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플라즈마가 생성되는 공간을 제공하는 플라즈마 생성챔버와 상기 플라즈마 생성챔버에 파워(power)를 제공하는 파워인가부를 구비한 플라즈마 생성부;상기 플라즈마 생성챔버와 연통하고 음이온이 생성되는 공간을 제공하는 음이온 생성챔버와 상기 음이온 생성챔버 내부에 전자를 제공하는 전자공급부를 구비한 음이온 생성부; 그리고 상기 플라즈마 생성챔버와 음이온 생성챔버를 연결하는 연결부를 포함하며, 상기 파워인가부는, 전력을 제공하는 전원부; 상기 전원부에 연결되고 상기 플라즈마 생성챔버의 중심부에 위치하는 제1 플라즈마 전극;상기 제1 플라즈마 전극에 공간적으로 이격하여 위치하며 상기 제1 플라즈마 전극을 감싸는 형상을 가지는 제2 플라즈마 전극; 그리고 상기 제1 플라즈마 전극과 상기 제2 플라즈마 전극 사이에 위치한 유전체를 포함하는,음이온 생성장치
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제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 생성챔버는, 가스를 제공받아 플라즈마가 형성되는 공간을 제공하는 제1 플라즈마 생성챔버; 및 상기 제1 플라즈마 생성챔버에 연통되여 연결된 제2 플라즈마 생성챔버를 포함하고, 상기 제1,2 플라즈마 전극은, 상기 제1 플라즈마 생성챔버의 일측에 위치하여 상기 제1 플라즈마 생성챔버 내부에 파워를 제공하며, 상기 제1 플라즈마 생성챔버의 적어도 일부는, 상기 유전체를 구성하는, 음이온 생성장치
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제 1항에 있어서, 상기 연결부는, 상기 플라즈마 생성챔버의 내부 공간과 상기 음이온 생성챔버의 내부 공간 사이 경계를 형성하는 감압 차단면과 상기 감압 차단면에 형성된 감압 홀(hole)을 구비하는 감압 모듈을 포함하는, 음이온 생성장치
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제 6항에 있어서, 상기 감압 차단면은, 상기 음이온 생성챔버에서 상기 플라즈마 생성챔버를 향하여 돌출한 형상인, 음이온 생성장치
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제 6항에 있어서, 상기 연결부는, 상기 플라즈마 생성챔버와 음이온 생성챔버를 연통하여 연결하며, 중공부를 형성하는 연결부 챔버를 더 포함하고, 상기 감압 모듈은, 상기 연결부 챔버의 중공부에 위치하는, 음이온 생성장치
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제 1항에 있어서, 상기 전자공급부는, 상기 음이온 생성챔버의 내부에 위치하며, 일함수(work function)를 가지는 메탈부재(metal member)를 포함하는, 음이온 생성장치
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제 1항에 있어서, 파이프(pipe)의 형상으로서 양 단이 상기 플라즈마 생성챔버의 내부에 연통하는 회수관을 구비하는 회수부를 더 포함하는,음이온 생성장치
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제 10항에 있어서, 상기 플라즈마 생성챔버는, 중공부가 형성된 플라즈마 생성챔버 바디;상기 플라즈마 생성챔버 바디의 일측에 형성되어, 상기 회수부에 연결되는 제1,2 오리피스를 포함하고, 상기 제2 오리피스는, 상기 제1 오리피스에 비하여 상기 연결부에 인접한, 음이온 생성장치
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제 10항에 있어서, 상기 회수부는, 상기 회수관의 양 단 사이 일 지점에 위치하고, 상기 회수관의 일 측에 위치하는 플라즈마의 적어도 일부를 상기 회수관의 타측에 전송하는, 강제회수유닛을 더 포함하는, 음이온 생성장치
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제 12항에 있어서, 상기 강제회수유닛은, 구동력을 제공하는 모터와, 상기 모터에 연결된 프로펠러를 포함하는, 음이온 생성장치
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가스를 플라즈마 생성챔버 내부에 공급하는 가스 공급 단계; 제1 압력 범위에서 플라즈마 생성챔버 내부에 플라즈마를 생성하는, 플라즈마 생성단계;생성된 플라즈마의 적어도 일부를 음이온 생성챔버 내부에 전송하는, 플라즈마 전송 단계; 및 상기 제1 압력 범위와 상이한 제2 압력 범위에서 상기 음이온 생성챔버 내부에 음이온을 형성하는 음이온 생성단계를 포함하며, 상기 플라즈마 전송 단계는, 상기 플라즈마 생성챔버 내부에 위치하되 상기 음이온 생성챔버에 인접한 플라즈마의 적어도 일부를 취득하여 상기 플라즈마 생성챔버 내부로 전송하는 플라즈마 리사이클링 단계를 포함하고, 상기 음이온 생성단계는 상기 음이온 생성챔버 내부에 전자(electron)를 제공하는 전자 공급 단계를 포함하는, 음이온 생성방법
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