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전도성 고분자 및 이온성 고분자 전해질을 함유하는 반응용액이 공급되어 중합반응을 수행하는 반응용기; 반응용액이 반응용기의 일측으로 유출되고, 또 다른 일측으로 유입되는 유체 순환라인;유체 순환라인 상에 형성되며, 반응용액이 유체 순환라인을 따라 순환하는 과정에서, 반응용액 내의 산소를 제거하는 막탈기; 및유체 순환라인 상에 형성된 순환펌프를 포함하고,상기 막탈기는 산소 센서를 포함하는 장치
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제 1 항에 있어서,산소 센서에 의해 측정된 산소 농도는 40 ppb 이하인 것을 특징으로 하는 장치
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제 1 항에 있어서,반응용기에서 반응이 완료된 용액이 공급되어 여과를 수행하는 여과부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 장치
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제 1 항에 따른 장치를 이용하여 전도성 고분자 용액을 제조하는 방법으로서,전도성 고분자 및 이온성 고분자 전해질을 함유하는 반응용액을 제조하는 단계; 및막탈기를 이용하여 상기 반응용액 내의 산소를 40 ppb 이하로 제거하는 단계를 포함하며,상기 전도성 고분자 및 이온성 고분자 전해질을 함유하는 반응용액을 제조하는 단계; 및 막탈기를 이용하여 상기 반응용액 내의 산소를 40 ppb 이하로 제거하는 단계는 동시에 수행되는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 용액의 제조방법
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제 4 항에 있어서,전도성 고분자는 하기 화학식 1의 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 용액의 제조방법:[화학식 1]상기 화학식 1에서,X 및 Y는 각각 독립적으로, O, S, Si 또는 N을 나타내고,R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기, 탄소수 3 내지 20의 아릴기 또는 탄소수 2 내지 20의 헤테로아릴기를 나타내고,n은 2 내지 2000의 정수이며,선택적으로, R1 및 R2는 서로 결합되어 융합된 고리 구조를 나타낸다
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제 5 항에 있어서,화학식 1의 K(K는 2 내지 2000 사이의 임의의 정수) 번째 반복구조는 K-1 번째 반복구조와 비교하여 화학식 1의 정의 중에서, X, Y, R1 및 R2 중 1 종 이상이 다른 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 용액의 제조방법:
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제 5 항에 있어서,상기 화학식 1의 구조로 나타내는 전도성 고분자는 하기 화학식 2 내지 4 의 구조로부터 선택되는 1 종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 용액의 제조방법:[화학식 2][화학식 3][화학식 4]상기 화학식 2 내지 4에서,n은 2 내지 2000의 정수이다
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제 4 항에 있어서,이온성 고분자 전해질은 단량체음이온 또는 다중음이온을 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 용액의 제조방법
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제 4 항에 있어서,반응용기 내에 포함된 반응용액은 도펀트를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 용액의 제조방법
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