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전기적으로 절연된 적어도 두 개의 전극을 플라즈마에 노출시키고, 이들 두 개의 전극 사이에 특정주파수를 지닌 전위차 또는 전압을 가하여 전극들 사이에 정전용량(capacitance)을 생성시키는 단계;상기 전극들 사이에 생성되는 정전용량이 상기 플라즈마에 의해 변화되는 변화량을 측정하여 출력하는 단계;상기 출력된 정전용량 변화량 정보로부터 플라즈마 밀도를 계산하여 출력하는 단계를 포함하는 플라즈마 밀도 측정 방법
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제1항에 있어서, 상기 적어도 두 개의 전극은 동일한 면 위에 서로 절연 배치된 공면전극(coplanar electrode)인, 플라즈마 밀도 측정 방법
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제2항에 있어서, 상기 공면전극의 위에 유전체가 형성되어 있는, 플라즈마 밀도 측정 방법
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플라즈마 밀도를 측정하기 위한 장치로서, 플라즈마에 노출되며, 서로 전기적으로 절연된 적어도 두 개의 전극을 포함하며, 이들 전극 사이에 특정주파수를 지닌 전위차 또는 전압이 인가되면 이들 전극 간의 전위차 또는 전압에 의해 전극 사이에 정전용량이 생성되도록 하는 탐침, 상기 탐침에서 생성되는 정전용량의 플라즈마에 의한 변화량을 측정하고 그 측정값을 출력하는 측정부, 소프트웨어에 의하여 탐침 제어 정보를 상기 측정부로 보내 상기 탐침의 전기적 상태를 제어하며 상기 측정부로부터 정전용량 측정값을 수신하여 플라즈마 밀도를 계산하고 그 값을 출력하는 제어부를 포함하는, 플라즈마 밀도 측정 장치
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제4항에 있어서, 상기 탐침은 적어도 두 개의 전극이 동일한 면 위에 서로 절연 배치된 공면전극을 포함하는, 플라즈마 밀도 측정 장치
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제5항에 있어서, 상기 공면전극 위에 유전체가 형성되어 있는, 플라즈마 밀도 측정 장치
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제4항에 있어서, 상기 측정부는 탐침에서 발생한 정전용량을 측정하여 측정값을 상기 제어부로 전달하는 부분을 포함하는, 플라즈마 밀도 측정 장치
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제4항에 있어서, 상기 측정부는 탐침에 연결되어서 제어부에서 전달받은 탐침 제어 정보를 통해 탐침을 제어하는 부분을 포함하는, 플라즈마 밀도 측정 장치
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제4항에 있어서, 상기 제어부는 범용 컴퓨터에 설치된 제어 소프트웨어인, 플라즈마 밀도 측정 장치
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청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 기재된 방법 또는 청구항 4 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 기재된 장치를 이용하여 플라즈마 밀도를 측정사기 위하여 플라즈마에 노출되는 서로 전기적으로 절연된 적어도 두 개의 전극을 포함하는 탐침으로서, 상기 전기적으로 절연된 적어도 두 개의 전극 사이에 전위차를 가하여 이들 전극 간의 전위차에 의해 전극 사이에 정전용량이 생성되도록 하는, 플라즈마 밀도 측정용 탐침
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제10항에 있어서, 상기 탐침은 적어도 두 개의 전극이 동일한 면 위에 서로 절연 배치된 공면전극을 포함하는, 플라즈마 밀도 측정용 탐침
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제11항에 있어서, 상기 공면전극 위에 유전체가 형성되어 있는, 플라즈마 밀도 측정용 탐침
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