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텅스텐 화합물, 티타늄 화합물, 물, 유기용매 및 질산을 혼합하여 졸(sol)을 제조하는 광촉매 졸 제조단계;상기 광촉매 졸을 기판상에 형성하여 막을 형성하는 광촉매 막 형성단계; 및상기 광촉매 막을 400 내지 600 ℃의 온도로 열처리하여 필름을 제조하는 광촉매 필름 제조단계;를 포함하는 광촉매 필름의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 광촉매 필름의 제조방법은 상기 광촉매 막 형성단계 이전에 상기 기판상에 베리어 층을 형성하는 단계를 더 포함하는 광촉매 필름의 제조방법
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제2항에 있어서,상기 베리어 층은 무수 에틸알코올, 염산, 물 및 테트라에틸오르쏘실리케이트(tetraethylorthosilicate: TEOS)를 포함하는 실리카 졸 제조단계;상기 기판상에 상기 실리카 졸 용액을 도포하여 층을 형성하는 실리카 층 형성단계; 및상기 실리카 층을 300 내지 400℃의 온도로 열처리하여 베리어 층을 형성하는 실리카 베리어 층 형성단계;를 포함하는 베리어층 형성방법으로 형성되는 광촉매 필름의 제조방법
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제3항에 있어서,상기 무수 에틸알코올, 염산, 증류수 및 테트라에틸오르쏘실리케이트(tetraethylorthosilicate: TEOS)는 몰비율이 8~15 : 0
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제3항에 있어서,상기 실리카층 형성단계는 스핀 코팅법에 의해 2200 내지 4200 rpm으로 20 내지 60초 동안 수행되는 광촉매 필름의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 텅스텐 화합물은 텅스텐 아이소프로폭사이드(Tungsten hexa isopropoxide, THIP)이고, 상기 티타늄 화합물은 티타늄 테트라 아이소프로폭사이드(Titanium tetra isopropoxide, TTIP)이며, 상기 유기용매는 부틸 알코올 및 에틸 알코올인 광촉매 필름의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 광촉매 졸 제조단계는 텅스텐 아이소프로폭사이드(Tungsten hexa isopropoxide, THIP), 티타늄 테트라 아이소프로폭사이드(Titanium tetra isopropoxide, TTIP), 물, 부틸 알코올, 에틸 알코올 및 질산을 0
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제1항에 있어서,상기 광촉매 막 형성단계는 스핀 코팅법에 의해 2200 내지 4200 rpm으로 20 내지 60초 동안 수행되는 광촉매 필름의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 광촉매 필름 제조단계는 400 내지 600 ℃의 온도에서 40 내지 80분 동안 열처리하는 것으로 수행되는 광촉매 필름의 제조방법
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제1항 내지 제9항의 광촉매 필름의 제조방법에 의해 제조되고, 380nm 내지 800nm의 파장 영역에서 80 내지 95% 의 빛의 투과율을 나타내는 광촉매 필름
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