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전극 상에 형성된 프라이밍 층(priming layer); 및상기 프라이밍 층 상에 형성되며, 제 1 고분자 층 및 제 2 고분자 층이 순차적으로 적층된 고분자 다중층을 포함하는, 고분자 막에 의하여 표면-코팅된 전극
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제 1 항에 있어서, 상기 제 1 고분자 층은, 폴리에틸렌 옥사이드, 폴리아릴아민 하이드로클로라이드, 폴리에틸렌이민, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 고분자를 포함하는 것이고, 상기 제 2 고분자 층은, 폴리아크릴산, 폴리메타크릴산, 폴리비닐 알코올, 그래핀 옥사이드, 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 고분자를 포함하는 것인, 고분자 막에 의하여 표면-코팅된 전극
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제 1 항에 있어서,상기 프라이밍 층은, 폴리아릴아민 하이드로클로라이드, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌이민, 폴리메타크릴산, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 고분자를 포함하는 것인, 고분자 막에 의하여 표면-코팅된 전극
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제 1 항에 있어서, 상기 전극은 황 전극인 것인, 고분자 막에 의하여 표면-코팅된 전극
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제 1 항에 있어서,이차 전지용 전극으로서 사용되는, 고분자 막에 의하여 표면-코팅된 전극
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제 4 항에 있어서,상기 고분자 다중층은 상기 황 전극의 작동 시 폴리설파이드 음이온의 전해질로의 용출을 방지하는 것인, 고분자 막에 의하여 표면-코팅된 전극
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7
제 1 항에 있어서,상기 전극은 리튬염을 추가 포함하는, 고분자 막에 의하여 표면-코팅된 전극
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전극 상에 프라이밍 층을 형성하는 단계; 및상기 프라이밍 층 상에 제 1 고분자 층과 제 2 고분자 층을 순차적으로 적층하여 고분자 다중층을 형성하는 단계를 포함하는, 고분자 막에 의하여 표면-코팅된 전극의 제조 방법
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제 8 항에 있어서,상기 제 1 고분자 층은, 폴리에틸렌 옥사이드, 폴리아릴아민 하이드로클로라이드, 폴리에틸렌이민, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 고분자를 포함하는 것이고, 상기 제 2 고분자 층은, 폴리아크릴산, 폴리메타크릴산, 폴리비닐 알코올, 그래핀 옥사이드, 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 고분자를 포함하는 것인, 고분자 막에 의하여 표면-코팅된 전극의 제조 방법
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제 8 항에 있어서,상기 프라이밍 층은 폴리아릴아민 하이드로클로라이드, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌이민, 폴리메타크릴산, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 고분자를 포함하는 것인, 고분자 막에 의하여 표면-코팅된 전극의 제조 방법
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11
제 8 항에 있어서,상기 전극은 황 전극인 것인, 고분자 막에 의하여 표면-코팅된 전극의 제조 방법
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제 8 항에 있어서,상기 제 1 고분자 층 및 상기 제 2 고분자 층은 리튬염을 추가로 포함하는 것인, 고분자 막에 의하여 표면-코팅된 전극의 제조 방법
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제 8 항에 있어서,상기 고분자 다중층을 형성하는 단계는 pH 2 내지 pH 8
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제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 따른 고분자 막에 의하여 표면-코팅된 전극을 포함하는, 이차 전지
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제 14 항에 있어서, 상기 이차 전지는 리튬-황 이차 전지인, 이차 전지
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