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플라즈마-촉매 방식의 스크러버(PLASMA-CATALYST TYPE SCRUBBER)

  • 기술번호 : KST2018000334
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 목적은 촉매의 길이 방향에서 온도 편차를 극복하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버를 제공하는 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마촉매 방식의 스크러버는, 전기 에너지로 방전기체를 플라즈마 아크의 열 에너지로 변환하고 일측으로 유입되는 처리기체를 열 에너지로 가열하는 플라즈마 반응부, 및 상기 플라즈마 반응부에서 가열된 처리기체를 유입하여 촉매 반응으로 처리기체에 포함된 오염물질을 분해하는 촉매 반응부를 포함한다.
Int. CL H01L 21/02 (2006.01.01) B01D 53/32 (2006.01.01) B01D 53/86 (2006.01.01) B01D 47/06 (2006.01.01) B01D 53/78 (2006.01.01) B01D 53/68 (2006.01.01) H05H 1/46 (2006.01.01) H01L 21/67 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020170181438 (2017.12.27)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0001552 (2018.01.04) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2015-0155260 (2015.11.05)
관련 출원번호 1020150155260
심사청구여부/일자 Y (2020.11.02)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이대훈 대한민국 대전광역시 유성구
2 송영훈 대한민국 대전광역시 유성구
3 김관태 대한민국 대전광역시 서구
4 조성권 대한민국 세종특별자치시 갈매로 ***,
5 변성현 대한민국 서울특별시 강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 팬코리아특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 역삼***빌딩 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2017.12.27 수리 (Accepted) 1-1-2017-1300324-50
2 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.11.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-1167409-93
3 [심사청구]심사청구서·우선심사신청서
2020.11.02 수리 (Accepted) 1-1-2020-1167410-39
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
전기 에너지로 방전기체를 플라즈마 아크의 열 에너지로 변환하고 일측으로 유입되는 처리기체를 열 에너지로 가열하는 플라즈마 반응부; 및상기 플라즈마 반응부에서 가열된 처리기체를 유입하여 촉매 반응으로 처리기체에 포함된 오염물질을 분해하는 촉매 반응부를 포함하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
2 2
제1항에 있어서,상기 촉매 반응부는,가열된 처리기체가 흐르는 길이 방향으로 온도 편차를 해소하는 온도 편차 제거부를 더 포함하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
3 3
제2항에 있어서,상기 촉매 반응부는 하우징에 내장되는 촉매를 포함하고,상기 온도 편차 제거부는,상기 촉매 내에서 상기 길이 방향으로 배치되고 복수의 기체 통로들을 구비하는 튜브를 포함하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
4 4
제3항에 있어서,상기 튜브는상기 길이 방향의 끝을 폐쇄하여 형성되는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
5 5
제2항에 있어서,상기 촉매 반응부는 하우징에 내장되는 촉매를 포함하고,상기 온도 편차 제거부는,상기 하우징의 외주에 배치되는 RF 유도 코일을 포함하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
6 6
제1항에 있어서,상기 플라즈마 반응부와 상기 촉매 반응부 사이에 배치되어, 상기 플라즈마 반응부에서 가열된 처리기체를 상기 촉매 반응부에 균일한 분포로 제어하는 유동 제어부를 더 포함하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
7 7
제6항에 있어서,상기 유동 제어부는상기 플라즈마 반응부와 상기 촉매 반응부를 연결하는 하우징, 및상기 하우징 내에 배치되어 유동을 제어하는 유동판을 포함하며,상기 유동판은상기 플라즈마 반응부 측에 평면으로 형성되어 중앙에 최소 직경부를 구비하고, 상기 최소 직경부에서 단계적으로 확산되어 처리기체의 흐름을 균일하게 하도록 상기 촉매 반응부 측에 최대 직경부를 형성하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
8 8
제6항에 있어서,상기 유동 제어부는상기 플라즈마 반응부와 상기 촉매 반응부를 연결하는 하우징,상기 하우징 내에 배치되어 통로를 형성하는 유동판, 및상기 유동판의 일측에서 상기 통로보다 좁은 미세 통로로 형성되어 처리기체의 흐름을 균일하게 하는 스트레이트너를 포함하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
