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염화 글리시딜트리메틸암모늄(Glycidyltrimethylammonium chloride)이 결합된 키토산을 불용성 고분자에 가교결합시켜 제조된 것을 특징으로 하는 질산성 질소 제거용 미디어
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제1항에 있어서, 상기 불용성 고분자는,폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol)이 중합된 것을 특징으로 하는 질산성 질소 제거용 미디어
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제1항에 있어서,상기 가교결합은,글루타르알데히드(Glutaraldehyde)를 매개로 하여 형성된 것을 특징으로 하는 질산성 질소 제거용 미디어
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제1항에 있어서, 상기 염화 글리시딜트리메틸암모늄(Glycidyltrimethylammonium chloride)이 결합된 키토산은,키토산의 아민기에 염화 글리시딜트리메틸암모늄(Glycidyltrimethylammonium chloride)이 결합된 것을 특징으로 하는 질산성 질소 제거용 미디어
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키토산 및 염화 글리시딜트리메틸암모늄(Glycidyltrimethylammonium chloride)을 혼합 및 교반하여 염화 글리시딜트리메틸암모늄(Glycidyltrimethylammonium chloride)이 결합된 키토산을 제조하는 단계 (a);상기 염화 글리시딜트리메틸암모늄이 결합된 키토산과 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol)을 혼합한 후, 폴리비닐알코올을 중합시키는 단계 (b); 및상기 단계 (b) 후, 글루타르알데히드(Glutaraldehyde)를 첨가하여 염화 글리시딜트리메틸암모늄이 결합된 키토산과 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol)을 가교반응시킴으로써, 폴리비닐알코올과 가교결합된 염화 글리시딜트리메틸암모늄이 결합된 키토산을 제조하는 단계 (c);를 포함하는 것을 특징으로 하는 질산성 질소 제거용 미디어의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 단계 (a)의 혼합 및 교반은,80~90℃에서 100~150 rpm으로 10~15시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 질산성 질소 제거용 미디어의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 단계 (a)는, 용매로 정제수를 사용하는 것을 특징으로 하는 질산성 질소 제거용 미디어의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 정제수는,산을 첨가하여 pH가 3~4로 조절된 것을 특징으로 하는 질산성 질소 제거용 미디어의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 단계 (b)의 염화 글리시딜트리메틸암모늄이 결합된 키토산은 정제수에 용해되어 있는 용액 형태이고, 상기 단계 (b)의 폴리비닐알코올은 정제수에 용해되어 있는 용액 형태인 것을 특징으로 질산성 질소 제거용 미디어의 제조방법
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제7항 또는 제9항에 있어서, 상기 단계 (c)의 글루타르알데히드는 알코올에 용해되어 있는 용액 형태인 것을 특징으로 하는 질산성 질소 제거용 미디어의 제조방법
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염화 글리시딜트리메틸암모늄(Glycidyltrimethylammonium chloride)이 결합된 키토산과 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol)이 글루타르알데히드(Glutaraldehyde)를 매개로 하여 가교결합되어 형성된 질산성 질소 제거용 미디어와 질산성 질소를 함유하는 오염수 접촉시키는 것을 특징으로 하는 오염수 내 질산성 질소의 제거방법
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제11항에 있어서,상기 오염수는, 지하수인 것을 특징으로 하는 오염수 내 질산성 질소의 제거방법
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