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기판 상에 적어도 두 개의 나노 탐침을 형성하는 단계;상기 나노 탐침이 형성된 기판의 일 영역을 식각하여 적어도 두 개의 마이크로 기둥을 형성하는 단계;상기 나노 탐침, 상기 마이크로 기둥 및 상기 기판의 나머지 영역 상에 1차 절연막, 전극층 및 2차 절연막을 순차적으로 형성하는 단계; 및상기 2차 절연막의 일부를 식각하여 상기 전극층의 일부를 노출시키는 단계를 포함하는 생체소자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 기판 상에 상기 적어도 두 개의 나노 탐침을 형성하는 단계는,상기 기판에 3-아미노프로필트리에톡시실란(APTES)를 증착하고, 액체 금속(liquid metal)을 증착하는 단계; 및 증착된 기판에 VLS(Vapor-Liquid-Solid) 기법으로 적어도 두 개의 나노선을 성장시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 생체소자의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 기판 상에 상기 적어도 두 개의 나노 탐침을 형성하는 단계는,상기 기판의 일면에 Cr을 코팅하는 단계; 코팅된 상기 기판에 집속 이온 빔(FIB: Focused Ion Beam) 기법을 이용하여 100 nm 내지 200 nm의 홀을 적어도 두 개 형성하는 단계; 및 상기 홀에 VLS 법 또는 FIB 법을 이용하여 나노선을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 생체소자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 나노 탐침이 형성된 상기 기판의 일 영역을 식각하여 상기 적어도 두 개의 마이크로 기둥을 형성하는 단계는,상기 기판 상에 Al 또는 Si를 포함하는 재질 중 어느 하나를 증착하고, 고종횡비 반응성 이온 식각(DRIE) 공정을 통해 선택적으로 식각하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 생체소자의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 1차 절연막 및 2차 절연막은 SiO2재질 또는 Al2O3재질로 이루어지며, 화학기상 증착법을 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 생체소자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 나노탐침은 Au, Ag, Cu 또는 Pt의 그룹에 속하는 재질 중 하나로 이루어지며, 스퍼터링 방법을 통하여 형성되는 것을 특징으로 하는 생체소자의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 나노 탐침은 지름이 100 nm 내지 300 nm 이고, 높이가 3 μm 내지 10 μm 이고, 상기 마이크로 기둥은 지름이 20 μm 내지 400 μm 이고, 높이가 50 μm 내지 1,000 μm 로 형성되는 것을 특징으로 하는 생체소자의 제조방법
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