1 |
1
스티렌 입자를 아크릴레이트와 반응시켜 스티렌 입자의 표면을 아크릴레이트로 개질하여 표면 개질된 스티렌 입자를 얻는 단계;상기 표면 개질된 스티렌 입자를 금속 화합물과 반응시켜 금속 양이온이 도핑된 스티렌 입자를 얻는 단계;상기 도핑된 스티렌 입자; 및 이산화타이타늄(TiO2) 전구체, 이산화규소(SiO2) 전구체, 또는 이들의 혼합물을 반응시켜 상기 도핑된 스티렌 입자 상에 세라믹층을 형성하여 코어-쉘 구조의 스티렌 코어-세라믹 쉘을 얻는 단계; 및 상기 스티렌 코어-세라믹 쉘로부터 스티렌 코어를 제거하여 중공구조의 세라믹 나노입자를 얻는 단계를 포함하는 중공구조의 세라믹 나노입자 제조방법
|
2 |
2
제1항에 있어서,상기 아크릴레이트는 메틸메타크릴레이트, 메틸아크릴산 또는 이들의 혼합물인 중공구조의 세라믹 나노입자 제조방법
|
3 |
3
제1항에 있어서,상기 스티렌 입자는 구상 또는 중공구상의 입자인 중공구조의 세라믹 나노입자 제조방법
|
4 |
4
제1항에 있어서,상기 스티렌 입자는 평균 직경이 100 내지 3000nm인 중공구조의 세라믹 나노입자 제조방법
|
5 |
5
제1항에 있어서,상기 표면 개질된 스티렌 입자는, 상기 스티렌 입자를 에틸알콜 및 탈이온수의 존재 하에서 상기 아크릴레이트와 반응시켜 얻는 것인 중공구조의 세라믹 나노입자 제조방법
|
6 |
6
제1항에 있어서,상기 도핑된 스티렌 입자는, 상기 표면 개질된 입자를 용매 존재 하에서 상기 금속 화합물과 반응시켜 얻는 것으로,상기 용매는 에탄올, 부탄올, 및 프로판올로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인 중공구조의 세라믹 나노입자 제조방법
|
7 |
7
제1항에 있어서,상기 금속 화합물은 염화제일철(FeCl2), 염화제이철(FeCl3), 염화칼슘(CaCl2), 염화마그네슘(MgCl2), 질산세륨(Ce(NO3)3), 질산은(AgNO3), 시안화은(AgCN), 테트라시아노금(Ⅲ)산염(K[Au(CN)4]), 디시아노금(Ⅰ)산염(K[Au(CN)2]), 산화이리듐(IrO2), 헥사클로로이리듐(Ⅳ)산(H2IrCl6), 산화루테늄(RuO2), 질산루테늄(Ru(NO)3), 도데카카보닐트리루테늄(Ru3(CO)12), 산화로듐(Rh2O3), 황산로듐(Rh2(SO4)3), 질산로듐(Rh(NO3)3), 염화팔라듐(PdCl2), 황산팔라듐(PdSO4), 디클로로디아민백금([Pt(NH3)4]Cl2), 및 디히드록소테트라아민백금([Pt(NH3)4](OH)2)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인 중공구조의 세라믹 나노입자 제조방법
|
8 |
8
제1항에 있어서,상기 이산화타이타늄(TiO2) 전구체는 알콕사이드계 이산화타이타늄(TiO2) 전구체 및 킬레이트계 이산화타이타늄(TiO2) 전구체 중 적어도 하나인 중공구조의 세라믹 나노입자 제조방법
|
9 |
9
제1항에 있어서,상기 표면 개질된 스티렌 입자와 금속 화합물은 중량비가 1:0
|
10 |
10
제1항에 있어서,상기 도핑된 스티렌 입자; 및 이산화타이타늄(TiO2) 전구체, 이산화규소(SiO2) 전구체, 또는 이들의 혼합물은 중량비가 1:1~8인 중공구조의 세라믹 나노입자 제조방법
|
11 |
11
제1항에 있어서,상기 스티렌 코어-세라믹 쉘을 얻는 단계에서 질소함유 화합물을 더 공급하는 중공구조의 세라믹 나노입자 제조방법
|
12 |
12
제11항에 있어서, 상기 질소함유 화합물은 다이메틸에탄올아민, 트리에탄올아민 또는 이들의 혼합물인 중공구조의 세라믹 나노입자 제조방법
|
13 |
13
제1항에 있어서,상기 스티렌 코어-세라믹 쉘을 430 내지 1400℃의 범위에서 열처리하여 스티렌 코어를 제거하는 것인 중공구조의 세라믹 나노입자 제조방법
|
14 |
14
제1항에 있어서,상기 스티렌 코어-세라믹 쉘을 에탄올 용매, 또는 자일렌과 메틸에틸케톤의 혼합용매의 존재 하에서 150 내지 200℃의 온도범위에서 열처리하여 스티렌 코어를 제거하는 것인 중공구조의 세라믹 나노입자 제조방법
|
15 |
15
삭제
|
16 |
16
삭제
|
17 |
17
삭제
|
18 |
18
삭제
|