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광을 조사하는 광원;상기 광원으로부터 조사된 빛이 반사되는 제1빔스플리터;상기 제1빔스플리터에서 반사되어 입사된 평행 빔이 시편 상에 집광되도록 하는 대물렌즈;상기 시편에서 반사되어 대물렌즈 및 제1빔스플리터를 거친 빛이 기설정된 투과율 및 반사율에 따라 분할되는 제2빔스플리터;상기 제2빔스플리터를 통과한 빛의 광 경로상 배치되어 비점 수차를 발생시키는 제1비점수차 발생부;상기 제2빔스플리터에서 반사된 빛을 반사시키는 반사미러;상기 반사미러에서 반사된 빛의 광 경로상에 배치되어 비점 수차를 발생시키는 제2비점수차 발생부;상기 제1비점수차 발생부를 통과한 빛을 검출하는 제1검출기; 및상기 제2비점수차 발생부를 통과한 빛을 검출하는 제2검출기;를 포함하고, 상기 제1검출기 및 제2검출기를 구성하는 수광소자는 동일 기판 상에 장착되며,상기 반사미러의 각도 조절을 통해 상기 제2검출기에 빛이 수광되도록 하는 것을 특징으로 하는 초점위치 오차 검출 장치
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제 1항에 있어서,상기 초점위치 오차 검출 장치는상기 제1비점수차 발생부가 제1콜리메이션 렌즈 및 제1실린더 렌즈로 이루어지며,상기 제2비점수차 발생부가 제2콜리메이션 렌즈 및 제2실린더 렌즈로 이루어지는 것을 특징으로 하는 초점위치 오차 검출 장치
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제 5항에 있어서,상기 제1비점수차 발생부 및 제2비점수차 발생부는서로 다른 설계 값을 갖는 것을 특징으로 하는 초점위치 오차 검출 장치
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제 6항에 있어서,상기 설계 값은제1콜리메이션 렌즈, 제1실린더 렌즈, 제2콜리메이션 렌즈, 제2실린더 렌즈 각각의 초점거리와,제1콜리메이션 렌즈, 제1실린더 렌즈 및 제1검출기 간의 거리와,제2콜리메이션 렌즈, 제2실린더 렌즈 및 제2검출기 간의 거리인 것을 특징으로 하는 초점위치 오차 검출 장치
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제 6항에 있어서,상기 제2빔스플리터는투과율 k값과, 반사율 1-k 값을 가지는 것을 특징으로 하는 초점위치 오차 검출 장치
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제 8항에 있어서,상기 초점위치 오차 검출 장치는상기 제1검출기 및 제2검출기에서 얻어진 초점 위치 오차 값의 연산으로 최종 초점위치 오차 값을 계산하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초점위치 오차 검출 장치
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제 9항에 있어서,상기 초점위치 오차 검출 장치는상기 제1비점수차 발생부 및 제2비점수차 발생부의 설계 값과, 상기 제2빔스플리터의 투과율 및 반사율을 설정하는 k값의 변화에 따라, 상기 제어부에서 계산되는 초점위치 오차의 선형범위 및 유효범위가 조절되는 것을 특징으로 하는 초점위치 오차 검출 장치
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제 1항, 제5항, 제6항, 제7항, 제8항, 제9항 및 제10항 중 선택되는 어느 한 항의 초점위치 오차 검출장치에서, 초점위치 오차 신호를 검출하는 방법에 있어서,광원에서 조사된 빛이 시편에서 반사된 다음, 대물렌즈 및 제1빔스플리터를 거쳐 제2빔스플리터에 도달하는 제1단계;상기 제2빔스플리터에서 기설정된 광량의 비율에 따라 투과된 빛은 제1비점수차 발생부를 통과하고, 반사된 빛은 제2비점수차 발생부를 통과하는 제2단계;상기 제1비점수차 발생부 및 제2비점수차 발생부를 통과한 빛이 제1검출기 및 제2검출기에 수광되어 각각의 초점위치 오차 값이 계산되는 제3단계; 및제어부에서 상기 제1검출기 및 제2검출기에서 얻어진 초점위치 오차 값의 연산을 통해 최종의 초점위치 오차 값을 계산하는 제4단계; 를 포함하는 초점위치 오차 검출 방법
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제 11항에 있어서,상기 제2단계에서는상기 제2빔스플리터의 투과율이 k, 반사율 1-k인 것을 특징으로 하는 초점위치 오차 검출 방법
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제 12항에 있어서,상기 제3단계에서는상기 제1검출기에서 계산된 초점위치 오차 값(FE1)이 아래의 수학식 1로 계산되며,상기 제2검출기에서 계산된 초점위치 오차 값(FE2)이 아래의 수학식 2로 계산되는 것을 특징으로 하는 초점위치 오차 검출 방법
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제 13항에 있어서,상기 제4단계에서는상기 제어부에서 계산된 최종 초점위치 오차 값(FE)이 아래의 수학식 3으로 계산되는 것을 특징으로 하는 초점위치 오차 검출 방법
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제 11항에 있어서,상기 초점위치 오차 신호 획득 방법은상기 제1비점수차 발생부 및 제2비점수차 발생부의 설계 값과, 상기 제2빔스플리터의 투과율 및 반사율을 설정하는 k값을 조절하여, 초점위치 오차의 선형범위 및 유효범위를 조절하는 제5단계; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초점위치 오차 검출 방법
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