9 9
제1항에 있어서,상기 촉매 반응부의 외곽에 구비되어 상기 촉매 반응부를 가열하는 히터를 더 포함하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
10 10
제1항에 있어서,상기 촉매 반응부의 후단에 구비되어 상기 플라즈마 반응부로 유입되는 상기 처리기체를 경유시켜 열을 회수하는 열교환부를 더 포함하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
11 11
제1항에 있어서,상기 촉매 반응부의 후단에 구비되어 상기 촉매 반응부에서 처리기체로부터 분해된 오염물질에 물을 분사하여 분해된 오염물질을 물로 고정 처리하는 수처리부를 더 포함하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
12 12
제1항에 있어서,상기 플라즈마 반응부는일측에 제1유입구와 제2유입구를 구비하여 방전기체와 처리기체를 유입하고 좁아지는 목부를 형성하는 하우징, 및상기 하우징 내에 절연 장착되고 구동 전압이 인가되는 전극을 포함하며,상기 하우징은상기 목부에 연결되어 확장된 공간을 형성하고 전기적으로 접지되어 상기 전극에 연결되는 회전 아크를 길게 유도하는 확장부를 더 포함하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
13 13
제12항에 있어서,상기 하우징은상기 목부를 중심으로 상기 전극 측에서 좁아지는 직경보다 상기 확장부에서 확장되는 직경을 더 크게 형성하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
14 14
제1항에 있어서,상기 플라즈마 반응부는일측이 폐쇄된 원통으로 형성되고 구동 전압이 인가되는 전극, 및상기 전극에 연결되고 전기적으로 접지되어 방전갭을 형성하며 상기 방전갭 측에 제1유입구를 구비하여 방전기체를 유입하는 하우징을 포함하며,상기 하우징은상기 전극의 반대측에서 확장된 공간을 형성하는 확장부를 더 포함하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
15 15
제14항에 있어서,상기 하우징은상기 방전갭 측에 제2유입구를 더 구비하여 처리기체를 유입하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
16 16
제14항에 있어서,상기 하우징은상기 확장부 측에 제2유입구를 더 구비하여 처리기체를 유입하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
17 17
제1항에 있어서,상기 플라즈마 반응부는일측이 폐쇄된 원통으로 형성되고 제1유입구와 제2유입구를 구비하여 방전기체와 처리기체를 각각 유입하는 하우징, 및상기 하우징의 외주에 배치되는 RF 유도 코일을 포함하며,상기 하우징은상기 RF 유도 코일의 반대측에서 확장된 공간을 형성하는 확장부를 더 포함하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
18 18
제1항에 있어서,상기 플라즈마 반응부는일측이 폐쇄된 원통으로 형성되고 제1유입구를 구비하여 방전기체를 유입하는 하우징, 및상기 하우징의 외주에 배치되는 RF 유도 코일을 포함하며,상기 하우징은상기 RF 유도 코일의 반대측에서 확장된 공간을 형성하고, 제2유입구를 구비하여 처리기체를 유입하는 확장부를 더 포함하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
19 19
제1항에 있어서,상기 플라즈마 반응부는중심에 길이 방향으로 배치되는 제1전극,상기 제1전극의 외주에 방전갭을 형성하여 길이 방향으로 배치되고 상기 제1전극과의 사이에 제1유입구를 구비하여 방전기체를 유입하는 제2전극, 및원통으로 형성되어 상기 제2전극을 수용하고, 상기 제2전극의 후방에 제2유입구를 구비하여 처리기체를 유입하는 하우징을 포함하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
20 20
제19항에 있어서,상기 제1전극과 상기 제2전극은내부에 냉각수를 순환시키는 냉각수 통로를 구비하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
21 21
플라즈마 아크의 열 에너지로 처리기체를 가열하는 플라즈마 반응부; 및상기 플라즈마 반응부에서 가열된 처리기체에 포함된 오염물질을 촉매 반응으로 분해하는 촉매 반응부를 포함하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
22 22
제21항에 있어서,상기 플라즈마 반응부는일측에 제1유입구와 제2유입구를 구비하여 방전기체와 처리기체를 유입하고 좁아지는 목부를 형성하는 하우징, 및상기 하우징 내에 절연 장착되고 구동 전압이 인가되는 전극을 포함하며,상기 하우징은상기 목부에 연결되어 확장된 공간을 형성하고 전기적으로 접지되어 상기 전극에 연결되는 회전 아크를 길게 유도하는 확장부를 더 포함하는 플라즈마촉매 방식의 스크러버
지정국 정보가 없습니다
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1 KR101688611 KR 대한민국 FAMILY
2 KR101809660 KR 대한민국 FAMILY
3 KR101814770 KR 대한민국 FAMILY
4 WO2016204522 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 기계연구원 융합연구사업-국가연구개발사업 저탄소/저공해를 위한 나노촉매-플라즈마 하이브리드 기술개발 (5/5)