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플라즈마 광원의 소정의 물체면(objective plane)에서 방출되는 제1 광, 상기 소정의 물체면의 전방 영역에서 방출되는 제2 광 및 상기 소정의 물체면의 후방 영역에서 방출되는 제3 광을 집속하는 광집속 렌즈;상기 광집속 렌즈에 의해 집속되는 상기 제1 광의 결상면에 배치되고, 상기 제1 광의 결상점을 감싸는 영역에 형성되고 상기 제2 광의 집속광 및 상기 제3 광의 집속광을 동시에 차단하는 차단면을 갖는 차단판을 포함하고, 상기 제1 광의 집속광을 통과시켜 회절시키는 개구가 상기 차단판을 관통하여 상기 제1 광의 결상점에 형성되는 광선택부;상기 개구를 통과하여 회절된 상기 제1 광을 포집하는 렌즈부;상기 렌즈부에 의해 포집된 상기 제1 광이 입사되는 광섬유; 및상기 광선택부, 상기 렌즈부 및 상기 광섬유를 포함하는 광전달부를 상기 광집속 렌즈의 광축 방향으로 이동시키는 이동부를 포함하는 광학 장치
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제1 항에 있어서,상기 광집속 렌즈를 상기 광집속 렌즈의 광축 방향으로 이동시키는 렌즈 이동부를 더 포함하는 광학 장치
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제1 항에 있어서,상기 소정의 물체면은 상기 플라즈마 광원의 상기 광집속 렌즈로부터 먼 측의 단부면에 위치하는 광학 장치
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제1 항에 있어서,상기 개구의 직경은 상기 플라즈마 광원의 크기 또는 상기 플라즈마 광원에 의해 처리되는 기판의 크기에 의존하는 광학 장치
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플라즈마 광원의 소정의 물체면(objective plane)에서 방출되는 제1 광, 상기 소정의 물체면의 전방 영역에서 방출되는 제2 광 및 상기 소정의 물체면의 후방 영역에서 방출되는 제3 광을 집속하는 광집속 렌즈;상기 광집속 렌즈에 의해 집속되는 상기 제1 광의 결상면에 배치되고, 상기 제1 광의 결상점을 감싸는 영역에 형성되고 상기 제2 광의 집속광 및 상기 제3 광의 집속광을 동시에 차단하는 차단면을 갖는 차단판을 포함하고, 상기 제1 광의 집속광을 통과시켜 회절시키는 개구가 상기 차단판을 관통하여 상기 제1 광의 결상점에 형성되는 광선택부;상기 개구를 통과하여 회절된 상기 제1 광을 포집하는 렌즈부; 및상기 렌즈부에 의해 포집된 상기 제1 광이 입사되는 광섬유;를 포함하고,상기 광선택부, 상기 렌즈부 및 상기 광섬유를 포함하는 광전달부를 복수개 포함하고,복수개의 광전달부는 상기 개구의 직경이 서로 상이하게 형성되는 광학 장치
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제5 항에 있어서,복수개의 광전달부는 복수의 상이한 플라즈마 광원의 크기에 일대일 대응하도록 마련되며,상기 복수개의 광전달부는 상기 렌즈부의 직경, 상기 개구로부터 상기 렌즈부 사이의 거리 및 상기 렌즈부로부터 상기 광섬유 사이의 거리가 서로 상이하게 형성되는 광학 장치
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제5 항에 있어서,상기 광학 장치는 플라즈마 공정 챔버의 투광창에 설치되고,상기 복수개의 광전달부는 상기 플라즈마 공정 챔버를 둘러싸는 서로 다른 위치에 설치되는 광학 장치
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8
제5 항에 있어서,상기 복수개의 광전달부를 구동하여 상기 복수개의 광전달부 중 상기 플라즈마 광원의 크기 또는 상기 플라즈마 광원을 발생시키는 플라즈마 공정 챔버 내의 기판의 크기에 대응하는 광전달부를 광수집을 위한 위치로 이동시킴으로써 광수집효율을 극대화시키는 구동부를 더 포함하는 광학 장치
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제1 항에 있어서,상기 광섬유는 상기 제1 광의 스펙트럼을 분석하여 플라즈마 상태를 측정하는 분석부로 상기 제1 광을 전달하는 광학 장치
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삭제
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플라즈마 광원에서 방출되는 광을 수집하여 전달하는 광학 장치; 및상기 광학 장치로부터 전달되는 광의 스펙트럼을 분광 분석하여 플라즈마 상태를 측정하는 분석부를 포함하며,상기 광학 장치는:상기 플라즈마 광원의 소정의 물체면(objective plane)에서 방출되는 제1 광, 상기 소정의 물체면의 전방 영역에서 방출되는 제2 광 및 상기 소정의 물체면의 후방 영역에서 방출되는 제3 광을 집속하는 광집속 렌즈;상기 광집속 렌즈에 의해 집속되는 상기 제1 광의 결상면에 배치되고, 상기 제1 광의 결상점을 감싸는 영역에 형성되고 상기 제2 광의 집속광 및 상기 제3 광의 집속광을 동시에 차단하는 차단면을 갖는 차단판을 포함하고, 상기 제1 광의 집속광을 통과시켜 회절시키는 개구가 상기 차단판을 관통하여 상기 제1 광의 결상점에 형성되는 광선택부;상기 개구를 통과하여 회절된 상기 제1 광을 포집하는 렌즈부;상기 렌즈부에 의해 포집된 상기 제1 광이 입사되고, 입사된 제1 광을 상기 분석부로 전달하는 광섬유; 및상기 광선택부, 상기 렌즈부 및 상기 광섬유를 포함하는 광전달부를 상기 광집속 렌즈의 광축 방향으로 이동시키는 이동부를 포함하는 분광계측기
