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다층 자성 박막 스택 및 이를 포함하는 데이터 저장 장치(Multilayered magnetic thin film stack and data storage device having the same)

  • 기술번호 : KST2017016243
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 다층 자기 박막 스택, 자기 터널링 접합 및 데이터 저장 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 다층 자기 박막 스택은 철(Fe)와 팔라듐(Pd)의 합금을 포함하는 FePd 합금층; 상기 합금층 상의 MgO의 터널링 장벽층; 및 상기 합금층과 상기 터널링 장벽층 사이의 호이슬러 합금층을 포함하며, 상기 FePd 합금층과 상기 호이슬러 합금층은 하이브리드 자성층을 형성하는 다층 자기 박막 스택을 제공한다.
Int. CL G11C 11/15 (2006.01.01) G11C 11/16 (2006.01.01) H01L 43/08 (2006.01.01)
CPC G11C 11/15(2013.01) G11C 11/15(2013.01) G11C 11/15(2013.01) G11C 11/15(2013.01) G11C 11/15(2013.01)
출원번호/일자 1020160045186 (2016.04.12)
출원인 에스케이하이닉스 주식회사, 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2017-0116913 (2017.10.20) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.11.21)
심사청구항수 22

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 에스케이하이닉스 주식회사 대한민국 경기도 이천시
2 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍종일 대한민국 서울특별시 서대문구
2 배태진 대한민국 서울특별시 서대문구
3 윤성준 대한민국 경기도 구리시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김권석 대한민국 서울특별시 서초구 논현로**, B동 *층(양재동, 삼호물산빌딩)(아이피맥스특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 에스케이하이닉스 주식회사 경기도 이천시
2 연세대학교 산학협력단 서울특별시 서대문구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.04.12 수리 (Accepted) 1-1-2016-0353874-12
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2018.11.21 수리 (Accepted) 1-1-2018-1163182-72
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.01.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0045718-81
4 [공지예외적용 보완 증명서류]서류제출서
2020.03.05 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2020-0234641-06
5 [공지예외적용 보완 증명서류]서류제출서
2020.03.05 수리 (Accepted) 1-1-2020-0235195-12
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.03.05 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0234657-25
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2020.03.05 수리 (Accepted) 1-1-2020-0234646-23
8 [출원서 등 보완]보정서
2020.03.05 수리 (Accepted) 1-1-2020-0234627-66
9 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document
2020.03.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2020-0040015-88
10 서류반려통지서
Notice for Return of Document
2020.06.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2020-0077418-29
11 등록결정서
Decision to grant
2020.10.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0697535-92
12 [명세서등 보정]보정서(심사관 직권보정)
2020.11.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-5028156-70
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번호 청구항
1 1
