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유리전이온도(Tg)가 50℃ 이상인 고분자 막; 및상기 고분자 막의 일면에 제벡계수가 ±1㎶/K 이상인 물질이 편재되어 코팅된 박막;을 포함하는 자립형 플렉시블 열전 복합 구조체
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제1항에 있어서, 상기 박막은 n형 또는 p형인 자립형 플렉시블 열전 복합 구조체
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제1항에 있어서, 상기 물질은 유기물, 무기물, 또는 유무기 복합체로부터 선택된 것인 자립형 플렉시블 열전 복합 구조체
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제3항에 있어서,상기 유기물 또는 무기물은 1차원 나노물질인 자립형 플렉시블 열전 복합 구조체
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제3항에 있어서,상기 유기물은 단층벽 또는 다층벽 탄소나노튜브, 그래핀, 폴리아세틸렌계 고분자, 폴리피롤계 고분자, 폴리티오펜계 고분자, 폴리아닐린계 고분자, 폴리페닐렌설파이드계 고분자, 및 폴리페닐렌옥사이드계 고분자로부터 선택된 1종 이상인 자립형 플렉시블 열전 복합 구조체
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제3항에 있어서, 상기 무기물은 전이금속, 희토류 원소, 13족 원소, 14족 원소, 및 16족 원소로부터 선택된 1종 이상의 원소로 구성된 나노입자, 나노와이어, 나노벨트, 나노리본 및 이들의 조합 중에서 선택된 1종 이상인 자립형 플렉시블 열전 복합 구조체
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제1항에 있어서, 상기 물질의 함량은 열전 복합 구조체 100 중량부를 기준으로 하여 0
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제1항에 있어서, 상기 고분자 막은 폴리이미드, 폴리카보네이트, 폴리아크릴레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리비닐리덴, 폴리비닐리덴 플루오라이드, 폴리스티렌, 및 우레탄계 에폭시 수지 중에서 선택된 1종 이상의 고분자를 포함하는 자립형 플렉시블 열전 복합 구조체
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제1항에 있어서, 상기 고분자 막은 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함한 고분자를 포함하는 자립형 플렉시블 열전 복합 구조체:003c#화학식 1003e#상기 화학식 1에서,Y는 2가의 유기기이며,n은 1,000 내지 1,500,000의 정수이다
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제9항에 있어서,상기 화학식 1의 Y가 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-14로 표시되는 유기기 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 자립형 플렉시블 열전 복합 구조체: 003c#화학식 1-1003e# 003c#화학식 1-2003e# 003c#화학식 1-3003e# 003c#화학식 1-4003e# 003c#화학식 1-5003e# 003c#화학식 1-6003e# 003c#화학식 1-7003e# 003c#화학식 1-8003e# 003c#화학식 1-9003e# 003c#화학식 1-10003e# 003c#화학식 1-11003e# 003c#화학식 1-12003e# 003c#화학식 1-13003e# 003c#화학식 1-14003e#
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제1항 및 제10항 중 어느 한 항에 따른 자립형 플렉시블 열전 복합 구조체를 포함하는 열전소자
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기재의 일면에 제벡계수가 ±1㎶/K 이상인 물질 박막을 코팅하는 단계; 상기 물질 박막의 상면에 유리전이온도(Tg)가 50℃ 이상인 고분자 형성용 고분자 전구체 용액을 도포하는 단계; 상기 고분자 형성용 고분자 전구체 용액을 경화시켜 상기 물질 박막의 상면에 고분자 막을 형성하는 단계; 및 상기 물질 박막의 상면에 형성된 고분자 막을 상기 기재로부터 분리하여 제1항에 따른 자립형 플렉시블 열전 복합 구조체를 제조하는 단계;를 포함하는 자립형 플렉시블 열전 복합 구조체의 제조방법
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제12항에 있어서, 상기 제벡계수가 ±1㎶/K 이상인 물질 박막을 코팅하는 단계는 스핀 코팅법, 닥터 블레이드법, 진공 여과 방법, 또는 침강법을 포함하는 자립형 플렉시블 열전 복합 구조체의 제조방법
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제12항에 있어서, 상기 고분자 형성용 고분자 전구체 용액은 하기 화학식 2로 표시되는 고분자 전구체 반복단위를 포함하는 자립형 플렉시블 열전 복합 구조체의 제조방법: 003c#화학식 2003e# 상기 화학식 2에서, Z1은 카르보닐기, 히드록시기, 아미드기, 설포닐기, 또는 이들의 조합으로부터 선택된 1종이며; Z2는 2가의 유기기이며;n1은 1,000 내지 1,500,000의 정수이다
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제12항에 있어서, 상기 고분자 형성용 고분자 전구체 용액을 도포하는 단계는 닥터 블레이드 공정을 포함하는 자립형 플렉시블 열전 복합 구조체의 제조방법
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제12항에 있어서, 상기 물질 박막의 상면에 고분자 막을 형성하는 단계는 상기 고분자 형성용 고분자 전구체 용액을 50℃ 내지 500℃에서 열처리하거나 또는 30분 내지 24시간 동안 가시광선 또는 자외선을 이용한 광처리하여 경화시키는 공정을 포함하는 자립형 플렉시블 열전 복합 구조체의 제조방법
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제12항에 있어서, 상기 물질 박막의 상면에 형성된 고분자 막을 상기 기재로부터 분리하기 전에 수계 용매에 함침하는 단계를 더 포함하는 자립형 플렉시블 열전 복합 구조체의 제조방법
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