| 1 |
1
유연한 기판;상기 기판 상에 형성된 그래핀층; 상기 그래핀층 상에 형성된 고분자층; 및상기 기판 외곽 영역에 형성되고, 상기 그래핀층과 이격된 유기 접착층을 포함하는 유연한 투명 봉지체
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 기판은 내열성 및 유연성 있는 경질 고분자 수지 또는 연질 고분자 수지인 것을 특징으로 하는 유연한 투명 봉지체
|
| 3 |
3
제2항에 있어서,상기 고분자 수지는 PET(polyethylene terephthalate), PDMS(Polydimethylsiloxane), PEN(polyethylene naphthalate), PMMA(Poly(methyl methacrylate)), Polyimide, Polycarbonate, PVDF(Polyvinylidene fluoride) 및 PANI(Polyaniline)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 가지는 것을 특징으로 하는 유연한 투명 봉지체
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 고분자층은 경화성 탄성고분자인 실리콘계 고분자, 폴리이소프렌, 천연고무, 폴리부타디엔, 폴리우레탄, 폴리디메틸실록산(PDMS), 이들의 유도체 및 이들의 혼합체로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 가지는 것을 특징으로 하는 유연한 투명 봉지체
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 고분자층의 내부에 분산되어 있는 나노구조체 또는 흡습제가 더 포함된 것을 특징으로 하는 유연한 투명 봉지체
|
| 6 |
6
제5항에 있어서,상기 나노구조체는 금속나노파티클, 탄소나노튜브(carbon nanotube), 카본닷(carbon-dot) 및 RGO(reduced graphene oxide)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 가지는 것을 특징으로 하는 유연한 투명 봉지체
|
| 7 |
7
제5항에 있어서,상기 흡습제는 BaO, SrO, CaO, MgO 및 실리카겔로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 가지는 것을 특징으로 하는 유연한 투명 봉지체
|
| 8 |
8
제1항에 있어서,상기 유기 접착층은 광 경화성 UV(Ultra Violet) 에폭시 레진 또는 열 경화성 써멀(thermal) 레진이 더 포함된 것을 특징으로 하는 유연한 투명 봉지체
|
| 9 |
9
촉매금속이 구비된 전사용 기판 상에 그래핀층을 성장시키는 단계;상기 그래핀층이 성장된 상기 전사용 기판에 식각 용액을 도입하여 상기 촉매금속을 제거하는 단계; 상기 그래핀층을 기판에 전사하는 단계;상기 기판의 그래핀층 상에 고분자층을 형성하는 단계; 및상기 기판 외곽 영역의 상기 기판 상에 유기 접착층을 도포하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유연한 투명 봉지체의 제조방법
|
| 10 |
10
제9항에 있어서,상기 그래핀층을 성장시키는 단계 이후에, 상기 그래핀층 상에 고분자수지층을 형성하는 것을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유연한 투명 봉지체의 제조방법
|
| 11 |
11
제10항에 있어서,상기 고분자수지층이 형성된 그래핀층을 기판에 전사하는 단계 이후에,상기 고분자수지층을 아세톤 또는 TMAH(Tetramethyl ammounium hydroxide) 를 이용하여 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유연한 투명 봉지체의 제조방법
|
| 12 |
12
제9항에 있어서,상기 그래핀층을 성장시키는 단계 이후에,상기 그래핀층 상에 부착형수지층을 형성하는 것을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유연한 투명 봉지체의 제조방법
|
| 13 |
13
제9항에 있어서,상기 그래핀층을 기판에 전사하는 단계는 상기 그래핀층이 부착된 상기 부착형수지층을 상기 기판에 부착하는 것을 특징으로 하는 유연한 투명 봉지체의 제조방법
|
