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(a) 하기 화학식 1로 표시되는 폴리비닐실라잔 및 하기 화학식 2로 표시되는 이소시아네이트 화합물을 반응시켜 세라믹 수지 전구체를 합성한 후, 광개시제 및 광흡수제를 혼합하여 세라믹 수지 전구체 조성물을 준비하는 단계;(b) 상기 준비된 세라믹 수지 전구체 조성물을 3차원 프린팅하여 성형체를 제조하는 단계; 및 (c) 상기 제조된 성형체를 열처리하여 세라믹 구조체를 제조하는 단계를 포함하고,상기 (a) 단계에서 폴리비닐실라잔 및 이소시아네이트 화합물의 중량비는 6:1 내지 8:1이며,상기 (c) 단계에서 열처리는 700℃ 내지 1000℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는3차원 세라믹 구조체의 제조방법:[화학식 1]상기 화학식 1에서 R1은 수소 또는 비닐기이고, n은 1 내지 10의 정수이며,[화학식 2]상기 화학식 2에서 *R는 치환 또는 비치환된 C1~C10의 알킬 메타크릴레이트기이다
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제1항에 있어서,상기 (a) 단계에서 세라믹 수지 전구체는 하기 화학식 3으로 표시되는3차원 세라믹 구조체의 제조방법:[화학식 3]상기 화학식 3에서 R1은 수소 또는 비닐기이고, R2는 실라잔 사슬이고, *R는 치환 또는 비치환된 C1~C10의 알킬 메타크릴레이트기이며, n은 1 내지 10의 정수이다
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제1항에 있어서,상기 (a) 단계에서 광개시제는 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논(2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone), 2-하이드록시-2-메틸프로피오페논(2-hydroxy-2-methylpropiophenone) 및 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥사이드(diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide)를 포함하는 혼합 광개시제인 3차원 세라믹 구조체의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논(2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone), 2-하이드록시-2-메틸프로피오페논(2-hydroxy-2-methylpropiophenone) 및 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥사이드(diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide)의 중량비는 2:1:1 내지 5:2:1인3차원 세라믹 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (a) 단계에서 광흡수제는 2-하이드록시-4-메톡시벤즈페논-5-설폰산(2-hydroxy-4-methoxybenzphenone-5-sulfonic acid; HMBS)를 포함하는3차원 세라믹 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (b) 단계에서 3차원 프린팅은 다중 디지털 마스크를 광경화시켜 수행되는 것이고, 상기 광경화 시간은 디지털 마스크 40㎛ 두께를 기준으로, 각 디지털 마스크 당 8초 내지 20초인 3차원 세라믹 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (b) 단계에서 성형체를 추가 광경화시키는 단계를 포함하는3차원 세라믹 구조체의 제조방법
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제1항에 따른 방법을 이용하여 제조된 고온 화학반응용 세라믹 마이크로반응기
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제10항에 있어서, 상기 고온 화학반응은 450℃ 내지 1000℃에서 수행되는고온 화학반응용 세라믹 마이크로반응기
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제10항에 있어서, 상기 세라믹 반응기는 다층 모놀리식인 고온 화학반응용 세라믹 마이크로반응기
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