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구형 마이셀의 백본을 구성하는 제 1 고분자 및 상기 제 1 고분자에 수소 결합된 측쇄를 구성하는 제 2 고분자가 자기 조립되어 형성된 상기 구형 마이셀로부터 상기 제 1 고분자가 제거되고 잔류하는 상기 제 2 고분자에 의해 형성된 공동의 구들의 배열을 포함하는 기공을 갖으며,상기 제 1 고분자는 피리딘기를 포함하고, 상기 제 2 고분자는 술폰화기를 포함하는 저반사 코팅막
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 고분자 및 상기 제 2 고분자는 식각 용매에 대하여 서로 다른 용해도를 갖는 것을 특징으로 하는 저반사 코팅막
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제 1 항에 있어서,상기 구형 마이셀의 직경은 상기 제 2 고분자의 농도에 따라 조절되는 것을 특징으로 하는 저반사 코팅막
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제 1 항에 있어서, 상기 기공의 직경은 상기 제 1 고분자에 대한 상기 제 2 고분자의 혼합 비율에 따라 조절되는 것을 특징으로 하는 저반사 코팅막
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제 1 항에 있어서,상기 기공의 직경은 상기 구형 마이셀의 자기 조립시 용매에 대한 상기 제 1 고분자 및 상기 제 2 고분자의 농도에 따라 조절되는 것을 특징으로 하는 저반사 코팅막
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 고분자는 -X2-(C=X4)-X3-, -NR5-(SO2)-, -CO-NR6-CO-, -O-, -S-, -COOH, -CN, -NR7R8, -OH, 및 -SH 로 이루어지는 군에서 선택되는 관능기를 포함하고,상기 X2 및 X3은 각각 단결합, -NR9-, -O- 또는 -(CR10R11)m- 중 어느 하나일 수 있고,상기 X4는 O 또는 S 중 어느 하나일 수 있으며,상기 R5, R6, R7, R8, R9, R10, 및 R11 은 각각 수소 원자 또는 치환기를 갖는 알킬기를 나타내고, m 은 1 이상의 정수를 나타내는 것을 특징으로 하는 저반사 코팅막
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7
제 1 항에 있어서,상기 제 1 고분자는 폴리-2-비닐-피리딘(P2VP), 피리미딘, 2-메틸 피리미딘, 4-메틸 피리미딘, 5-메틸 피리미딘, 4,6-디메틸 피리미딘, 4
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8
제 1 항에 있어서,상기 제 2 고분자는 신디오택틱폴리스티렌, 폴리스티렌, 설퍼나이트 폴리스티렌, 및 설퍼나이트 실세스퀴옥산 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 저반사 코팅막
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구형 마이셀의 백본을 구성하는 제 1 고분자 및 상기 제 1 고분자에 수소 결합된 측쇄를 구성하는 제 2 고분자를 혼합하여 자기 조립되어 형성되는 상기 구형 마이셀을 형성하는 단계; 및상기 구형 마이셀에 식각 용매을 적용하여 상기 구형 마이셀로부터 상기 제 1 고분자가 제거되고 잔류되는 상기 제 2 고분자에 의해 형성된 공동의 구들의 배열을 형성하는 단계를 포함하는 기공을 갖으며,상기 제 1 고분자는 피리딘기를 포함하고, 상기 제 2 고분자는 술폰화기를 포함하는 저반사 코팅막의 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 제 1 고분자는 상기 제 2 고분자의 상기 식각 용매에 대한 용해도보다 큰 용해도를 갖는 기공을 갖는 저반사 코팅막의 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 구형 마이셀의 직경은 상기 제 2 고분자의 농도에 따라 조절되는 것을 특징으로 하는 기공을 갖는 저반사 코팅막의 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 공동의 구들을 배열하는 단계는, 상기 제 1 고분자에 대한 상기 제 2 고분자의 혼합 비율에 따라 상기 기공의 직경이 조절되는 것을 특징으로 하는 기공을 갖는 저반사 코팅막의 제조 방법
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제 9 항에 있어서, 상기 공동의 구들을 배열하는 단계는, 상기 구형 마이셀의 자기 조립시 용매에 대한 상기 제 1 고분자 및 상기 제 2 고분자의 농도에 따라 상기 기공의 직경이 조절되는 것을 특징으로 하는 기공을 갖는 저반사 코팅막의 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 제 1 고분자는 상기 제 1 고분자는 -X2-(C=X4)-X3-, -NR5-(SO2)-, -CO-NR6-CO-, -O-, -S-, -COOH, -CN, -NR7R8, -OH, 및 -SH 로 이루어지는 군에서 선택되는 관능기를 포함하고,상기 X2 및 X3은 각각 단결합, -NR9-, -O- 또는 -(CR10R11)m- 중 어느 하나일 수 있고,상기 X4는 O 또는 S 중 어느 하나일 수 있으며,상기 R5, R6, R7, R8, R9, R10, 및 R11 은 각각 수소 원자 또는 치환기를 갖는 알킬기를 나타내고, m 은 1 이상의 정수인 기공을 갖는 저반사 코팅막의 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 제 1 고분자는 폴리-2-비닐-피리딘(P2VP), 피리미딘, 2-메틸 피리미딘, 4-메틸 피리미딘, 5-메틸 피리미딘, 4,6-디메틸 피리미딘, 4
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제 9 항에 있어서,상기 제 2 고분자는 신디오택틱폴리스티렌, 폴리스티렌, 설퍼나이트 폴리스티렌, 및 설퍼나이트 실세스퀴옥산 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 기공을 갖는 저반사 코팅막의 제조 방법
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투광성 기판층; 및상기 투광성 기판층 상에 형성되고, 구형 마이셀의 백본을 구성하는 제 1 고분자 및 상기 제 1 고분자에 수소 결합된 측쇄를 구성하는 제 2 고분자가 자기 조립되어 형성된 상기 구형 마이셀로부터 상기 제 1 고분자가 제거되고 잔류하는 상기 제 2 고분자에 의해 형성된 공동의 구들의 배열을 포함하는 기공을 갖으며,상기 제 1 고분자는 피리딘기를 포함하고, 상기 제 2 고분자는 술폰화기를 포함하는 저반사 코팅막을 포함하는 광학 부재
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