| 1 |
1
기판 상에 코팅층을 형성하는 단계;상기 코팅층 상에 실크 단백질이 포함된 실크 단백질 용액을 도포하는 단계; 및상기 실크 단백질 용액을 도포한 기판을 건조하여 자가 조립 실크 단백질을 제조하는 단계;를 포함하는 자가 조립 나노 구조체의 제조방법으로서,상기 코팅층은 실리카 전구체, 및 (+) 전하를 갖는 화합물을 포함하고, 상기 실크 단백질 용액의 농도는 0
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 자가 조립 나노 구조체는 프랙탈 차원(fractal dimension)이 1
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 기판은 상부가 평평하게 평탄화된 것이 특징인, 자가 조립 나노 구조체의 제조방법
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 기판은 유리, 실리콘 웨이퍼(silicon wafer) 및 금속으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상인, 자가 조립 나노 구조체의 제조방법
|
| 5 |
5
삭제
|
| 6 |
6
제1항에 있어서, 상기 실리카 전구체는 TEOS(tetraethyl orthosilicate), TMOS(trimethoxy orthosilicate), GPTMS((3-glycidoxypropyl)methyl diethoxysilane), MPS(3-mercaptopropyl trimethoxysilane), GOTMS(γ-glycidyloxypropyl trimethoxysilane), 및 APTMOS(aminophenyl trimethoxysilane)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상인, 자가 조립 나노 구조체의 제조방법
|
| 7 |
7
제1항에 있어서, 상기 (+)전하를 갖는 화합물은 APTES(3-aminopropyl triethoxysilane), AEAPMDMS(N(beta-aminoethyl)gamma-aminopropylmethyldimethoxysilane), 또는 그의 혼합인, 자가 조립 나노 구조체의 제조방법
|
| 8 |
8
제1항에 있어서, 상기 실리카 전구체 대 (+)전하를 갖는 화합물의 부피비는 1 대 0
|
| 9 |
9
제1항에 있어서, 상기 코팅층은 졸-겔 코팅법, 화학 증기 증착(Chemical Vapor Deposition, CVD)법, 물리 증기 증착(Physical Vapor Deposition, PVD)법, 플라즈마 코팅(plasma coating)법, 전기도금법, 또는 표면질화처리(surface nitriding)법으로 형성된 것이 특징인, 자가 조립 나노 구조체의 제조방법
|
| 10 |
10
제1항에 있어서, 상기 실크 단백질은 실크 피브로인인, 자가 조립 나노 구조체의 제조방법
|
| 11 |
11
제1항에 있어서, 상기 실크 단백질은 뽕나무 봄빅스 모리(Bombyx mori) 실크 고치로부터 수득한 것이 특징인, 자가 조립 나노 구조체의 제조방법
|
| 12 |
12
제1항에 있어서, 상기 실리카 전구체 대 (+)전하를 갖는 화합물의 부피비는 75 대 25인, 자가 조립 나노 구조체의 제조방법
|
| 13 |
13
제1항에 있어서,DLA(Diffusion Limited Aggregation) 형태를 갖는 것이 특징인, 자가 조립 나노 구조체의 제조방법
|
| 14 |
14
제1항 내지 제4항, 및 제6항 내지 제13항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 자가 조립 나노 구조체를 포함하는, 생체 복합 재료
|
| 15 |
15
제1항 내지 제4항, 및 제6항 내지 제13항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 자가 조립 나노 구조체를 포함하는, 신경 재생용 조성물
|
| 16 |
16
제1항 내지 제4항, 및 제6항 내지 제13항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 자가 조립 나노 구조체를 포함하는, 세포 배양용 조성물
|
