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다파장 광 주사 간섭계를 이용한 3차원 형상 측정장치(3-Dimensional Shape Measuring Apparatus Using Multi Wavelength Lights Scanning Interferometry)

  • 기술번호 : KST2017018629
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 다파장 광 주사 간섭계를 이용한 3차원 형상 측정장치에 관한 것으로서, 적어도 2개 이상의 서로 다른 파장대역의 광을 조사하는 광원과, 상기 광원에서 조사된 광을 분리하는 광 분리기, 상기 광 분리기의 하단에 배치되어 상기 광 분리기에서 반사된 광이 조사되는 시료, 상기 광분리기에서 투과된 광의 경로 상에 배치되고, 상기 광의 파장대역 개수에 상응하는 개수의 기준광을 제공하는 기준 거울부, 상기 시료에서 반사된 측정광과 상기 기준 거울부에서 반사된 기준광들을 수신하고, 수신된 이미지를 파장대역별로 분리하여 출력하는 측정부 및, 상기 측정부로부터 제공되는 측정광과 기준광에 의해 생성된 서로 다른 파장대역별 간섭 이미지를 분석함으로써, 서로 다른 높이 영역에 대한 측정 시료의 높이를 동시에 계산하는 3차원 형상 생성 단말을 포함하여 구성되고, 상기 측정 시료를 측정 시료의 전체 높이 보다 작은 이동 범위에서 높이 방향으로 이동시키면서 높이 측정 과정을 반복적으로 수행하되, 상기 파장대역 개수가 많을수록 측정 시료의 이동 범위가 보다 작게 설정되는 것을 특징으로 한다.본 발명에 따르면, 스캔 시간이 현저하게 감소됨에 따라 검사시간이 단축되고 그에 따라 수율이 현저하게 향상됨과 아울러, 스캔을 위한 시료 또는 기준 거울의 이동거리가 감소됨에 따라 구동계 제작 비용이 감소되어 제조원가를 낮출 수 있는 효과가 있다.
Int. CL G01N 21/88 (2006.01.01) H04N 5/335 (2011.01.01) G01B 11/14 (2006.01.01) G01B 11/16 (2006.01.01)
CPC G01N 21/8806(2013.01) G01N 21/8806(2013.01) G01N 21/8806(2013.01) G01N 21/8806(2013.01)
출원번호/일자 1020160062277 (2016.05.20)
출원인 주식회사 미르기술, 선문대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1804527-0000 (2017.11.28)
공개번호/일자 10-2017-0131084 (2017.11.29) 문서열기
공고번호/일자 (20171205) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.05.20)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 미르기술 대한민국 경기도 군포시 고산로 ***, 제*
2 선문대학교 산학협력단 대한민국 충청남도 아산시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김기영 대한민국 경기도 군포시 고산로 ***, *
2 윤종극 대한민국 경기도 군포시 고산로 ***, *
3 유상혁 대한민국 경기도 군포시 고산로 ***, *
4 박윤창 대한민국 충청남도 천안시 서북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유한) 해담 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***, **층 *호(역삼동, 송촌빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 미르기술 경기도 군포시 고산로 ***, 제*
2 선문대학교 산학협력단 충청남도 아산시
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.05.20 수리 (Accepted) 1-1-2016-0487350-53
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2016.05.25 수리 (Accepted) 1-1-2016-0500439-79
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2017.03.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.05.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0314144-23
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.05.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2017-0063873-46
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2017.06.22 수리 (Accepted) 1-1-2017-0598450-25
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.08.01 수리 (Accepted) 1-1-2017-0742241-80
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.08.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0742287-79
