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3D 프린팅에 사용되는 고분자로서, 상기 고분자는 폴리디메틸실록산(PDMS)를 기반으로 하며, 광경화형 작용기를 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화형 고분자
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제 1항에 있어서, 상기 광경화형 작용기는 하나 이상의 아크릴레이트, 또는 메트(아크릴레이트) 작용기인 것을 특징으로 하는 광경화형 고분자
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 광경화형 고분자는 하나 이상의 이소시아네이트 작용기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화형 고분자
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제 3항에 있어서, 상기 광경화형 작용기를 갖는 화합물은 2-이소시아네이토에틸 메트아크릴레이트(2-isocyanatoethyl methacrylate), 이소포론 디이소시아네이트(isophorone diisocyanate), 헥사메틸렌 디이소시아네이트(hexamethylene diisocyanate) 또는 이들의 조합인 것을 특징으로 하는 광경화형 고분자
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제 3 항에 있어서, 상기 광경화형 고분자는 폴리디메틸실록산-이소포론 디이소시아네이트-(메트)아크릴레이트의 결합 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 광경화형 고분자
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제 3 항에 있어서, 상기 광경화형 고분자는 폴리디메틸실록산-헥사메틸렌 디이소시아네이트 메타크릴레이트(hexamethylene diisocyanate-methacrylate)의 결합 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 광경화형 고분자
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제 1항에 있어서, 3D 프린팅은 SLA(Stereo Lithography Apparatus) 기술을 사용하는 것을 특징으로 하는 광경화형 고분자
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제 1항의 광경화형 고분자를 제조하는 방법으로서, (1) 광경화형 작용기를 가진 화합물을 폴리디메틸실록산 몰 기준으로 2배의 양으로 반응 용기에 첨가 후, 불활성 분위기에서 교반하는 단계;(2) 폴리디메틸실록산을 상기 반응 용기내에 주입하는 단계;(3) 30-50 ℃에서 1-3 시간 동안 교반하는 단계를 포함하는 광경화형 고분자를 제조하는 방법
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제 8항에 있어서, 상기 (1)에서 광경화형 작용기는 하나 이상의 이소시아네이트 작용기와 하나 이상의 아크릴레이트 또는 (메트)아크릴레이트 작용기를 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화형 고분자를 제조하는 방법
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제 8항에 또는 제 9항에 있어서, 상기 (1)에서 광경화형 작용기를 가진 화합물은 2-이소시아네이토에틸 메타크릴레이트인 것을 특징으로 하는 광경화형 고분자 제조 방법
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제 1항의 광경화형 고분자를 제조하는 방법으로서, (1) 하나 이상의 이소시아네이트 작용기를 가진 화합물을, 폴리디메틸실록산의 몰 기준으로 2배의 양으로 반응용기에 첨가 후, 불활성 분위기에서 교반하는 단계; (2) 폴리디메틸실록산을 상기 반응 용기 내에 주입하는 단계; (3) 30-50 ℃에서 1-3 시간 동안 교반하는 단계 (4) 상기 (1) 단계에서 첨가한 하나 이상의 이소시아네이트 작용기를 가진 화합물과 몰 기준으로 동일한 양으로 하나 이상의 아크릴레이트 또는 메트(아크릴레이트) 작용기를 가진 화합물을 주입하는 단계; 및 (5) 30-50 ℃에서 30분-2시간 동안 교반하는 단계를 포함하는 광경화형 고분자를 제조하는 방법
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12
제 11항에 있어서, 상기 (4) 단계에서 아크릴레이트 작용기를 가진 화합물은 2-히드록시에틸아크릴레이트인 것을 특징으로 하는 광경화형 고분자를 제조하는 방법
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제 1항의 광경화형 고분자와 광개시제를 포함하는 광경화형 고분자 조성물
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제 1항의 광경화형 고분자를 사용하여 3D 프린팅하는 방법
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15
제 1항의 광경화형 고분자를 사용하여 3D 프린팅된 물품
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제 8항 또는 제 10항에 기재된 광경화형 고분자를 제조하는 방법에 의해 제조된 광경화형 고분자
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제 16항의 고분자 및 광개시제를 포함하는 광 경화형 고분자 조성물
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제 16항의 광경화형 고분자를 사용하여 3D 프린팅하는 방법
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제 16항의 광경화형 고분자를 사용하여 3D 프린팅된 물품
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