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에폭시 수지;제1 용질;제2 용질; 경화제를 포함하며,상기 제1 용질 및 제2 용질의 중량비는 100:1 내지 2:1이며,상기 제1 용질 및 제2 용질은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 2,5-디페닐옥사졸(diphenyloxazole)(PPO), 파라 테르페닐(PT), 4-비스(2-메틸스티릴)벤젠(4-bis(2-Methylstyryl)benzene)(bis-MSB), P-터페닐(P-terphenyl) 및 1,4-비스[5-페닐-2-옥사졸]벤젠(POPOP), 안트라센(anthracene), 스틸벤(stilbene), 톨란(tolan), 2-(4-바이페닐일)-5-페닐-옥사졸(BPO), 2-페닐-5-(4-바이페닐일)-1,3,4-옥사이디아졸(PBD), 2-(1-나프틸)-5-페닐옥사졸(α-NPO), 1,4-디-(4-메틸-5-페닐-2-옥사졸일)-벤젠(디메틸-POPOP), 1,4-비스-(2-메틸스틸릴(methylstyryl))벤젠(bis-MSB)로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상을 포함하는 플라스틱 섬광체로서,상기 플라스틱 섬광체는 베타선 방출 핵종의 에너지를 구분하여 측정하도록두께가 1 내지 1
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제 1항에 있어서,상기 제1 용질 및 제2 용질의 중량비는 30:1 내지 10:1인 플라스틱 섬광체
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제 1항에 있어서,상기 에폭시 수지는 비스페놀-에이형(Bisphenol-A형) 에폭시 수지, 비스페놀-에프형(Bisphenol-F형) 에폭시 수지, 유브이(UV) 경화형 에폭시 수지, 저온 경화형 에폭시 수지, 난연성 에폭시, 노볼락형, 다관능형 아민 에폭시 및 사이클로알리파틱으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상인 플라스틱 섬광체
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삭제
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삭제
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1) 에폭시 수지, 제1 용질 및 제2 용질을 혼합하는 단계;2) 상기 1) 단계의 혼합물에 경화제를 첨가시키는 단계;3) 상기 2) 단계의 혼합물을 15 내지 20℃에서 1시간 내지 3시간 동안 교반하는 단계; 및4) 상기 3) 단계의 교반된 혼합물을 몰드에 넣고 건조 시키는 단계를 포함하며,상기 제1 용질 및 제2 용질은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 2,5-디페닐옥사졸(diphenyloxazole)(PPO), 파라 테르페닐(PT), 4-비스(2-메틸스티릴) benzene(4-bis(2-Methylstyryl) 벤젠)(bis-MSB), P-터페닐(P-terphenyl) 및 1,4-비스[5-페닐-2-옥사졸]벤젠(POPOP), 안트라센(anthracene), 스틸벤(stilbene), 톨란(tolan), 2-(4-바이페닐일)-5-페닐-옥사졸(BPO), 2-페닐-5-(4-바이페닐일)-1,3,4-옥사이디아졸(PBD), 2-(1-나프틸)-5-페닐옥사졸(α-NPO), 1,4-디-(4-메틸-5-페닐-2-옥사졸일)-벤젠(디메틸-POPOP), 1,4-비스-(2-메틸스틸릴(methylstyryl))벤젠(bis-MSB)로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상인 제1항에 따른 플라스틱 섬광체의 제조방법
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제 6항에 있어서,상기 4) 단계의 몰드는 이형제를 포함하는 플라스틱 섬광체의 제조방법
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제 7항에 있어서,상기 이형제는 폴리에틸렌 필름인 플라스틱 섬광체의 제조방법
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제 6항에 있어서,상기 4) 단계의 건조 시키는 단계는,4-1) 85 내지 95℃에서 11 시간 내지 13시간 동안 1차 건조시키는 단계; 4-2) 105 내지 115℃에서 4시간 내지 6시간 동안 2차 건조시키는 단계; 및4-3) 125 내지 135℃에서 1시간 내지 3시간 동안 3차 건조시키는 단계를 포함하는 플라스틱 섬광체의 제조방법
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검출부 및 측정부를 포함하는 베타선 오염도 측정용 검출기에 있어서,상기 검출부는 제1항에 따른 플라스틱 섬광체, 광가이드 및 광증배기를 포함하며,상기 플라스틱 섬광체의 외주면에 광가이드가 연결되고,플라스틱 섬광체와 연결된 광가이드는 광증배기와 연결된 베타선 오염도 측정용 검출기
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제 10항에 있어서,상기 광증배기는 광전자증배관(PMT), 실리콘-광전자증배기(SIPM: Silicon photomultipliers) 및 다중 픽셀 광자 계수기(MPPC: Multi Pixel Photon Counter)로 이루어진 군으로부터 선택되는 베타선 오염도 측정용 검출기
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제10항에 있어서,상기 검출부는 제1 검출부 및 제2 검출부를 포함하며,상기 제1 검출부는 제1 플라스틱 섬광체 및 제2 플라스틱 섬광체를 포함하며,상기 제2 검출부는 제1 플라스틱 섬광체를 포함하는 베타선 오염도 측정용 검출기
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제 12항에 있어서,상기 제1 플라스틱 섬광체의 상부에 제2 플라스틱 섬광체가 적층된 구조를 포함하는 베타선 오염도 측정용 검출기
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제 12항에 있어서,상기 제1 플라스틱 섬광체는 1 내지 1
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제 12항에 있어서,상기 제2 플라스틱 섬광체는 3 내지 3
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제 12항에 있어서,상기 제1 검출부는 제1 광가이드 및 제1 광증배기를 포함하며,상기 제2 검출부는 제2 광가이드 및 제2 광증배기를 포함하는 베타선 오염도 측정용 검출기
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