맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

다층 저항식 다점 온도측정 웨이퍼 센서 및 그 제조방법(Multi-layered resistive type multi-point temperature measuring wafer sensor and method for fabricating the same)

  • 기술번호 : KST2017018196
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 다층 저항식 다점 온도측정 웨이퍼 센서(1)는, 웨이퍼(10) 상에 복수개의 전극배선(21)이 형성되어 이루어지는 전극부(20); 웨이퍼(10) 상에서 전극부(20)와 다른 층에 위치하도록 설치되며, 복수개의 단위저항(31)이 연결배선(32)에 의해 직렬 연결되어 이루어지는 저항부(30); 전극부(20)와 저항부(30) 사이에 설치되는 층간절연층(50); 및 전극배선(21) 각각의 일단이 단위저항(31)들의 양단에 전기적으로 연결되도록 층간절연층(50)의 비아홀에 설치되는 도전플러그(55); 를 포함하여 이루어짐으로써, 전극부(20)를 통하여 저항부(30)에서의 전위차를 측정하여 웨이퍼(10)의 온도 균일도를 간파하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 전극부(20)와 저항부(30)가 서로 다른 층에 형성되기 때문에 저항부(30)의 단위저항(31)과 연결배선(32)을 전극부(20)의 방해를 받지 않고 웨이퍼(10)의 전면적에 설치할 수 있다. 따라서 웨이퍼(10)의 전면적에 대해서 온도 균일도를 세밀하게 파악할 수 있게 된다.
Int. CL H01L 21/66 (2017.04.13) H01L 21/28 (2017.04.13) H01L 21/67 (2017.04.13) H01L 21/768 (2017.04.13) G01N 21/95 (2017.04.13)
CPC
출원번호/일자 1020170044617 (2017.04.06)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2017-0129602 (2017.11.27) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2016-0059678 (2016.05.16)
관련 출원번호 1020160059678
심사청구여부/일자 Y (2017.04.06)
심사청구항수 4

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김태완 대한민국 대전광역시 유성구
2 강상우 대한민국 대전광역시 유성구
3 김용규 대한민국 대전광역시 서구
4 권수용 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김영호 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길* (역삼동, 조이타워), ***호(대신특허사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대전 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2017.04.06 수리 (Accepted) 1-1-2017-0337137-40
2 직권정정안내서
Notification of Ex officio Correction		 2017.04.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2017-0049981-18
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2017.04.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0277085-14
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2017.06.19 수리 (Accepted) 1-1-2017-0582860-12
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2017.06.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0582861-68
6 등록결정서
Decision to grant		 2017.10.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0758068-42
7 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2018.11.01 수리 (Accepted) 1-1-2018-1084007-14
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
웨이퍼 상에 복수개의 전극배선이 형성되어 이루어지는 전극부; 상기 웨이퍼 상에서 상기 전극부와 다른 층에 위치하도록 설치되며, 복수개의 단위저항이 연결배선에 의해 직렬 연결되어 이루어지는 저항부; 상기 전극부와 저항부 사이에 설치되는 층간절연층; 및상기 전극배선 각각의 일단이 상기 단위저항 각각의 양단에 전기적으로 연결되도록 상기 층간절연층의 비아홀에 설치되는 도전플러그; 를 포함하여 이루어짐으로써, 상기 전극부를 통하여 상기 저항부에서의 전위차를 측정하여 상기 웨이퍼의 온도 균일도를 간파하는 것을 특징으로 하는 다층 저항식 다점 온도측정 웨이퍼 센서
2 2
제1항에 있어서, 상기 저항부가 상기 전극부보다 위에 위치하도록 설치되는 것을 특징으로 하는 다층 저항식 다점 온도측정 웨이퍼 센서
3 3
제2항에 있어서, 상기 저항부가 표면에 노출되도록 설치되는 것을 특징으로 하는 다층 저항식 다점 온도측정 웨이퍼 센서
4 4
제1항에 있어서, 상기 전극배선들 각각의 타단을 취합하는 전압측정단자가 상기 웨이퍼에 설치되는 것을 특징으로 하는 다층 저항식 다점 온도측정 웨이퍼 센서
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR101746558 KR 대한민국 FAMILY
2 KR1020180098429 KR 대한민국 FAMILY
3 WO2017200267 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
DOCDB 패밀리 정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국표준과학연구원 국가연구개발사업 3-3-2차세대초박막공정용측정기술개발
2 산업통상자원부 (주)에스엔텍 소재부품기술개발사업 실시간 반도체 공정 상태 진단을 위한 웨이퍼형 공정진단 센서 시스템 개발