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하기 화학식 1로 표현되는 히드라진 또는 히드라진 유도체; 및하기 화학식 2로 표현되는 프로모터를 포함하는,이산화탄소 흡탈착용 조성물로서,상기 이산화탄소 흡탈착용 조성물은 수분의 첨가에 의해 흡착된 이산화탄소를 탈착시키는 것이고,상기 프로모터를 포함함으로써 상기 히드라진 또는 히드라진 유도체만 포함할 경우보다 상기 이산화탄소 흡탈착용 조성물의 흡수 용량을 증가시키고 손실 속도를 낮추는 것인,이산화탄소 흡탈착용 조성물:[화학식 1];[화학식 2]Mx(OH)y;상기 화학식들에서,R1 및 R2는 각각 독립적으로 H이거나; 치환 또는 비치환된 C1-30 지방족(aliphatic) 탄화수소기, 치환 또는 비치환된 C3-30 지방족 고리기, 치환 또는 비치환된 C3-30 헤테로 지방족 고리기, 치환 또는 비치환된 C5-30 방향족(aromatic) 고리기, 및 치환 또는 비치환된 C5-30 헤테로 방향족 고리기로 이루어진 군으로부터 선택된 것; Si, O, S, Se, N, P, As, F, Cl, Br, 및 I로 이루어진 군으로부터 선택된 것이 하나 이상 포함된 C1-30 지방족 탄화수소기; Si, O, S, Se, N, P, As, F, Cl, Br, 및 I로 이루어진 군으로부터 선택된 것이 하나 이상 포함된 C3-30 지방족 고리기; Si, O, S, Se, N, P, As, F, Cl, Br, 및 I로 이루어진 군으로부터 선택된 것이 하나 이상 포함된 C3-30 헤테로 지방족 고리기; 및, Si, O, S, Se, N, P, As, F, Cl, Br, 및 I로 이루어진 군으로부터 선택된 것이 하나 이상 포함된 C5-30 헤테로 방향족 고리기로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 포함하며,M은 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속이고,X는 1 내지 5의 정수이고, y는 1 내지 10의 정수임
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제 1 항에 있어서,상기 이산화탄소 흡탈착용 조성물은 무용매 조건에서 이산화탄소를 흡착시키는 것인, 이산화탄소 흡탈착용 조성물
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제 1 항에 있어서, 상기 이산화탄소 흡탈착용 조성물은 용매의 존재하에서 이산화탄소를 흡착시키는 것인, 이산화탄소 흡탈착용 조성물
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제 3 항에 있어서,상기 용매는 물, 알코올, 에테르, C1-30 지방족 탄화수소, C5-30 방향족 탄화수소, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 포함하는 것인, 이산화탄소 흡탈착용 조성물
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제 3 항에 있어서,상기 용매는 상기 히드라진 또는 히드라진 유도체 100 중량부에 대하여 1 내지 100 중량부의 양으로 사용하는 것인, 이산화탄소 흡탈착용 조성물
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제 1 항에 있어서,상기 이산화탄소 흡탈착용 조성물은 2 내지 3,000 psi 범위의 압력하에서 이산화탄소를 흡착하는 것인, 이산화탄소 흡탈착용 조성물
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제 1 항에 있어서,상기 이산화탄소 흡탈착용 조성물은 -20℃ 내지 100℃ 범위의 온도하에서 이산화탄소를 흡착하는 것인, 이산화탄소 흡탈착용 조성물
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제 1 항에 따른 이산화탄소 흡탈착용 조성물을 사용하여 이산화탄소를 흡착 및 탈착하는 것을 포함하는, 이산화탄소의 흡착 및 탈착 방법
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제 9 항에 있어서,상기 이산화탄소 흡탈착용 조성물은 무용매 조건에서 이산화탄소를 흡착시키는 것인, 이산화탄소의 흡착 및 탈착 방법
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제 9 항에 있어서, 상기 이산화탄소 흡탈착용 조성물은 용매의 존재하에서 이산화탄소를 흡착시키는 것인, 이산화탄소의 흡착 및 탈착 방법
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제 11 항에 있어서,상기 용매는 상기 이산화탄소 흡탈착용 조성물 내의 히드라진 또는 히드라진 유도체 100 중량부에 대하여 1 내지 100 중량부의 양으로 사용하는 것인, 이산화탄소의 흡착 및 탈착 방법
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제 9 항에 있어서,상기 이산화탄소 흡착은 2 내지 3,000 psi 범위의 압력하에서 실시되는 것인, 이산화탄소의 흡착 및 탈착 방법
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제 9 항에 있어서,상기 이산화탄소 흡착은 -20℃ 내지 100℃ 범위의 온도하에서 실시되는 것인, 이산화탄소의 흡착 및 탈착 방법
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제 9 항에 있어서,상기 이산화탄소 탈착은 수분의 첨가에 의해 상기 이산화탄소 흡탈착용 조성물에 흡착된 이산화탄소를 탈착시켜 이루어지는 것인, 이산화탄소의 흡착 및 탈착 방법
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