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하기 화학식 1로 표시되는 화합물, 또는 이의 염:[화학식 1]상기 화학식 1에서, R은 각각 독립적으로, -R1, -NH-CO-R2, 또는 -NH-R2이고,R1은 각각 독립적으로, C6-60 아릴, C1-10 알킬, 또는 아미노산 잔기이고,R2는 C1-10 알킬, C6-60 아릴, 또는 N, O 및 S 중 어느 하나를 포함하는 C4-60 헤테로아릴이다
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제1항에 있어서, R1은 각각 독립적으로, 페닐, 나프틸, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, 터트-부틸, 펜틸, 터트-펜틸, 네오펜틸, 이소펜틸, sec-펜틸, 3-펜틸, 또는 알라닌, 시스테인, 아스파르트산, 글루탐산, 페닐알라닌, 히스티딘, 아이소류신, 라이신, 류신, 메티오닌, 아스파라긴, 피롤라이신, 글루타민, 아르기닌, 세린, 트레오닌, 셀레노시스테인, 발린, 트립토판, 타이로신으로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 아미노산의 잔기인 것을 특징으로 하는, 화합물
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제1항에 있어서, R2는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, 터트-부틸, 펜틸, 터트-펜틸, 네오펜틸, 이소펜틸, sec-펜틸, 3-펜틸, 헥실, 옥틸, 페닐, 나프틸, 또는 피리디닐인 것을 특징으로 하는,화합물
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제1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은, 하기 화학식 1-2 내지 1-5로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는, 화합물:[화학식 1-2][화학식 1-3][화학식 1-4][화학식 1-5]
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1) 하기 화학식 1'로 표시되는 화합물, 하기 화학식 2'로 표시되는 화합물 및 트리플루오로아세트산을 반응시켜, 하기 화학식 3'로 표시되는 화합물을 제조하는 단계; 및2) 하기 화학식 3'로 표시되는 화합물을 하기 화학식 4'로 표시되는 화합물과 반응시키는 단계를 포함하는,하기 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조 방법:[화학식 1][화학식 1'][화학식 2'][화학식 3'][화학식 4']상기 화학식 1 및 4'에서, R의 정의는 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 정의된 바와 같다
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