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고균일 2차원 전이금속 디칼코지나이드 박막의 제조 방법(Method for preparing thin film of two-dimensional transition metal dichalcogenide having high uniformity)

  • 기술번호 : KST2018001479
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명 고균일 2차원 전이금속 디칼코지나이드 박막의 제조 방법에 관한 것이며, 보다 구체적으로는 500℃ 이하의 저온 조건에서 고균일 2차원 전이금속 디칼코지나이드 박막을 제조하는 방법에 관한 것이다.
Int. CL C23C 16/30 (2016.10.11) C23C 16/448 (2016.10.11) C23C 16/02 (2016.10.11) C23C 16/52 (2016.10.11) C30B 25/16 (2016.10.11) C30B 29/10 (2016.10.11) C30B 29/46 (2016.10.11)
CPC C23C 16/305(2013.01) C23C 16/305(2013.01) C23C 16/305(2013.01) C23C 16/305(2013.01) C23C 16/305(2013.01) C23C 16/305(2013.01) C23C 16/305(2013.01) C23C 16/305(2013.01)
출원번호/일자 1020160093974 (2016.07.25)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0011899 (2018.02.05) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.07.25)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강상우 대한민국 대전광역시 유성구
2 문지훈 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영호 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길* (역삼동, 조이타워), ***호(대신특허사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.07.25 수리 (Accepted) 1-1-2016-0718554-12
2 직권정정안내서
Notification of Ex officio Correction
2016.08.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0117369-80
3 보정요구서
Request for Amendment
2016.08.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0117368-34
4 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2016.08.31 수리 (Accepted) 1-1-2016-0849625-05
5 보정요구서
Request for Amendment
2016.09.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0131606-35
6 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)
2016.09.08 수리 (Accepted) 1-1-2016-0862031-45
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.06.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0450391-40
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.08.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0762376-03
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.08.08 수리 (Accepted) 1-1-2017-0762377-48
10 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2017.11.10 수리 (Accepted) 1-1-2017-1116234-22
11 등록결정서
Decision to grant
2018.01.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0058156-77
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
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번호 청구항
1 1
증착 챔버 내에서 기판의 표면 처리를 통해 기판의 표면 에너지를 감소시키는 단계; 및상기 증착 챔버 내에 칼코겐-함유 전구체, 전이금속-함유 전구체 및 전구체 분해 촉진 촉매를 공급하여 상기 기판 상에 2차원 전이금속 디칼코지나이드 단층(monolayer)을 증착하는 단계;를 포함하고,상기 증착하는 단계에서, 2차원 전이금속 디칼코지나이드 이중층(bilayer) 생성을 방지하기 위한 억제제를 추가로 공급하는, 2차원 전이금속 디칼코지나이드 박막의 제조 방법