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.08.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0587429-65
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.08.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0820502-10
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5151473-45
12 등록결정서
Decision to grant
2017.09.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0673335-12
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.02.18 수리 (Accepted) 4-1-2019-5030972-36
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.26 수리 (Accepted) 4-1-2019-5169188-72
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5136355-52
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
적어도 2개 이상의 서로 다른 파장대역의 광을 조사하는 광원;상기 광원에서 조사된 광을 분리하는 광 분리기;상기 광 분리기의 하단에 배치되어 상기 광 분리기에서 반사된 광이 조사되는 시료;상기 광분리기에서 투과된 광의 경로 상에 배치되고, 상기 광의 파장대역 개수에 상응하는 개수의 기준광을 제공하는 기준 거울부; 상기 시료에서 반사된 측정광과 상기 기준 거울부에서 반사된 기준광들을 수신하고, 수신된 이미지를 파장대역별로 분리하여 출력하는 측정부; 및상기 측정부로부터 제공되는 측정광과 기준광에 의해 생성된 서로 다른 파장대역별 간섭 이미지를 분석함으로써, 서로 다른 높이 영역에 대한 측정 시료의 높이를 동시에 계산하는 3차원 형상 생성 단말을 포함하여 구성되고,상기 측정 시료를 측정 시료의 전체 높이 보다 작은 이동 범위에서 높이 방향으로 이동시키면서 높이 측정 과정을 반복적으로 수행하되, 상기 파장대역 개수가 많을수록 측정 시료의 이동 범위가 보다 작게 설정되는 것을 특징으로 다파장 광 주사 간섭계를 이용한 3차원 형상 측정장치
2 2
제 1 항에 있어서,상기 측정부는 컬러 이미지 센서인 것을 특징으로 하는 다파장 광 주사 간섭계를 이용한 3차원 형상 측정장치
3 3
제 1 항에 있어서,상기 기준 거울부는 제 1 파장대역 이상의 빛을 반사시키는 제 1 광 필터; 상기 제 1 광 필터에서 반사된 빛이 조사되는 위치에 배치되어 제 1 기준광을 제공하는 제 1 기준 거울;상기 제 1 광 필터를 통과한 빛이 조사되는 위치에 배치되어 제 2 기준광을 제공하는 제 2 기준 거울을 포함하는 것을 특징으로 하는 다파장 광 주사 간섭계를 이용한 3차원 형상 측정장치
4 4
제 3 항에 있어서,상기 기준 거울부는상기 광분리기와 제 1 광 필터 간의 거리를 c, 제 1 광 필터와 제 1 기준 거울 간의 거리를 a, 제 1 광 필터와 제 2 기준 거울 간의 거리를 b, 광분리기와 시료 최상단 간의 거리를 ℓ1, 광분리기와 시료 높이의 중간 지점 간의 거리를 ℓ2라고 할 때, ℓ1 = c + aℓ2 = c + b의 관계를 만족하는 위치에 설치되는 것을 특징으로 하는 다파장 광 주사 간섭계를 이용한 3차원 형상 측정장치
5 5
제 1 항에 있어서,상기 기준 거울부는 제 1 파장대역 이상의 빛을 반사시키는 제 1 광 필터; 상기 제 1 광 필터에서 반사된 빛이 조사되는 위치에 배치되어 제 1 기준광을 제공하는 제 1 기준 거울;상기 제 1 광 필터를 통과한 빛의 경로 상에 배치되어 상기 제 1 파장대역보다 낮은 제 2 파장대역 이상의 빛을 반사시키는 제 2 광 필터;상기 제 2 광 필터를 통과한 빛의 경로 상에 배치되어 제 2 기준광을 제공하는 제 2 기준 거울;상기 제 2 광 필터에서 반사된 빛이 조사되는 위치에 배치되어 제 3 기준광을 제공하는 제 3 기준 거울을 포함하는 것을 특징으로 하는 다파장 광 주사 간섭계를 이용한 3차원 형상 측정장치
6 6
제 5 항에 있어서,상기 기준 거울부는상기 광분리기와 제 1 광 필터 간의 거리를 ℓa, 제 1 광 필터와 제 1 기준 거울 간의 거리를 ℓR, 제 1 광 필터와 제 2 광 필터 간의 거리를 ℓb, 제 2 광 필터와 제 2 기준 거울 간의 거리를 ℓB, 제 2 광 필터와 제 3 기준 거울 간의 거리를 ℓG, 광분리기와 시료 최상단 간의 거리를 ℓ1, 광분리기와 시료 높이의 2/3 지점 간의 거리를 ℓ2, 광분리기와 시료 높이의 1/3 지점 간의 거리를 ℓ3라고 할 때, ℓ1 = ℓa + ℓb + ℓBℓ2 = ℓa + ℓb + ℓGℓ3 = ℓa + ℓR 의 관계를 만족하는 위치에 설치되는 것을 특징으로 하는 다파장 광 주사 간섭계를 이용한 3차원 형상 측정장치
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1 WO2017200226 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 TW201741617 TW 대만 DOCDBFAMILY
2 TWI639808 TW 대만 DOCDBFAMILY
3 WO2017200226 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 ㈜ 미르기술 산업핵심기술개발사업 대면적 복합 적층형 Sip(System in Package) 공정 검사 장비 개발