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도파민계 중합체가 코팅된 입자, 이를 포함하는 입자층, 이를 포함하는 전극 및 이들의 제조 방법(Powder comprising surface coating layer, Electrode using the same and Manufacturing method thereof)

  • 기술번호 : KST2018000845
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 도파민계 중합체가 코팅된 입자 및 이를 포함하는 전극은 자가중합 도파민계 중합체 입자가 배제됨으로써 바인더와의 우수한 결착력을 가지면서도 높은 전도성을 가지는 효과가 있다.
Int. CL H01M 4/36 (2016.08.18) H01M 4/13 (2016.08.18) H01M 4/62 (2016.08.18) H01M 10/052 (2016.08.18)
CPC H01M 4/366(2013.01) H01M 4/366(2013.01) H01M 4/366(2013.01) H01M 4/366(2013.01) H01M 4/366(2013.01)
출원번호/일자 1020160088362 (2016.07.13)
출원인 한밭대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0007410 (2018.01.23) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020180014623;
심사청구여부/일자 Y (2016.07.13)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한밭대학교 산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이용민 대한민국 대전광역시 유성구
2 유명현 대한민국 대전광역시 유성구
3 송다노 대한민국 충청남도 서천군
4 진다희 대한민국 대전광역시 중구
5 황수연 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 플러스 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한밭대학교 산학협력단 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2016.07.13 수리 (Accepted) 1-1-2016-0676140-50
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2017.04.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.04.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5058417-94
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2017-5065033-29
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2017.05.11 수리 (Accepted) 9-1-2017-0014201-97
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2017.12.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0839862-11
7 [공지예외적용 보완 증명서류]서류제출서
 2017.12.07 수리 (Accepted) 1-1-2017-1219424-38
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2017.12.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-1219354-30
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2017.12.07 수리 (Accepted) 1-1-2017-1219361-50
10 [출원서 등 보정(보완)]보정서
 2017.12.07 수리 (Accepted) 1-1-2017-1219381-63
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2018.01.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0064984-40
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2018.02.06 수리 (Accepted) 1-1-2018-0131335-43
13 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2018.02.06 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2018-0131460-42
14 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2018.02.06 수리 (Accepted) 1-1-2018-0131394-26
15 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2018.02.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0105046-45
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.12 수리 (Accepted) 4-1-2019-5072792-98
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
a) 도파민계 단량체를 포함하는 용액을 도전성 입자 또는 활물질 입자에 코팅 후 바로 감압여과하는 단계 및b) 상기 감압여과를 통해 수득된 도파민계 단량체가 표면에 형성된 도전성 입자 또는 활물질 입자를 표면중합하는 단계를 포함하는 도파민계 중합체가 코팅된 입자의 제조 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 a) 단계의 코팅은 순간분산으로 수행되는 도파민계 중합체가 코팅된 입자의 제조 방법
3 3
제2항에 있어서,상기 순간분산 시에 상기 용액과 상기 도전성 입자 또는 활물질 입자의 접촉시간은 3 분 이하인 도파민계 중합체가 코팅된 입자의 제조 방법
4 4
제1항에 있어서,상기 a) 단계의 감압여과는 잉여의 도파민계 단량체를 포함하는 용액을 제거하는 것인 도파민계 중합체가 코팅된 입자의 제조 방법
5 5
제1항에 있어서,상기 도파민계 중합체층의 평균두께는 1 nm 이하인 도파민계 중합체가 코팅된 입자의 제조 방법
6 6
삭제
7 7
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8 8
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9 9
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10 10
삭제
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR101876801 KR 대한민국 FAMILY

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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한국전자통신연구원 에너지국제공동연구 덴드라이트 억제를 위한 이온분포제어형 전해질 및 미세패턴 전극기술 기반 리튬금속 이차전지 기술 개발
2 교육부 한밭대학교 산학협력단 지역혁신인력양성사업 플렉시블 리튬이차전지용 메탈파이버 집전체 개발