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마이크로 사이즈의 반구형 패턴들; 및상기 반구형 패턴들의 이격공간과 상기 반구형 패턴들 상에 형성된 나노 사이즈의 나노돌기들을 포함하는 광학필름
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제1항에 있어서, 상기 반구형 패턴들은 규칙적인 배열을 가지는 것을 특징으로 하는 광학필름
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제1항에 있어서, 상기 나노돌기들은 상기 반구형 패턴들의 표면 및 상기 반구형 패턴들 사이의 이격공간의 표면으로부터 함몰된 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 광학필름
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제1항에 있어서, 상기 나노돌기들의 외곽선은 상기 반구형 패턴의 형상을 이루는 것을 특징으로 하는 광학필름
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제1항에 있어서, 상기 반구형 패턴들 및 상기 나노돌기들은 동일 물질로 광경화성을 가지는 것을 특징으로 하는 광학필름
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제5항에 있어서, 상기 반구형 패턴들 및 상기 나노돌기들은 PDMS, PFPE, PTFE 또는 Norland Optical Adhesive를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학필름
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제1항에 있어서, 상기 반구형 패턴들 및 상기 나노돌기들의 표면은 불화물 계열의 발수제로 코팅된 것을 특징으로 하는 광학필름
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기저층 상에 코팅층을 형성하는 단계;상기 코팅층 상에 복제용 기판을 도입하여 압착하는 단계; 및상기 코팅층에 자외선을 조사하여 상기 코팅층을 경화시키는 단계를 포함하는 광학필름의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 복제용 기판은 표면으로부터 반구형으로 함몰된 반구형 함몰부와 상기 반구형 함몰부를 포함하는 복제용 기판의 전면에 요철형상으로 형성된 전사 나노돌기들를 가지는 것을 특징으로 하는 광학필름의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 복제용 기판을 도입하여 압착하는 단계 이전에, 상기 복제용 기판의 표면에 저표면 에너지층을 형성하여 상기 복제용 기판과 상기 경화된 코팅층의 표면 에너지를 감소시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학필름의 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 저표면 에너지층은 fluorinated acrylic copolymer, 1H,1H,2H,2H-heptadecafluorodecyl modified polyhedral oligomeric silsesquioxane(fluoroPOSS), PTFE amorphous fluoropolymer, fluorinated monoalkylphosphates, n-perfluoroeicosane, tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyltrichlorosilane, fluorinated 3,4-ethylenedioxypyrrole(EDOP) monomer 또는 semifluorinated silane ((tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl)-1-trichlorosilane)을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학필름의 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 복제용 기판의 압착과 자외선의 조사에 의해 상기 경화된 코팅층은 상기 반구형 함몰부의 역상인 반구형 패턴과 상기 전사 나노돌기의 역상인 나노돌기를 가지는 것을 특징으로 하는 광학필름의 제조방법
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규칙적으로 배열된 반구형 패턴들과 전면에 형성된 나노돌기들을 가지는 마스터 기판을 형성하는 단계;상기 마스터 기판 상에 광투과성을 가지는 몰드 재료를 도포하는 단계; 및상기 몰드 재료를 경화시켜 상기 반구형 패턴의 역상인 반구형 함몰부와 상기 나노돌기들의 역상인 전사 나노돌기들를 가지는 복제용 기판을 형성하는 단계를 포함하는 광학필름 복제용 기판의 제조방법
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제13항에 있어서, 상기 마스터 기판을 형성하는 단계는,기판 상에 규칙적인 배열을 가지는 반구형 패턴들을 형성하는 단계;상기 반구형 패턴 상부 및 상기 반구형 패턴들 사이의 이격공간에 나소 사이즈의 나노 구슬들을 형성하는 단계; 및상기 나노 구슬들을 식각 마스크로 이용한 식각을 통해 상기 반구형 패턴과 상기 반구형 패턴들 사이의 이격공간에 상기 나노돌기들을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학필름 복제용 기판의 제조방법
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제14항에 있어서, 상기 반구형 패턴들을 형성하는 단계는,기판 상에 포토레지스트 패턴들을 형성하는 단계;상기 포토레지스트 패턴들을 리플로우 하여 반구형 마스크 패턴들을 형성하는 단계; 및상기 반구형 마스크 패턴에 대한 식각을 통해 상기 기판 상에 대략 반구형으로 돌출된 상기 반구형 패턴들을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학필름 복제용 기판의 제조방법
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제14항에 있어서, 상기 나노 구슬들을 형성하는 단계는,상기 나노 구슬들을 유기 용매에 투입하여 현탁액을 형성하는 단계;물에 상기 반구형 패턴들이 형성된 기판을 침지하고, 상기 물에 상기 현탁액을 투입하는 단계; 및상기 물에 침지된 상기 기판을 서서히 이탈시켜 상기 반구형 패턴들과 상기 반구형 패턴들 사이의 이격공간에 상기 나노 구슬들을 부착시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학필름 복제용 기판의 제조방법
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제16항에 있어서, 상기 광학필름 복제용 기판의 제조방법은,상기 현탁액의 투입과 함께 계면 활성제가 투입되는 것을 특징으로 하는 광학필름 복제용 기판의 제조방법
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제17항에 있어서, 상기 계면 활성제는 dodecyl sulfate 또는 Triton X-100을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학필름 복제용 기판의 제조방법
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제13항에 있어서, 상기 마스터 기판을 형성하는 단계 이후에,상기 마스터 기판 상에 저표면 에너지층을 형성하여 상기 마스터 기판과 상기 복제용 기판 사이의 접착력을 감소시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학필름 복제용 기판의 제조방법
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제19항에 있어서, 상기 저표면 에너지층은 fluorinated acrylic copolymer, 1H,1H,2H,2H-heptadecafluorodecyl modified polyhedral oligomeric silsesquioxane(fluoroPOSS), PTFE amorphous fluoropolymer, fluorinated monoalkylphosphates, n-perfluoroeicosane, tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyltrichlorosilane, fluorinated 3,4-ethylenedioxypyrrole(EDOP) monomer 또는 semifluorinated silane ((tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl)-1-trichlorosilane)을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학필름 복제용 기판의 제조방법
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제13항에 있어서, 상기 복제용 기판을 형성하는 단계 이후에, 상기 복제용 기판을 상기 마스터 기판으로부터 이탈시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학필름 복제용 기판의 제조방법
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