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기판을 준비하는 단계;상기 기판 상에 스핀코팅을 이용하여 인듐갈륨(Indium Gallium) 조성물을 코팅하는 단계; 및상기 인듐갈륨 조성물을 열처리함으로써 상기 인듐갈륨산화물(Indium Gallium Oxide) 박막을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 인듐갈륨 조성물을 코팅하는 단계에서 인듐과 갈륨은 2:1의 화학양론비로 공급되는 단계를 포함하는,저온 용액공정을 이용한 인듐갈륨산화물 박막트랜지스터의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 열처리는 공기중에서 300℃ 내지 600℃의 온도범위 및 50min 내지 70min의 시간동안 수행하는,저온 용액공정을 이용한 인듐갈륨산화물 박막트랜지스터의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 인듐갈륨산화물 박막은 0
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제 1 항에 있어서,상기 인듐갈륨산화물 박막은 105 이상의 on/off 전류비 값을 갖는, 저온 용액공정을 이용한 인듐갈륨산화물 박막트랜지스터의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 인듐갈륨산화물 박막은 98% 이상의 투과율 값을 갖는, 저온 용액공정을 이용한 인듐갈륨산화물 박막트랜지스터의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 스핀코팅은 3000rpm에서 1분 동안 수행되는,저온 용액공정을 이용한 인듐갈륨산화물 박막트랜지스터의 제조방법
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