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고정확 실시간 미세 입자 크기 및 개수 측정 장치(High accuracy real-time particle counter)

  • 기술번호 : KST2018000410
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 광원부와; 상기 광원부의 전면에 위치하며 집속되는 광을 평행광의 형태로 변형할 수 있도록 하는 Flat-top모듈과; 상기 Flat-top모듈을 통과한 광을 집속하여 유입된 입자에 조사시켜 회절 흡수, 투과, 반사 등의 현상을 발생하는 플로우 채널 및; 상기 플로우 채널을 통과한 입사광을 수광하여 산란 및 소멸광 강도를 감지하여 입자의 크기를 측정하는 광측정부를 포함하는 것으로서, 플로우 채널 내에 유입된 입자에 광을 조사하고 이때 발생되는 산란 및 소멸광의 강도를 이용하여 입자의 크기를 측정함에 있어 Flat-top모듈을 이용하여 집속된 입사광은 r축 방향으로 균일광이고, z축에 따라 변화여도 레지던스 타임(Residence time)을 이용하여 정확한 입자 크기 측정이 가능한 효과를 도모할 수 있도록 하는 실시간 미세 입자 크기 및 개수 측정 장치에 관한 것이다.
Int. CL G01N 15/02 (2016.08.05) G01N 21/85 (2016.08.05)
CPC G01N 15/0211(2013.01) G01N 15/0211(2013.01) G01N 15/0211(2013.01)
출원번호/일자 1020160077117 (2016.06.21)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0000015 (2018.01.02) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.06.21)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강상우 대한민국 대전광역시 유성구
2 문지훈 대한민국 대전광역시 유성구
3 김태완 대한민국 대전광역시 유성구
4 김종호 대한민국 대전광역시동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박지호 대한민국 서울특별시 구로구 디지털로**길 **, ***호(구로동)(특허법인현문)
2 김영호 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길* (역삼동, 조이타워), ***호(대신특허사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.06.21 수리 (Accepted) 1-1-2016-0596589-81
2 보정요구서
Request for Amendment
2016.07.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0100841-32
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2016.07.06 수리 (Accepted) 1-1-2016-0653986-75
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2017.01.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.04.11 수리 (Accepted) 9-1-2017-0011919-34
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.08.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0535910-63
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.09.25 수리 (Accepted) 1-1-2017-0934832-56
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.09.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0934831-11
9 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2017.11.15 수리 (Accepted) 1-1-2017-1135088-42
10 등록결정서
Decision to grant
2018.02.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0109603-60
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
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번호 청구항
1 1
광원부와;상기 광원부의 전면에 위치하며 집속되는 광을 균일한 강도의 형태로 변형할 수 있도록 하는 Flat-top 모듈과;상기 Flat-top 모듈을 통과한 광을 집속하여 유입된 입자에 조사시켜 회절 흡수, 투과, 반사의 현상을 발생하는 플로우채널 및;상기 플로우채널을 통과한 입사광을 수광하여 산란 및 소멸광의 강도를 감지해서 입자의 크기를 측정하는 광측정부를 포함하고,상기 플로우채널 내에 집속하는 광이 균일광으로 z축에 따라 강도가 변하지만, r축 방향으로 일정한 광강도를 가짐으로 인하여 레지던스 타임(Residence time) 및 산란 또는 소멸광 강도를 이용하여 정확한 입자 크기 및 개수를 측정할 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 고정확 실시간 미세 입자 크기 및 개수 측정 장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 Flat-top 모듈은 플로우 채널에 집속되는 r축 방향 광의 강도를 일정하게 하여 입사광의 방향에 따른 균일광으로 인하여 정확한 입자의 크기 및 개수를 측정할 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 고정확 실시간 미세 입자 크기 및 개수 측정 장치
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서, 상기 입자 측정 장치는 미(Mie)이론에 따라 다음 식을 이용하여 입자크기를 산출할 수 있도록 하며, 상기의 식을 적용하였을 때, 입자크기에 대한 산란함수(dp)와 광경로에 대한 입사광 강도 (z)가 변수로 존재하며, 2개의 측정시간(t), 산란강도()를 이용하여 정확한 입자크기를 산출할 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 고정확 실시간 미세 입자 크기 및 개수 측정 장치
5 5
제1항에 있어서, 상기 입자 측정 장치는입사광의 강도()값이 일정할 경우 산란강도()와 소멸강도()는 유일한 변수인 (입자크기)와 상관관계를 갖기 때문에 광측정부를 이용하여 산란광을 측정함으로서 정확한 입자의 크기를 계산할 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 고정확 실시간 미세 입자 크기 및 개수 측정 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국표준과학연구원 국가연개발사업 3-3-2차세대초박막공정용측정기술개발
2 산업통상자원부 코리아스펙트랄프로덕츠(주) 수요자연계형기술개발사업 반도체 디스플레이 공정의 실시간 모니터링을 위한 0.2 ~ 5.0 μm 파장대역 흡광 가스 및 미세 오염입자 정량 측정 광학 진단 시스템 개발 및 상용화