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제11 항에 있어서,상기 소정의 물체면은 상기 플라즈마 광원의 상기 광집속 렌즈로부터 먼 측의 단부면에 위치하고,상기 개구의 직경은 상기 플라즈마 광원의 크기 또는 상기 플라즈마 광원에 의해 처리되는 기판의 크기에 의존하는 분광계측기
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플라즈마 광원에서 방출되는 광을 수집하여 전달하는 광학 장치; 및상기 광학 장치로부터 전달되는 광의 스펙트럼을 분광 분석하여 플라즈마 상태를 측정하는 분석부를 포함하며,상기 광학 장치는:상기 플라즈마 광원의 소정의 물체면(objective plane)에서 방출되는 제1 광, 상기 소정의 물체면의 전방 영역에서 방출되는 제2 광 및 상기 소정의 물체면의 후방 영역에서 방출되는 제3 광을 집속하는 광집속 렌즈;상기 광집속 렌즈에 의해 집속되는 상기 제1 광의 결상면에 배치되고, 상기 제1 광의 결상점을 감싸는 영역에 형성되고 상기 제2 광의 집속광 및 상기 제3 광의 집속광을 동시에 차단하는 차단면을 갖는 차단판을 포함하고, 상기 제1 광의 집속광을 통과시켜 회절시키는 개구가 상기 차단판을 관통하여 상기 제1 광의 결상점에 형성되는 광선택부;상기 개구를 통과하여 회절된 상기 제1 광을 포집하는 렌즈부; 및상기 렌즈부에 의해 포집된 상기 제1 광이 입사되고, 입사된 제1 광을 상기 분석부로 전달하는 광섬유;를 포함하고,상기 광선택부, 상기 렌즈부 및 상기 광섬유를 포함하는 광전달부를 복수개 포함하고,복수개의 광전달부는 상기 개구의 직경이 서로 상이하게 형성되는 분광계측기
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플라즈마 광원을 형성하여 기판을 플라즈마 처리하는 플라즈마 공정 챔버;상기 플라즈마 광원에서 방출되는 광을 수집하여 전달하는 광학 장치; 및상기 광학 장치로부터 전달되는 광의 스펙트럼을 분광 분석하여 플라즈마 상태를 측정하는 분석부를 포함하며,상기 광학 장치는:상기 플라즈마 광원의 소정의 물체면(objective plane)에서 방출되는 제1 광, 상기 소정의 물체면의 전방 영역에서 방출되는 제2 광 및 상기 소정의 물체면의 후방 영역에서 방출되는 제3 광을 집속하는 광집속 렌즈;상기 광집속 렌즈에 의해 집속되는 상기 제1 광의 결상면에 배치되고, 상기 제1 광의 결상점을 감싸는 영역에 형성되고 상기 제2 광의 집속광 및 상기 제3 광의 집속광을 동시에 차단하는 차단면을 갖는 차단판을 포함하고, 상기 제1 광의 집속광을 통과시켜 회절시키는 개구가 상기 차단판을 관통하여 상기 제1 광의 결상점에 형성되는 광선택부;상기 개구를 통과하여 회절된 상기 제1 광을 포집하는 렌즈부;상기 렌즈부에 의해 포집된 상기 제1 광이 입사되고, 입사된 제1 광을 상기 분석부로 전달하는 광섬유; 및상기 광선택부, 상기 렌즈부 및 상기 광섬유를 포함하는 광전달부를 상기 광집속 렌즈의 광축 방향으로 이동시키는 이동부를 포함하는 플라즈마 처리 장치
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제14 항에 있어서,상기 소정의 물체면은 상기 플라즈마 광원의 상기 광집속 렌즈로부터 먼 측의 단부면에 위치하고,상기 개구의 직경은 상기 플라즈마 광원의 크기 또는 상기 플라즈마 광원에 의해 처리되는 기판의 크기에 의존하는 플라즈마 처리 장치
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플라즈마 광원을 형성하여 기판을 플라즈마 처리하는 플라즈마 공정 챔버;상기 플라즈마 광원에서 방출되는 광을 수집하여 전달하는 광학 장치; 및상기 광학 장치로부터 전달되는 광의 스펙트럼을 분광 분석하여 플라즈마 상태를 측정하는 분석부를 포함하며,상기 광학 장치는:상기 플라즈마 광원의 소정의 물체면(objective plane)에서 방출되는 제1 광, 상기 소정의 물체면의 전방 영역에서 방출되는 제2 광 및 상기 소정의 물체면의 후방 영역에서 방출되는 제3 광을 집속하는 광집속 렌즈;상기 광집속 렌즈에 의해 집속되는 상기 제1 광의 결상면에 배치되고, 상기 제1 광의 결상점을 감싸는 영역에 형성되고 상기 제2 광의 집속광 및 상기 제3 광의 집속광을 동시에 차단하는 차단면을 갖는 차단판을 포함하고, 상기 제1 광의 집속광을 통과시켜 회절시키는 개구가 상기 차단판을 관통하여 상기 제1 광의 결상점에 형성되는 광선택부;상기 개구를 통과하여 회절된 상기 제1 광을 포집하는 렌즈부; 및상기 렌즈부에 의해 포집된 상기 제1 광이 입사되고, 입사된 제1 광을 상기 분석부로 전달하는 광섬유;를 포함하고,상기 광선택부, 상기 렌즈부 및 상기 광섬유를 포함하는 광전달부를 복수개 포함하고,복수개의 광전달부는 상기 개구의 직경이 서로 상이하게 형성되는 플라즈마 처리 장치
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