿 각도 및 이격 거리에 기초하여 금속층에 다수의 나노 슬릿을 배열하는 단계;상기 금속층에 형성된 나노 슬릿에 선편광을 입사하는 단계; 및선형 편광판을 회전시켜 표면 플라즈몬의 초점을 조절하는 단계;를 포함하는 선형 편광을 이용한 표면 플라즈몬 초점 조절 방법
10 10
제9항에 있어서,상기 표면 플라즈몬의 초점의 위치, 이동 범위 및 방향은 나노 슬릿의 기준선 간격, 슬릿 각도 및 이격 거리에 의해 결정되는 선형 편광을 이용한 표면 플라즈몬 초점 조절 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 서울대학교 리더연구자지원 액티브 플라즈모닉스 응용 시스템 연구단