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제1 굴절률을 갖는 기판 상에 위치하되, 제2 굴절률을 갖는 광 경화성 물질을 포함하고, 적어도 일면에 요부와 철부 구조를 갖는, 유기 발광 소자용 광학 시트
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제1항에 있어서,상기 광학 시트는 고 굴절 파티클을 더 포함하는 것인, 유기 발광 소자용 광학 시트
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제2항에 있어서,상기 고 굴절 파티클은 상기 철부 구조 내에 형성된 것인, 유기 발광 소자용 광학 시트
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제3항에 있어서,상기 고 굴절 파티클은 금속 나노와이어 또는 금속 나노입자인 것인, 유기 발광 소자용 광학 시트
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제4항에 있어서,상기 고 굴절 파티클은 은 나노와이어인 것인, 유기 발광 소자용 광학 시트
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제5항에 있어서,상기 은 나노와이어의 평균 길이는 20μm 내지 40μm 인 것인, 유기 발광 소자용 광학 시트
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제5항에 있어서,상기 은 나노와이어의 평균 두께는 20nm 내지 50nm 인 것인, 유기 발광 소자용 광학 시트
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8
제1항에 있어서,상기 제2 굴절률은 상기 제1 굴절률보다 크되, 상기 제1 굴절률 및 제2 굴절률의 차이는 0
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요부 및 철부의 구조를 갖는 기재 상에 고분자 물질을 코팅하여 상기 기재의 역상의 마스터 몰드를 형성하는 단계;상기 마스터 몰드 상에 광경화성 물질을 코팅하는 단계; 및상기 코팅된 광경화성 물질을 UV 경화한 후, 상기 마스터 몰드를 제거하는 단계를 포함하는, 유기 발광 소자용 광학 시트 제조방법
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제9항에 있어서,상기 마스터 몰드를 형성한 후 상기 광경화성 물질을 코팅하는 단계 전에,상기 마스터 몰드의 요부 상에 고 굴절 파티클 용액을 코팅하는 단계를 더 포함하는 것인, 유기 발광 소자용 광학 시트 제조방법
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제10항에 있어서,상기 고 굴절 파티클 용액은, 금속 나노입자 또는 금속 나노와이어가 용매에 혼합된 것인, 유기 발광 소자용 광학 시트 제조방법
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제11항에 있어서,상기 금속 나노와이어는 은 나노와이어인 것인, 유기 발광 소자용 광학 시트 제조방법
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유기 발광층;상기 유기 발광층 상에 위치하는 투명 전극층; 상기 투명 전극층 상에 위치하되, 제1 굴절률을 갖는 기판; 및상기 기판 상에 위치하되, 제2 굴절률을 갖는 광경화성 물질을 포함하고, 적어도 일면에 요부와 철부의 구조를 갖는 광학 시트를 포함하는, 유기 발광 소자
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제13항에 있어서,상기 광학 시트는 고 굴절 파티클을 더 포함하는 것인, 유기 발광 소자
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제14항에 있어서,상기 고 굴절 파티클은 상기 광학 시트의 철부 구조 내에 형성된 것인, 유기 발광 소자
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제15항에 있어서,상기 고 굴절 파티클은 은 나노와이어인 것인, 유기 발광 소자
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