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음이온 생성장치 및 생성방법(APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING NEGATIVE ION)

  • 기술번호 : KST2017016263
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 음이온 생성장치 및 생성방법이 개시된다. 본 발명에 따르면, 플라즈마를 형성한 이후 플라즈마에 포함된 고에너지 입자에 전자를 가하여 음이온을 생성할 수 있다. 플라즈마가 형성되는 압력은, 음이온이 형성되는 압력과 다를 수 있다. 이와 같은 압력의 차이를 유지하기 위해 감압 모듈이 제공될 수 있다. 본 발명에 따르면 고에너지 입자의 공간밀도(spatial density)를 확보할 수 있으므로, 고밀도의 음이온 빔전류(high density of negative ion beam current)를 기대할 수 있다. 본 발명인 음이온 생성장치 및 생성방법은, 핵융합장치(nuclear fusion reactor)에서 NBI(neutral beam injection)에 이용되거나 핵융합 플라즈마의 진단에 이용될 수 있다.
Int. CL H01J 27/02 (2016.05.19) H01J 37/32 (2016.05.19)
CPC H01J 27/028(2013.01) H01J 27/028(2013.01) H01J 27/028(2013.01) H01J 27/028(2013.01)
출원번호/일자 1020160044844 (2016.04.12)
출원인 서울대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2017-0117268 (2017.10.23) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.04.12)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 황용석 대한민국 서울특별시 서초구
2 정경재 대한민국 서울특별시 관악구
3 조원휘 대한민국 충청북도 청주시 청원구
4 이윤아 대한민국 서울특별시 관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인로얄 대한민국 서울특별시 서초구 반포대로 ***, *층(서초동,서일빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 서울특별시 관악구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.04.12 수리 (Accepted) 1-1-2016-0351648-53
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2017.05.17 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.06.12 수리 (Accepted) 9-1-2017-0017984-21
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.06.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0426872-92
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.07.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0639932-26
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.07.04 수리 (Accepted) 1-1-2017-0639931-81
7 등록결정서
Decision to grant
2017.10.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0750724-10
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2020-5265458-48
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
플라즈마가 생성되는 공간을 제공하는 플라즈마 생성챔버와 상기 플라즈마 생성챔버에 파워(power)를 제공하는 파워인가부를 구비한 플라즈마 생성부;상기 플라즈마 생성챔버와 연통하고 음이온이 생성되는 공간을 제공하는 음이온 생성챔버와 상기 음이온 생성챔버 내부에 전자를 제공하는 전자공급부를 구비한 음이온 생성부; 그리고 상기 플라즈마 생성챔버와 음이온 생성챔버를 연결하는 연결부를 포함하며, 상기 파워인가부는, 전력을 제공하는 전원부; 상기 전원부에 연결되고 상기 플라즈마 생성챔버의 중심부에 위치하는 제1 플라즈마 전극;상기 제1 플라즈마 전극에 공간적으로 이격하여 위치하며 상기 제1 플라즈마 전극을 감싸는 형상을 가지는 제2 플라즈마 전극; 그리고 상기 제1 플라즈마 전극과 상기 제2 플라즈마 전극 사이에 위치한 유전체를 포함하는,음이온 생성장치
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 생성챔버는, 가스를 제공받아 플라즈마가 형성되는 공간을 제공하는 제1 플라즈마 생성챔버; 및 상기 제1 플라즈마 생성챔버에 연통되여 연결된 제2 플라즈마 생성챔버를 포함하고, 상기 제1,2 플라즈마 전극은, 상기 제1 플라즈마 생성챔버의 일측에 위치하여 상기 제1 플라즈마 생성챔버 내부에 파워를 제공하며, 상기 제1 플라즈마 생성챔버의 적어도 일부는, 상기 유전체를 구성하는, 음이온 생성장치
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
제 1항에 있어서, 상기 연결부는, 상기 플라즈마 생성챔버의 내부 공간과 상기 음이온 생성챔버의 내부 공간 사이 경계를 형성하는 감압 차단면과 상기 감압 차단면에 형성된 감압 홀(hole)을 구비하는 감압 모듈을 포함하는, 음이온 생성장치
7 7
제 6항에 있어서, 상기 감압 차단면은, 상기 음이온 생성챔버에서 상기 플라즈마 생성챔버를 향하여 돌출한 형상인, 음이온 생성장치
8 8
제 6항에 있어서, 상기 연결부는, 상기 플라즈마 생성챔버와 음이온 생성챔버를 연통하여 연결하며, 중공부를 형성하는 연결부 챔버를 더 포함하고, 상기 감압 모듈은, 상기 연결부 챔버의 중공부에 위치하는, 음이온 생성장치
9 9
제 1항에 있어서, 상기 전자공급부는, 상기 음이온 생성챔버의 내부에 위치하며, 일함수(work function)를 가지는 메탈부재(metal member)를 포함하는, 음이온 생성장치
10 10
제 1항에 있어서, 파이프(pipe)의 형상으로서 양 단이 상기 플라즈마 생성챔버의 내부에 연통하는 회수관을 구비하는 회수부를 더 포함하는,음이온 생성장치
11 11
제 10항에 있어서, 상기 플라즈마 생성챔버는, 중공부가 형성된 플라즈마 생성챔버 바디;상기 플라즈마 생성챔버 바디의 일측에 형성되어, 상기 회수부에 연결되는 제1,2 오리피스를 포함하고, 상기 제2 오리피스는, 상기 제1 오리피스에 비하여 상기 연결부에 인접한, 음이온 생성장치
12 12
제 10항에 있어서, 상기 회수부는, 상기 회수관의 양 단 사이 일 지점에 위치하고, 상기 회수관의 일 측에 위치하는 플라즈마의 적어도 일부를 상기 회수관의 타측에 전송하는, 강제회수유닛을 더 포함하는, 음이온 생성장치
13 13
제 12항에 있어서, 상기 강제회수유닛은, 구동력을 제공하는 모터와, 상기 모터에 연결된 프로펠러를 포함하는, 음이온 생성장치
14 14
가스를 플라즈마 생성챔버 내부에 공급하는 가스 공급 단계; 제1 압력 범위에서 플라즈마 생성챔버 내부에 플라즈마를 생성하는, 플라즈마 생성단계;생성된 플라즈마의 적어도 일부를 음이온 생성챔버 내부에 전송하는, 플라즈마 전송 단계; 및 상기 제1 압력 범위와 상이한 제2 압력 범위에서 상기 음이온 생성챔버 내부에 음이온을 형성하는 음이온 생성단계를 포함하며, 상기 플라즈마 전송 단계는, 상기 플라즈마 생성챔버 내부에 위치하되 상기 음이온 생성챔버에 인접한 플라즈마의 적어도 일부를 취득하여 상기 플라즈마 생성챔버 내부로 전송하는 플라즈마 리사이클링 단계를 포함하고, 상기 음이온 생성단계는 상기 음이온 생성챔버 내부에 전자(electron)를 제공하는 전자 공급 단계를 포함하는, 음이온 생성방법
15 15
삭제
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