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기재 상에 포토레지스트층을 형성하는 단계;상기 형성된 포토레지스트층에 3 차원 광간섭 리소그래피를 이용하여 3 차원 다공성 패턴을 형성하는 단계;상기 형성된 3 차원 다공성 패턴에 무기물을 코팅하고, 상기 무기물이 코팅된 3 차원 다공성 패턴을 탄화시켜 3 차원 다공성 탄소 구조체를 수득하는 단계; 및,상기 3 차원 다공성 탄소 구조체를 산으로 처리하여 상기 무기물을 제거한 후, 상기 3 차원 다공성 탄소 구조체의 표면을 박리 및 산처리하여, 상기 박리에 의해 상기 기재에서 상기 3 차원 다공성 탄소 구조체를 분리시키고, 상기 산처리에 의해 상기 3 차원 다공성 탄소 구조체의 표면을 친수성으로 형성한 후 망간산화물을 코팅하는 단계를 포함하는, 망간산화물-코팅된 3 차원 다공성 탄소 구조체의 제조 방법으로서,상기 3 차원 다공성 탄소 구조체에 상기 망간산화물을 코팅하는 것은, 상기 3 차원 다공성 탄소 구조체를 망간산화물 전구체 용액에 침지시켜 상기 망간산화물 전구체의 산화 환원 반응에 의하여 상기 3 차원 다공성 탄소 구조체 표면에 상기 망간산화물이 코팅되는 것인,망간산화물-코팅된 3 차원 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 3 차원 다공성 패턴을 형성하는 단계는, 상기 포토레지스트층에 3 차원 광간섭 패턴을 조사한 후 상기 포토레지스트층을 현상하는 것을 포함하는 것인, 망간산화물-코팅된 3 차원 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제 2 항에 있어서,상기 포토레지스트층을 현상하는 것은, 상기 포토레지스트층에 상기 3 차원 광간섭 패턴을 조사하여 가교시킨 후, 상기 가교된 부분을 제외한 포토레지스트층을 제거하는 것을 포함하는 것인, 망간산화물-코팅된 3 차원 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 3 차원 다공성 패턴 또는 상기 3 차원 다공성 탄소 구조체는 3 차원으로 배열된 기공을 포함하는 것인, 망간산화물-코팅된 3 차원 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제 4 항에 있어서,상기 기공은 규칙적으로 배열된 3 차원 면심입방 구조로 형성되는 것인, 망간산화물-코팅된 3 차원 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 3 차원 다공성 패턴에 무기물을 코팅하는 단계는, 상기 3 차원 다공성 패턴에 수분을 흡착시킨 후 무기물 전구체를 포함하는 증기에 노출하는 것을 1 회 이상 수행한 후, 소결 공정에 의하여 상기 수분을 제거함으로써 상기 무기물을 코팅하는 것을 포함하는 것인, 망간산화물-코팅된 3 차원 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 무기물은 실리카, 타이타니아, 지르코니아, 알루미나, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것인, 망간산화물-코팅된 3 차원 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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삭제
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3 차원 다공성 탄소 구조체의 표면에 코팅된 망간산화물을 포함하는, 망간산화물-코팅된 3 차원 다공성 탄소 구조체로서,제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의하여 제조되는,망간산화물-코팅된 3 차원 다공성 탄소 구조체
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제 9 항에 있어서,상기 3 차원 다공성 탄소 구조체는 3 차원으로 배열된 기공을 포함하는 것인, 망간산화물-코팅된 3 차원 다공성 탄소 구조체
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