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고효율 플라즈마 박판 소스(High Efficient Plasma Thin-Plate Source)

  • 기술번호 : KST2018002154
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 목적은 고효율의 플라즈마 발생을 통하여 피부미용 및 피부치료용 플라즈마 패드와 멸균장치에 사용하는 면-플라즈마 패널을 제공하고자 하는 것이다. 상기 목적에 따라 본 발명은, 종래의 유전체 층 장벽방전 방식에서 유전체 층 위에 스페이서를 설치하여 스페이서 공간에 대향 방전 방식으로 고효율의 단면-플라즈마 소스를 제공한다.상기 스페이서와 덮개층을 피부치료 용재가 함유된 망사형 거즈를 사용하여 피부치료용 플라즈마 패드를 제공한다.상기 목적의 고효율 플라즈마 소스는 유전체 층의 양면에 각각 플라즈마가 발생하는 양면-플라즈마 소스를 제공한다.
Int. CL A61N 1/44 (2016.09.21) H05H 1/24 (2016.09.21) A61L 2/14 (2016.09.21)
CPC A61N 1/44(2013.01) A61N 1/44(2013.01) A61N 1/44(2013.01) A61N 1/44(2013.01)
출원번호/일자 1020160104031 (2016.08.17)
출원인 광운대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0019835 (2018.02.27) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.08.17)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 광운대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 노원구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조 광섭 대한민국 서울특별시 서초구
2 김 윤중 대한민국 서울특별시 광진구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 주은희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 ** 선릉엘지에클라트 B-***(아이디어로특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 광운대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 노원구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2016.08.17 수리 (Accepted) 1-1-2016-0795293-39
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.03.27 수리 (Accepted) 4-1-2017-5046666-19
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2017.04.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2017.06.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2017-0094013-24
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2017.07.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0462437-88
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2017.09.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0848813-48
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2017.09.01 수리 (Accepted) 1-1-2017-0848825-96
8 등록결정서
Decision to grant		 2018.01.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0059351-42
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
바탕재;상기 바탕재 위에 배치되는 유전체 층;상기 유전체 층의 하면에 배치되는 제1-전극;상기 유전체 층 위에 배치되는 개구부 또는 홀(hole)을 구비한 스페이서; 상기 스페이서 위에 배치되는 제2 전극층; 및상기 제2 전극층 위에 배치되는 망사형 덮개층;을 포함하며,상기 제2 전극층은 유전체 층과 유전체 층 하면에 배치된 제2-전극을 포함하고,상기 제1-전극과 제2-전극이 서로 대향하는 공간이자 스페이서가 있는 공간에 플라즈마가 발생하는 것을 특징으로 하는 면-플라즈마 소스
2 2
제1항에 있어서, 스페이서와 덮개층은 망사형 거즈로 구성되며;상기 망사형 거즈는 피부 미용 또는 피부치료용 용재를 함유하고, 상기 용재의 성분들이 플라즈마 발생으로 여기 되어 환부를 처지하는 면-플라즈마 소스
3 3
바탕재;상기 바탕재 위에 배치되는 유전체 층;상기 유전체 층의 하면에 배치되는 금속 메쉬로 된 제1-전극;상기 유전체 층 위에 배치되는 절연성 메쉬로 된 스페이서; 상기 스페이서 위에 배치되는 금속 메쉬로 된 제2-전극; 및상기 제2-전극 위에 배치되는 망사형 덮개층;을 포함하며,상기 제1-전극과 제2-전극이 서로 대향하는 공간이자 스페이서가 있는 공간에 플라즈마가 발생하는 것을 특징으로 하는 면-플라즈마 소스
4 4
메쉬형 바탕재;상기 바탕재 위에 배치되는 유전체 층;상기 유전체 층의 하면과 상면에 각각 배치되는 제1-전극과 제2-전극; 및상기 제2-전극 위에 배치되는 메쉬형 덮개; 및상기 제1-전극과 상기 유전체 층 사이 및 상기 제2-전극과 상기 유전체 층 사이에 각각 삽입된 절연성 메쉬로 된 스페이서들;을 포함하여, 상기 제1-전극과 제2-전극 사이의 방전에 의하여 상기 유전체 층의 상하면에 각각 플라즈마가 발생하되, 상기 스페이서에 플라즈마가 발생하는 양면형 면-플라즈마 소스
5 5
제4항에 있어서, 제1-전극과 제2-전극을 각각 금속 메쉬로 구성하여,금속 메쉬 전극의 앙면에서 플라즈마가 발생하는 양면형 면-플라즈마 소스
6 6
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패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.