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하기 화학식 1로 표시되는 구조를 갖는 제1 고분자, 및 제2 고분자를 포함하는 것을 특징으로 하는 기체 분리막으로서,상기 제1 고분자는 직경이 300 내지 800 nm인 구형 입자인 것을 특징으로 하는 기체 분리막:[화학식1]상기 화학식 1에서 n= 120-140, x= 1-2, y= 4657-12241 이다
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제2항에 있어서,상기 제1 고분자는 폴리4-비닐피리딘 세그먼트로 구성된 코어, 및상기 코어를 감싸며 폴리디메틸실록산 세그먼트로 구성된 쉘을 포함하는 코어-쉘 구조인 것을 특징으로 하는 기체 분리막
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제2항에 있어서,상기 제2 고분자는 폴리디메틸실록산인 것을 특징으로 하는 기체 분리막
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제2항에 있어서,상기 기체 분리막은 상기 제2 고분자 매트릭스에 상기 제1 고분자 입자가 분산되어 있는 것을 특징으로 하는 기체 분리막
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(A) 하기 화학식 1로 표시되는 제1 고분자를 제조하는 단계,(B) 상기 제1 고분자 용액과 제2 고분자 용액을 혼합하는 단계, 및(C) 상기 혼합하는 단계에서 얻어지는 혼합물을 지지체 상에 코팅하여 막으로 제조하는 단계를 포함하며,상기 (A) 단계는 폴리디메틸실록산 단량체, 4-비닐피리딘 단량체, 및 개시제를 용매에 용해시킨 후, 자유 라디칼 중합으로 반응시키는 것을 특징으로 하는 기체 분리막의 제조방법:[화학식 1]상기 화학식 1에서 n= 120-140, x= 1-2, y= 4657-12241 이다
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제7항에 있어서,상기 폴리디메틸실록산 단량체와 상기 4-비닐피리딘 단량체는 8 : 2 내지 2 : 8의 부피 비율로 반응시키는 것을 특징으로 하는 기체 분리막의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 (B) 단계에서 상기 제1 고분자 및 상기 제2 고분자는 용매에 각각 분산시킨 후에 혼합하는 것을 특징으로 하는 기체 분리막의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 용매는 사이클로헥세인, 노말 헥세인, 톨루엔, 에틸 아세테이트 및 테트라하이드로퓨란 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 기체 분리막의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 (B) 단계의 제2 고분자는 폴리디메틸실록산과 가교제를 용매에 용해시킨 후, 상온에서 1 내지 10일 동안 교반하여 숙성(aging)시킨 것을 사용하는 것을 특징으로 하는 기체 분리막의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 제2 고분자는 폴리디메틸실록산인 것을 특징으로 하는 기체 분리막의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 지지체는 폴리설폰, 폴리에스터설폰, 폴리이미드, 폴리에스터이미드, 및 폴리아크릴로니트릴 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 기체 분리막의 제조방법
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제2항 내지 제3항 및 제5항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 기체 분리막을 포함하는 기체 분리 장치
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제2항 내지 제3항 및 제5항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 기체 분리막을 포함하는 이산화탄소 포집 장치
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