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광을 조사하는 광섬유 팁;기 결정된 초점 거리를 갖는 프레넬 존 플레이트; 및상기 광섬유 팁에서 조사되는 광을 발산시키도록, 상기 광섬유 팁의 끝 부분부터 상기 프레넬 존 플레이트까지 연속적으로 배치되며, 상기 광섬유 팁을 구성하는 물질보다 큰 굴절률을 갖는 매개 물질;을 포함하는 광섬유 센서
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청구항 1에 있어서,상기 광섬유 팁은 끝 부분이 볼록하게 돌출된 광섬유 렌즈를 포함하는 광섬유 센서
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청구항 1에 있어서,상기 프레넬 존 플레이트는 상기 광섬유 팁과 마주보는 일면에 광을 반사시키는 물질로 패턴이 형성된 집광면을 포함하는 광섬유 센서
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청구항 4에 있어서,상기 프레넬 존 플레이트는 타면에 광을 반사시키는 물질이 코팅된 반사면을 더 포함하는 광섬유 센서
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청구항 4에 있어서,상기 프레넬 존 플레이트를 사이에 두고 상기 광섬유 팁과 마주보도록 배치되는 광 반사부를 더 포함하는 광섬유 센서
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광을 조사하는 광섬유 팁;기 결정된 초점 거리를 갖는 프레넬 존 플레이트; 및상기 광섬유 팁과 상기 프레넬 존 플레이트 사이에 위치하며, 소정의 굴절률을 갖는 매개 물질;을 포함하고,상기 프레넬 존 플레이트는 상기 광섬유 팁과 마주보는 일면에 광을 반사시키는 물질로 패턴이 형성된 집광면과, 타면에 광을 반사시키는 물질이 코팅된 반사면을 포함하고,상기 광은 상기 광섬유 팁으로부터 상기 매개 물질을 거쳐 상기 프레넬 존 플레이트의 집광면까지 발산하고, 상기 집광면으로부터 상기 반사면까지 직진하고, 상기 반사면에서 반사되어 상기 반사면으로부터 상기 집광면까지 직진하고, 상기 집광면으로부터 상기 매개 물질을 거쳐 상기 광섬유 팁까지 수렴하는 광섬유 센서
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청구항 7에 있어서,상기 발산하는 광은 다중 파장을 가지며,상기 직진하는 광, 상기 반사되어 직진하는 광, 및 상기 수렴하는 광은 단일 파장을 갖는 광섬유 센서
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청구항 1에 있어서,상기 매개 물질은 주변의 물리량에 따라 굴절률이 변하는 가변 굴절률 물질을 포함하는 광섬유 센서
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다중 파장의 광을 생성하는 광원;상기 생성된 광을 전달받아 단일 파장의 광을 제공하는 광섬유 센서; 및상기 제공된 광의 파장에 대응하는 정보를 검출하는 검출기를 포함하되,상기 광섬유 센서는: 광을 조사하는 광섬유 팁; 기 결정된 초점 거리를 갖는 프레넬 존 플레이트; 및 상기 광섬유 팁에서 조사되는 광을 발산시키도록, 상기 광섬유 팁의 끝 부분부터 상기 프레넬 존 플레이트까지 연속적으로 배치되며, 상기 광섬유 팁을 구성하는 물질보다 큰 굴절률을 갖는 매개 물질;을 포함하는 측정 장치
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다중 파장의 광을 생성하는 광원;상기 생성된 광을 전달받아 단일 파장의 광을 제공하는 광섬유 센서; 및상기 제공된 광의 파장에 대응하는 정보를 검출하는 검출기를 포함하되,상기 광섬유 센서는:광을 조사하는 광섬유 팁;기 결정된 초점 거리를 갖는 프레넬 존 플레이트; 및상기 광섬유 팁과 상기 프레넬 존 플레이트 사이에 위치하며, 소정의 굴절률을 갖는 매개 물질;을 포함하고,상기 광원은:각각의 파장에 대응하는 광을 동시에 생성하는 광대역 파장 광원; 및각각의 파장에 대응하는 광을 순차적으로 생성하는 파장 가변 광원;중 적어도 하나를 포함하는 측정 장치
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청구항 10에 있어서,상기 검출된 정보를 기반으로 상기 광섬유 센서가 위치한 지점의 물리량을 획득하는 처리부를 더 포함하는 측정 장치
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