철(Fe)와 팔라듐(Pd)의 합금을 포함하는 FePd 합금층;상기 합금층 상의 MgO의 터널링 장벽층; 및상기 FePd 합금층과 상기 터널링 장벽층 사이의 호이슬러 합금층을 포함하며,상기 FePd 합금층의 우선 배향 결정축과 상기 호이슬러 합금층의 우선 배향 결정축은 45°의 각도 차이를 갖거나,상기 호이슬러 합금층은 상기 FePd 합금층과의 격자 불일치도가 4 % 이하이거나,상기 호이슬러 합금층은 B2 또는 L21 구조를 갖는 다층 자기 박막 스택
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서,상기 호이슬러 합금층은, 코발트(Co)를 기본으로 하는 Co2YZ (Y는 전이 금속이며, Z는 전형 원소임)의 화학식을 갖는 합금을 포함하는 다층 자기 박막 스택
4 4
제 3 항에 있어서,상기 전이 금속 Y는, 망간(Mn), 철(Fe) 및 크롬(Cr) 중 적어도 어느 하나를 포함하고, 상기 전형 원소 Z는, 실리콘(Si), 알루미늄(Al) 및 저머늄(Ge) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 다층 자기 박막 스택
5 5
제 1 항에 있어서,상기 호이슬러 합금층은 Co2MnSi를 포함하는 다층 자기 박막 스택
6 6
삭제
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 FePd 합금층은 L10 구조를 갖는 다층 자기 박막 스택
8 8
삭제
9 9
제 1 항에 있어서,상기 FePd 합금층의 두께는 3 nm 내지 10 nm의 범위 내인 다층 자기 박막 스택
10 10
제 9 항에 있어서,상기 호이슬러 합금층의 두께는 0
11 11
제 1 항에 있어서,상기 호이슬러 합금층과 접하는 상기 FePd 합금층의 일면과 반대되는 타면 상에 기판이 제공되는 다층 자기 박막 스택
12 12
제 11 항에 있어서,상기 기판은 밀러 지수 (001)의 텍스쳐 또는 (001) 우선 배향면을 갖는 단결정질 또는 다결정질의 재료를 포함하는 다층 자기 박막 스택
13 13
제 12 항에 있어서,상기 기판은 MgO (001)의 기저 박막을 포함하는 다층 자기 박막 스택
14 14
터널링 장벽층, 상기 터널링 장벽층의 제 1 면 상의 자기 고정층, 및 상기 터널링 장벽층의 상기 제 1 면과 반대되는 제 2 면 상의 자기 자유층을 포함하는 자기 터널링 접합으로서,상기 자기 고정층 및 상기 자기 자유층 중 적어도 하나는, 수직 자화 용이 축을 갖는 L10 구조의 철(Fe)와 팔라듐(Pd)의 FePd 합금층; 및 상기 FePd 합금층과 상기 터널링 장벽층 사이에 배치되는 호이슬러 합금층을 포함하는 하이브리드 자성층을 포함하며,상기 FePd 합금층의 우선 배향 결정축과 상기 호이슬러 합금층의 우선 배향 결정축은 45°의 각도 차이를 갖거나,상기 호이슬러 합금층은 상기 FePd 합금층과의 격자 불일치도가 4 % 이하이거나,상기 호이슬러 합금층은 B2 또는 L21 구조를 갖는 자기 터널링 접합
15 15
제 14 항에 있어서,상기 터널링 장벽층은, Al2O3, MgO, TiO2, AlN, RuO, SrO, SiN, CaOx, HfO2, Ta2O5, ZrO2, SiC, SiO2, SiOxNy, 또는 이들 중 2 이상의 적층 박막을 포함하는 자기 터널링 접합
16 16
제 14 항에 있어서,상기 자기 고정층 또는 자기 자유층은 하이브리드 자성층과 자기적 결합이 가능한 반강자성층을 포함하는 자기 터널링 접합
17 17
삭제
18 18
제 14 항에 있어서,상기 호이슬러 합금층은, 코발트(Co)를 기본으로 하는 Co2YZ (Y는 전이 금속이며, Z는 전형 원소임)의 화학식을 갖는 합금을 포함하는 자기 터널링 접합
19 19
제 18 항에 있어서,상기 전이 금속 Y는, 망간(Mn), 철(Fe) 및 크롬(Cr) 중 적어도 어느 하나를 포함하고, 상기 전형 원소 Z는, 실리콘(Si), 알루미늄(Al) 및 저머늄(Ge) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 자기 터널링 접합
20 20
제 14 항에 있어서,상기 호이슬러 합금층은 Co2MnSi를 포함하는 자기 터널링 접합
21 21
삭제
22 22
삭제
23 23
제 14 항에 있어서,상기 FePd 합금층의 두께는 3 nm 내지 10 nm의 범위 내인 자기 터널링 접합
24 24
제 23 항에 있어서,상기 호이슬러 합금층의 두께는 0
25 25
제 14 항에 있어서,상기 호이슬러 합금층과 접하는 상기 FePd 합금층의 일면과 반대되는 타면 상에 기판이 제공되는 자기 터널링 접합
26 26
제 25 항에 있어서,상기 기판은 밀러 지수 (001)의 텍스쳐 또는 (001) 우선 배향면을 갖는 단결정질 또는 다결정질의 재료를 포함하는 자기 터널링 접합
27 27
제 25 항에 있어서,상기 기판은 MgO (001)의 기저 박막을 포함하는 자기 터널링 접합
28 28
정보 저장 요소로서 제 14항 기재의 자기 터널링 접합을 포함하는 메모리 셀을 포함하는 데이터 저장 장치
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US10164172 US 미국 FAMILY
2 US20170294574 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US10164172 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US2017294574 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.