| 1 |
1
고정형 접촉 스위치와;인가된 가속도가 임계 가속도를 초과할 경우, 상기 고정형 접촉 스위치에 접촉되어 스위치를 온(On) 시키는 주 질량체와;인가된 가속도가 0이 될 경우, 주 질량체에 복원력을 인가하여 상기 고정형 접촉 스위치로부터 주 질량체가 이격되도록 하여 스위치를 오프(Off) 시키는 보조 질량체를;포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 이중 질량체 구조의 가속도 스위치
|
| 2 |
2
제 1 항에 있어서,상기 보조 질량체가:고정형 접촉 스위치에 주 질량체가 접촉시 발생하는 점착 현상을 극복할 수 있는 복원력을 주 질량체에 인가하는 것을 특징으로 하는 이중 질량체 구조의 가속도 스위치
|
| 3 |
3
제 2 항에 있어서,상기 보조 질량체가:보조 질량체의 무게에 따라, 고정형 접촉 스위치로부터 주 질량체가 이격되는 속도가 결정되는 것을 특징으로 하는 이중 질량체 구조의 가속도 스위치
|
| 4 |
4
제 1 항에 있어서,상기 보조 질량체가:일단에 걸림 돌기를 구비하는 것을 특징으로 하는 이중 질량체 구조의 가속도 스위치
|
| 5 |
5
제 4 항에 있어서,상기 주 질량체가:상기 보조 질량체의 걸림 돌기가 수납되는 수납홈과;상기 수납홈에 수납되는 걸림 돌기가 걸리어 주 질량체에 복원력을 인가하도록 하는 걸림 턱을;구비하는 것을 특징으로 하는 이중 질량체 구조의 가속도 스위치
|
| 6 |
6
제 1 항 내지 제 5 항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 고정형 접촉 스위치와, 주 질량체와, 보조 질량체는:알루미늄 신호선이 패터닝 된 유리 기판에 실리콘 기판을 접합하고, 실리콘 기판을 알루미늄 마스크를 이용해 식각하고, 알루미늄 마스크 부분을 쉐도우 마스크를 이용해 고정형 접촉 스위치와, 주 질량체와 보조 질량체 형상으로 알루미늄을 스퍼터링 증착하여 형성되는 것을 특징으로 하는 이중 질량체 구조의 가속도 스위치
|
| 7 |
7
제 6 항에 있어서,상기 실리콘 기판이:유리 기판에 접합되는 면을 실리콘 식각하여 공간을 형성하고, 형성된 공간에 크롬을 증착하여 형성되는 것을 특징으로 하는 이중 질량체 구조의 가속도 스위치
|
| 8 |
8
실리콘 기판 일면의 일부에 포토 레지스트(PR : Photo Resist)를 도포한 후 식각하여 공간을 형성하는 단계와;실리콘 기판에 형성된 공간에 크롬(Cr)을 증착하고, 포토 레지스트(PR : Photo Resist)를 제거하는 단계와;유리 기판에 알루미늄(Al) 신호선을 패터닝하는 단계와;알루미늄(Al) 신호선이 패터닝된 유리 기판면에 크롬(Cr)이 증착된 공간을 구비한 실리콘 기판면을 양극 접합하는 단계와;양극 접합된 실리콘 기판을 알루미늄(Al) 마스크(Mask)하여 식각하는 단계와;알루미늄 마스크 부분을 쉐도우(Shadow) 마스크(Mask)를 이용해 알루미늄을 스퍼터링 증착하여 이중 질량체 구조의 가속도 스위치를 완성하는 단계를;포함하여 이루어지되,상기 이중 질량체 구조의 가속도 스위치를 완성하는 단계에 의해 완성되는 이중 질량체 구조의 가속도 스위치는:고정형 접촉 스위치와;인가된 가속도가 임계 가속도를 초과할 경우, 상기 고정형 접촉 스위치에 접촉되어 스위치를 온(On) 시키는 주 질량체와;인가된 가속도가 0이 될 경우, 주 질량체에 복원력을 인가하여 상기 고정형 접촉 스위치로부터 주 질량체가 이격되도록 하여 스위치를 오프(Off) 시키는 보조 질량체를;포함하는 것을 특징으로 하는 이중 질량체 구조의 가속도 스위치 제조방법
|
| 9 |
9
제 8 항에 있어서,상기 알루미늄(Al) 신호선을 패터닝하는 단계에서,유리 기판에 리프드-오프(Lift-off) 공정을 이용하여 알루미늄(Al) 신호선을 패터닝하는 것을 특징으로 하는 이중 질량체 구조의 가속도 스위치 제조방법
|
| 10 |
10
제 8 항에 있어서,상기 양극 접합하는 단계에서,CMP(Chemical Mechanical Polishing) 공정을 통해 실리콘 기판의 높이를 조절하는 것을 특징으로 하는 이중 질량체 구조의 가속도 스위치 제조방법
|
