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광원부가 다층 박막 거울에 EUV(Extreme Ultraviolet) 광을 조사하고, 검출부가 상기 다층 박막 거울로부터 반사된 제1 EUV 광을 수집 및 측정하는 단계;상기 다층 박막 거울 상에 펠리클(pellicle)을 배치하는 단계;상기 광원부가 상기 펠리클에 상기 EUV 광을 조사하고, 상기 검출부가 상기 펠리클을 투과한 후 상기 다층 박막 거울에 반사되어 상기 펠리클을 재투과하는 제2 EUV 광을 수집 및 측정하는 단계; 및상기 제1 및 제2 EUV 광을 통해 상기 펠리클의 투과도를 산출하여 상기 펠리클의 불량 여부를 평가하는 단계를 포함하되,상기 펠리클을 상기 다층 박막 거울 상에 위치한 펠리클 스테이지(pellicle stage) 상에, 상기 다층 박막 거울과 이격 배치시켜, 상기 펠리클의 접촉으로 인한 상기 다층 박막 거울의 오염 및 손상을 최소화하는 펠리클의 검사 방법
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제1 항에 있어서, 상기 펠리클 스테이지는,상기 다층 박막 거울의 제1 및 제2 측면(sidewall) 상에 배치되고, 서로 마주보며, 제1 방향 및 상기 제1 방향에 직각이고 상기 제1 및 제2 측면의 법선 방향과 평행한 제2 방향으로 연장하며, 상기 제1 및 제2 방향에 직각인 제3 방향으로 이동 가능한 제1 및 제2 스테이지;상기 제1 스테이지의 상부면에서 상기 제2 스테이지를 향하여 상기 제2 방향으로 연장하고, 상기 제1 방향으로 서로 이격되고, 상기 펠리클과 직접 접촉(directly contact)하는 제1 및 제2 지지부; 및상기 제2 스테이지의 상부면에서 상기 제1 스테이지를 향하여 상기 제2 방향으로 연장하고, 상기 제1 방향으로 서로 이격되고, 상기 펠리클과 직접 접촉하는 제3 및 제4 지지부를 포함하는 펠리클의 검사 방법
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제2 항에 있어서, 상기 제1 내지 제4 지지부들은 상기 제1 및 제2 스테이지 상에서 상기 제1 방향으로 이동되어, 상기 제1 및 제2 지지부들 사이의 간격 및 상기 제3 및 제4 지지부들 사이의 간격이 조절되고, 상기 제1 내지 제4 지지부들은 상기 제1 및 제2 스테이지 상에서 상기 제2 방향으로 이동되어, 상기 제1 및 제3 지지부들 사이의 간격 및 상기 제2 및 제4 지지부들 사이의 간격이 조절되는 것을 포함하는 펠리클의 검사 방법
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제3 항에 있어서, 상기 다층 박막 거울과 상기 펠리클 사이의 간격은, 상기 제1 및 제2 스테이지가 상기 제3 방향으로 이동되는 것에 따라 조절되고,상기 펠리클의 크기에 따라 상기 제1 및 제2 지지부들 사이의 간격, 상기 제3 및 제4 지지부들 사이의 간격, 상기 제1 및 제3 지지부들 사이의 간격, 및 상기 제2 및 제4 지지부들 사이의 간격이 조절되는 것을 포함하는 펠리클의 검사 방법
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제4 항에 있어서, 상기 다층 박막 거울과 상기 펠리클 사이의 간격은, 0
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제1 항에 있어서, 상기 EUV 광의 파장은 13
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제1 항에 있어서,상기 다층 박막 거울 및 상기 펠리클에 조사되는 상기 EUV 광의 입사각은 6°인 것을 포함하는 펠리클의 검사 방법
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펠리클에 EUV 광을 조사하기 위한 광원부;상기 펠리클을 투과한 상기 EUV 광을 반사시키는 다층 박막 거울; 및상기 다층 박막 거울로부터 반사된 후, 상기 펠리클을 재투과한 상기 EUV 광을 수집 및 측정하는 검출부를 포함하되,상기 다층 박막 거울 상에 상기 펠리클을 이격 배치하기 위해, 상기 펠리클을 지지하는 펠리클 스테이지를 포함하는 펠리클 검사 장치
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제8 항에 있어서, 상기 펠리클 스테이지는,상기 다층 박막 거울의 제1 및 제2 측면(sidewall) 상에 배치되고, 서로 마주보며, 제1 방향 및 상기 제1 방향에 직각이고 상기 제1 및 제2 측면의 법선 방향과 평행한 제2 방향으로 연장하며, 상기 제1 및 제2 방향에 직각인 제3 방향으로 이동 가능한 제1 및 제2 스테이지;상기 제1 스테이지의 상부면에서 상기 제2 스테이지를 향하여 상기 제2 방향으로 연장하고, 상기 제1 방향으로 서로 이격되고, 상기 펠리클과 직접 접촉(directly contact)하는 제1 및 제2 지지부; 및상기 제2 스테이지의 상부면에서 상기 제1 스테이지를 향하여 상기 제2 방향으로 연장하고, 상기 제1 방향으로 서로 이격되고, 상기 펠리클과 직접 접촉하는 제3 및 제4 지지부를 포함하는 펠리클 검사 장치
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제9 항에 있어서, 상기 제1 내지 제4 지지부들은 상기 제1 및 제2 스테이지 상에서 상기 제1 방향으로 이동되어, 상기 제1 및 제2 지지부들 사이의 간격 및 상기 제3 및 제4 지지부들 사이의 간격이 조절되고, 상기 제1 내지 제4 지지부들은 상기 제1 및 제2 스테이지 상에서 상기 제2 방향으로 이동되어, 상기 제1 및 제3 지지부들 사이의 간격 및 상기 제2 및 제4 지지부들 사이의 간격이 조절되는 것을 포함하는 펠리클 검사 장치
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제10 항에 있어서, 상기 다층 박막 거울과 상기 펠리클 사이의 간격은, 상기 제1 및 제2 스테이지가 상기 제3 방향으로 이동되는 것에 따라 조절되고,상기 펠리클의 크기에 따라 상기 제1 및 제2 지지부들 사이의 간격, 상기 제3 및 제4 지지부들 사이의 간격, 상기 제1 및 제3 지지부들 사이의 간격, 및 상기 제2 및 제4 지지부들 사이의 간격이 조절되는 것을 포함하는 펠리클 검사 장치
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제11 항에 있어서, 상기 다층 박막 거울과 상기 펠리클 사이의 간격은, 0
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제8 항에 있어서, 상기 광원부로부터 상기 펠리클에 조사되는 상기 EUV 광의 파장은 13
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제8 항에 있어서,상기 광원부로부터 상기 펠리클로 조사되는 상기 EUV 광의 경로, 및 상기 펠리클로부터 상기 검출부로 반사되는 상기 EUV 광의 경로에, 상기 EUV 광의 경로 조절을 위한 광학 렌즈를 더 포함하는 펠리클 검사 장치
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