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하기 단계를 포함하는, 기공의 크기가 1 내지 5 ㎛ 및 다공성 막 두께가 14 내지 60 ㎛인 다공성 필터 제조 방법:(a) 다공성 필터의 기공 크기에 대항하여 패턴이 형성된 전기주조용 음극판을 준비하는 단계;(b) 상기 단계 (a)에서 준비된 음극판을 니켈 27 내지 60 중량% 및 팔라듐 40 내지 73 중량%를 포함하는 니켈-팔라듐 합금 도금액에 침지시킨 뒤, 0
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제1항에 있어서, 상기 (b) 단계는, 상기 단계 (a)에서 준비된 음극판을 니켈 40 중량% 및 팔라듐 60 중량%를 포함하는 니켈-팔라듐 합금 도금액에 침지시킨 뒤, 전류를 인가하여 도금막을 형성하는 것을 특징으로 하는, 다공성 필터 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 (b) 단계는, 도금액 온도 35 ℃ 내지 55 ℃의 조건에서 진행되는 것을 특징으로 하는, 다공성 필터 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 (b) 단계는, 도금 시간 40 분 내지 65 분의 조건에서 진행되는 것을 특징으로 하는, 다공성 필터 제조 방법
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제3항에 있어서, 상기 (b) 단계는, 도금액 온도 39 ℃ 내지 48 ℃의 조건에서 진행되는 것을 특징으로 하는, 다공성 필터 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 (b) 단계의 니켈-팔라듐 합금 도금액은 디아민팔라듐디클로라이드 (Pd(NH3)2Cl2), 및 설파민산니켈 4수화물 (Ni(NH2SO3)2·4H2O)을 포함하는 것을 특징으로 하는, 다공성 필터 제조 방법
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제9항에 있어서, 상기 (b) 단계의 니켈-팔라듐 합금 도금액은 염화니켈 (NiCl2)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 다공성 필터 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 (b) 단계는, 상기 단계 (a)에서 준비된 음극판을 니켈-팔라듐 합금 도금액과 1차 광택제에 침지하는 것을 특징으로 하는, 다공성 필터 제조 방법
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제11항에 있어서, 상기 (b) 단계는, 상기 단계 (a)에서 준비된 음극판을 니켈-팔라듐 합금 도금액과 2차 광택제에 침지하는 것을 특징으로 하는, 다공성 필터 제조 방법
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제11항에 있어서, 상기 (b) 단계는, 상기 단계 (a)에서 준비된 음극판을 니켈-팔라듐 합금 도금액과 완충제에 침지하는 것을 특징으로 하는, 다공성 필터 제조 방법
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제11항에 있어서, 상기 (b) 단계는, 상기 단계 (a)에서 준비된 음극판을 니켈-팔라듐 합금 도금액과 계면활성제에 침지하는 것을 특징으로 하는, 다공성 필터 제조 방법
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제11항에 있어서, 상기 1차 광택제는 탄닌산 (C28H22O11)인 것을 특징으로 하는, 다공성 필터 제조 방법
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제12항에 있어서, 상기 2차 광택제는 1,4-부탄티올 (OH(CH2)4OH)인 것을 특징으로 하는, 다공성 필터 제조 방법
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제13항에 있어서, 상기 완충제는 붕산 (H3BO3)인 것을 특징으로 하는, 다공성 필터 제조 방법
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제14항에 있어서, 상기 계면활성제는 라우릴황산나트륨 (Sodium lauryl sulfate)인 것을 특징으로 하는, 다공성 필터 제조 방법
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제1항 내지 제3항, 제5항, 제6항 및 제9항 내지 제18항 중 어느 한 항의 제조방법에 의하여 형성되는 기공의 크기가 1 내지 5 ㎛ 및 다공성 막 두께가 14 내지 60 ㎛인 다공성 필터
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제19항에 있어서, 상기 다공성 필터는 복수개의 기공을 갖는 것을 특징으로 하는, 다공성 필터
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제19항의 다공성 필터를 포함하는 미세분무 장치
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