1 |
1
(a) 같거나 또는 상이한 직경(D)을 갖는 1종 또는 2종 이상의 관통홀(through-hole, H)을 포함하는 탄성박막을 준비하는 단계; 및(b) 상기 탄성박막의 관통홀(H)에 입자(P)를 도입하고, 상기 탄성박막의 표면에 잔류하는 입자(P)를 제거하는 단계;를 포함하고,단계 (b)가상기 입자(P)를 상기 탄성박막 상에 위치시키고, 고무로 문질러 상기 입자(P)를 상기 관통홀(H)에 도입하고, 에어 건(air gun)으로 상기 탄성박막의 표면에 잔류하는 입자(P)를 제거하는 단계인 것인 박막 복합체의 제조방법
|
2 |
2
제1항에 있어서,상기 관통홀(H) 중 소정의 관통홀(H1)에 위치한 상기 입자(P) 중 소정의 입자(P1)의 직경(D1')이 상기 소정의 관통홀(H1)의 직경(D1)의 80 내지 100%인 것을 특징으로 하는 박막 복합체의 제조방법
|
3 |
3
제2항에 있어서,상기 입자(P)의 직경(D')이 30 내지 100 ㎛인 것을 특징으로 하는 박막 복합체의 제조방법
|
4 |
4
제1항에 있어서,상이한 직경(D)을 갖는 상기 관통홀(H)의 종류의 개수(n)에 따라 상이한 직경(D')을 갖는 상기 입자(P)의 종류의 개수(n')가 결정되는 것을 특징으로 하는 박막 복합체의 제조방법
|
5 |
5
제4항에 있어서,상기 관통홀(H)의 종류의 개수(n)와 상기 입자(P)의 종류의 개수(n')가 동일한 것을 특징으로 하는 박막 복합체의 제조방법
|
6 |
6
제1항에 있어서,상기 탄성박막의 모듈러스가 0
|
7 |
7
제6항에 있어서,상기 탄성박막의 택 에너지(tack energy)가 3 내지 15 gf mm인 것을 특징으로 하는 박막 복합체의 제조방법
|
8 |
8
제7항에 있어서,상기 탄성박막이 PUA(polyurethane acrylate), PMMA(polymethyl methacrylate), PB(polybutadiene), PU(polyurethane), SBR(styrene-butadiene rubber), PVDF(polyvinylidene fluoride), PVDF-TrFE(poly(vinylidenefluoride-co-trifluoroethylene)) 및 PEDGA(poly(ethylene glycol) diacrylate) 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 복합체의 제조방법
|
9 |
9
제1항에 있어서,상기 관통홀(H)의 횡단면이 원, 타원 또는 다각형인 것을 특징으로 하는 박막 복합체의 제조방법
|
10 |
10
제9항에 있어서,상기 다각형은 m각형이고, m은 6 내지 20의 정수 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 박막 복합체의 제조방법
|
11 |
11
삭제
|
12 |
12
삭제
|
13 |
13
제1항에 있어서, 상기 박막복합체가상이한 직경(D)을 갖는 2종 이상의 관통홀(through-hole, H)을 포함하는 탄성박막; 및상기 관통홀(H)에 위치하고, 상이한 직경(D')을 갖는 2종 이상의 입자(P);를포함하는 것을 특징으로 하는 박막 복합체의 제조방법
|
14 |
14
삭제
|
15 |
15
제4항에 있어서,상기 입자(P)의 종류의 개수(n')에 따라 단계 (b)를 n'번 반복하는 것을 특징으로 하는 박막 복합체의 제조방법
|
16 |
16
제15항에 있어서,단계 (b)가 상기 입자(P)의 종류 중 직경이 가장 큰 입자(P)부터 순서대로 반복되는 것을 특징으로 하는 박막 복합체의 제조방법
|
17 |
17
삭제
|
18 |
18
제1항에 있어서, 상기 고무가 PUA(polyurethane acrylate), PMMA(polymethyl methacrylate), PB(polybutadiene), PU(polyurethane), SBR(styrene-butadiene rubber), PVDF(polyvinylidene fluoride), PVDF-TrFE(poly(vinylidenefluoride-co-trifluoroethylene)) 및 PEDGA(poly(ethylene glycol) diacrylate) 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 박막 복합체의 제조방법
|
19 |
19
제1항에 있어서, 단계 (a)가 (a-1) 기판 상에 포토레지스트를 형성하는 단계;(a-2) 상기 관통홀(H)에 대응하는 패턴을 갖는 포토마스크를 상기 포토레지스트 상에 위치시키는 단계; (a-2) 상기 포토마스크 상에 자외선을 조사하여 상기 포토레지스트의 일부를 제거하는 단계; 및 (a-3) 상기 포토레지스트가 일부 제거된 기판 상에 광경화성 고분자를 도포하고, 자외선을 조사하여 탄성박막을 제조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 복합체의 제조방법
|
20 |
20
제1항의 박막 복합체의 제조방법을 포함하는 전자 소자의 제조방법
|