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다공성 기재의 표면에, 친수성 단일중합체의 적층과 그래프트 공중합체의 적층을 교대로 반복하여 친수성 단일중합체와 그래프트 공중합체의 교대 적층체를 형성하는 단계;상기 친수성 단일중합체와 그래프트 공중합체의 교대 적층체의 표면에, 친수성 단일중합체의 적층과 초분자 구조 화합물의 적층을 교대로 반복하여 친수성 단일중합체와 초분자 구조 화합물의 교대 적층체가 형성된 고분자 다층막을 제공하는 단계; 및상기 고분자 다층막을 어닐링하여 미세 상분리된 고분자막을 형성하는 단계를 포함하는, 나노기공 멤브레인의 제조 방법
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다공성 기재의 표면에, 친수성 단일중합체의 적층과 그래프트 공중합체의 적층을 교대로 반복하여 친수성 단일중합체와 그래프트 공중합체의 교대 적층체가 형성된 고분자 다층막을 제공하는 단계;상기 고분자 다층막을 어닐링하여 미세 상분리된 고분자막을 형성하는 단계; 및 상기 고분자막의 표면에, 친수성 단일중합체의 적층과 초분자 구조 화합물의 적층을 교대로 반복하여 친수성 단일중합체와 초분자 구조 화합물의 교대 적층체를 형성하는 단계를 포함하는, 나노기공 멤브레인의 제조 방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 고분자막에서 친수성 단일 중합체를 제거하여 기공을 형성하는 단계를 더 포함하는, 나노기공 멤브레인의 제조 방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 친수성 단일중합체와 초분자 구조 화합물의 교대 적층체는 아래의 일반식 2로 표시되는 나노기공 멤브레인의 제조 방법:[일반식 2](C/D)nBL상기 식에서 C는 단일 중합체의 적층으로 형성된 층을 표시하고, D는 초분자 구조 화합물 중 하나인 사이클로덱스트린의 적층으로 형성된 층을 표시하며, C/D는 C와 D의 바이레이어(bilayer,BL)로 형성된 반복단위를 표시하고, n은 교대 적층체 내에 포함된 상기 반복단위 바이레이어의 적층 횟수를 표시하며, 상기 n은 2 내지 100이다
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 초분자 구조 화합물은 크라운 에테르(crown ether), 싸이클로덱스트린(cyclodextrin), 로텍산(rotaxan), 제올라이트(zeolite), 포르피린(porphyrin), 쿠커비투릴(cucurbituril)로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상인 나노기공 멤브레인의 제조 방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 친수성 단일 중합체는 폴리에틸렌옥사이드, 폴리에틸렌글리콜, 폴리아크릴산 및 폴리비닐 알코올로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상인 나노기공 멤브레인의 제조 방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 그래프트 공중합체는,단일고분자사슬에 그래프트 고분자가 연결된 경우로, 폴리에틸렌-g-폴리아크릴산, 폴리에틸렌-g-폴리에틸렌글리콜, 폴리이미드-g-폴리아크릴산 및 폴리스티렌-g-폴리아크릴산 등으로 구성된 군 또는공중합고분자사슬의 한 고분자에 그래프트고분자가 연결된 경우로, 폴리에틸렌-co-폴리아크릴산-g-폴리에틸렌글리콜(폴리에틸렌-co-폴리아크릴산-g-폴리에틸렌옥사이드), 폴리이미드-co-폴리아크릴산-g-폴리에틸렌글리콜, 폴리스티렌-co-폴리아크릴산-g-폴리에틸렌옥사이드로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상인 나노기공 멤브레인의 제조 방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 다공성 기재는 알루미나, 실리콘 웨이퍼 또는 다공성 고분자막인 나노기공 멤브레인의 제조 방법
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다공성 기재; 상기 다공성 기재의 표면에 형성된, 친수성 단일중합체와 그래프트 공중합체의 교대 적층체; 및상기 친수성 단일중합체와 그래프트 공중합체의 교대 적층체의 표면에 형성된, 친수성 단일중합체와 초분자 구조 화합물의 교대 적층체;를 포함하는, 나노기공 멤브레인
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제11항에 있어서, 상기 초분자 구조 화합물은 크라운 에테르(crown ether), 싸이클로덱스트린(cyclodextrin), 로텍산(rotaxan), 제올라이트(zeolite), 포르피린(porphyrin), 쿠커비투릴(cucurbituril)로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상인 나노기공 멤브레인
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제11항에 있어서, 상기 친수성 단일 중합체는 폴리에틸렌옥사이드, 폴리에틸렌글리콜, 폴리아크릴산 및 폴리비닐 알코올로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상인 나노기공 멤브레인
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제11항에 있어서, 상기 그래프트 공중합체는단일고분자사슬에 그래프트 고분자가 연결된 경우로, 폴리에틸렌-g-폴리아크릴산, 폴리에틸렌-g-폴리에틸렌글리콜, 폴리이미드-g-폴리아크릴산 및 폴리스티렌-g-폴리아크릴산 등으로 구성된 군 또는공중합고분자사슬의 한 고분자에 그래프트고분자가 연결된 경우로, 폴리에틸렌-co-폴리아크릴산-g-폴리에틸렌글리콜(폴리에틸렌-co-폴리아크릴산-g-폴리에틸렌옥사이드), 폴리이미드-co-폴리아크릴산-g-폴리에틸렌글리콜, 폴리스티렌-co-폴리아크릴산-g-폴리에틸렌옥사이드 로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상인 나노기공 멤브레인
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제11항에 있어서, 상기 다공성 기재는 알루미나, 실리콘 웨이퍼 또는 다공성 고분자막인 나노기공 멤브레인
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제11항의 나노기공 멤브레인을 이용한 미세유체소자
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