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서, 억제제의 흡착 에너지(adsorption energy)는 전이금속 디칼코지나이드 단층의 기저면(basal plane)보다 기판 및 전이금속 디칼코지나이드 단층의 측면 위치에서 더 높고, 칼코겐의 흡착 에너지는 전이금속 디칼코지나이드 단층의 측면 위치보다 기판 및 전이금속 디칼코지나이드 단층의 기저면에서 더 높은, 2차원 전이금속 디칼코지나이드 박막의 제조 방법
4 4
제 1 항에 있어서, 전구체 분해 촉진 촉매는 칼코겐-함유 전구체 내의 칼코겐 원자로부터 칼코겐 원자와 결합된 리간드의 분해를 촉진하거나 전이금속-함유 전구체 내의 전이금속 원자로부터 전이금속 원자와 결합된 리간드의 분해를 촉진하는, 2차원 전이금속 디칼코지나이드 박막의 제조 방법
5 5
제 1 항에 있어서, 기판의 표면 처리는 피라니아(piranha) 용액 처리, 황산(H2SO4) 용액 처리, 염산(HCl) 용액 처리 및 알칼리 금속 수산화물 용액 처리로 이루어진 군으로부터 선택되는 습식 처리 방법; 또는 O2 플라즈마 처리 및 수증기를 이용한 열처리로 이루어진 군으로부터 선택되는 건식 처리 방법으로 수행되는, 2차원 전이금속 디칼코지나이드 박막의 제조 방법
6 6
제 1 항에 있어서, 기판이 SiO2, Al2O3, HfO2, LiAlO3, MgO, Si, Ge, GaN, AlN, GaP, InP, GaAs, SiC, 유리, 석영, 사파이어, 그래파이트, 그래핀, 플라스틱, 고분자, 질화붕소(h-BN) 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인, 2차원 전이금속 디칼코지나이드 박막의 제조 방법
7 7
제 1 항에 있어서, 기판이 SiO2, Al2O3, HfO2, LiAlO3, MgO, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되고, 기판의 표면 처리는 피라니아(piranha) 용액 처리, 황산(H2SO4) 용액 처리, 염산(HCl) 용액 처리 및 알칼리 금속 수산화물 용액 처리로 이루어진 군으로부터 선택되는 습식 처리 방법; 또는 O2 플라즈마 처리 및 수증기를 이용한 열처리로 이루어진 군으로부터 선택되는 건식 처리 방법으로 수행되는, 2차원 전이금속 디칼코지나이드 박막의 제조 방법
8 8
제 1 항에 있어서, 칼코겐-함유 전구체는 S-함유 유기 화합물 또는 S-함유 무기 화합물인, 2차원 전이금속 디칼코지나이드 박막의 제조 방법
9 9
제 1항에 있어서, 전이금속-함유 전구체는 Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Nb, Ta, Mo, W, Tc, Re, Ru, Os, Rh, Ir, Pt, Ag, Au, Cd, In, Tl, Sn, Pb, Sb, Bi, Zr, Pd, Hf 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 전이금속을 포함하는 것인, 2차원 전이금속 디칼코지나이드 박막의 제조 방법
10 10
제 1 항에 있어서, 칼코겐-함유 전구체 분압 / 전이금속-함유 전구체 분압의 비율이 1/2 이상인, 2차원 전이금속 디칼코지나이드 박막의 제조 방법
11 11
제 10 항에 있어서, 칼코겐-함유 전구체 분압 / 전이금속-함유 전구체 분압의 비율이 2 이상인, 2차원 전이금속 디칼코지나이드 박막의 제조 방법
12 12
제 1 항에 있어서, 증착 단계는 500℃ 이하의 온도에서 수행되는 것인, 2차원 전이금속 디칼코지나이드 박막의 제조 방법
13 13
제 1 항에 있어서, 증착 단계는 화학기상 증착(CVD)법에 의하여 수행되는 것인, 2차원 전이금속 디칼코지나이드 박막의 제조 방법
14 14
제 1 항에 있어서, 증착 단계에서, 칼코겐-함유 전구체 분압 / 전이금속-함유 전구체 분압의 비율을 증가시켜 기상 반응에 의해 생성되는 전이금속 디칼코지나이드의 클러스터 크기를 감소시키고, 기판의 표면 에너지를 감소시켜 전이금속 디칼코지나이드의 2차원 성장을 유도하는 것인, 2차원 전이금속 디칼코지나이드 박막의 제조 방법
15 15
제 14 항에 있어서, 증착 단계에서, 증착 챔버 내로 공급되는 캐리어 가스의 양을 조절하거나 또는 증착 챔버 내로 공급되는 칼코겐-함유 전구체와 전이금속-함유 전구체의 온도를 조절하여, 증착 챔버 내로 공급되는 칼코겐-함유 전구체 및 전이금속-함유 전구체의 양을 조절함으로써, 칼코겐-함유 전구체 분압 / 전이금속-함유 전구체 분압의 비율이 조절되는 것인, 2차원 전이금속 디칼코지나이드 박막의 제조 방법
16 16
(1) 증착 챔버 내에서 기판의 표면 처리를 통해 기판의 표면 에너지를 감소시키는 단계;(2) 500℃ 이하의 온도 및 0
17 17
제 16 항에 있어서, 단계 (2) 내지 (4)에서, 증착 챔버 내에 전구체 분해 촉진 촉매를 추가로 공급하는, 2차원 전이금속 디칼코지나이드 박막의 제조 방법
18 18
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5 US20180105930 US 미국 FAMILY
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1 미래창조과학부 한국표준과학연구원 국가연개발사업 3-3-2차세대초박막공정용측정기술개발
2 산업통상자원부 한국표준과학연구원 소재부품기술개발사업 차세대 고이동도 전자소자용 이차원 혼성박막소재 유연기판 직접증착을 위한 저온공정 원천기술 개발 및 상용화