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가) 화학식 6으로 표시되는 화합물 6에 DMF(Dimethylformamide) 용매에서 클로로메틸에틸에테르, K2CO3 및 테트라부틸암모늄 요오드화물을 가하여 상온에서 반응하여 화학식 7로 표시되는 화합물 7을 얻는 단계;나) 화학식 8로 표시되는 화합물 8에 DMF(Dimethylformamide) 용매에서 클로로메틸에틸에테르, K2CO3 및 테트라부틸암모늄 요오드화물을 가하여 상온에서 반응하여 화학식 9로 표시되는 화합물 9를 얻는 단계;다) 상기 화합물 7과 화합물 9에 KOH를 가하여 MeOH/H2O = 2/1 용매 하, 상온에서 교반하여 화학식 10으로 표시되는 화합물 10을 얻는 단계; 및 라) 수소 분위기 하에서 화합물 10에 강산과 MeOH를 가하여 에논기를 환원하고, 이후 수소 풍선과 Pd/C, 아세트산을 가하여 EOM(ethoxymethyl)기 탈보호기화 반응으로 화학식 1로 표시되는 화합물 1을 얻는 단계;를 포함하는 화합물 1로 표기되는 다이아릴프로판 합성방법
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가) 화학식 6으로 표시되는 화합물 12에 DMF(Dimethylformamide) 용매에서 클로로메틸에틸에테르, K2CO3 및 테트라부틸암모늄 요오드화물을 가하여 상온에서 반응하여 화학식 7로 표시되는 화합물 13을 얻는 단계;나) 화학식 8로 표시되는 화합물 8에 DMF(Dimethylformamide) 용매에서 클로로메틸에틸에테르, K2CO3 및 테트라부틸암모늄 요오드화물을 가하여 상온에서 반응하여 화학식 9로 표시되는 화합물 9를 얻는 단계;다) 상기 화합물 13과 화합물 9에 KOH를 가하여 MeOH/H2O = 2/1 용매 하, 상온에서 교반하여 화학식 10으로 표시되는 화합물 14를 얻는 단계; 및라) 수소 분위기 하에서 화합물 14에 강산과 MeOH를 가하여 에논기를 환원하고, 이후 수소 풍선과 Pd/C, 아세트산을 가하여 EOM(ethoxymethyl)기 탈보호기화 반응으로 화학식 1로 표시되는 화합물 2를 얻는 단계;를 포함하는 화합물 2로 표기되는 다이아릴프로판 합성방법
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청구항 2에 있어서,상기 화합물 12는 2,4,5-트리메톡시벤즈알데하이드에 CH2Cl2 용매 하에서 CH2Cl2에 용해한 BCl3를 가하여 -78℃~상온 조건으로 반응시켜 선택적 탈메틸화로 얻어진 것임을 특징으로 하는 다이아릴프로판 합성방법
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가) 화학식 15로 표시되는 화합물 15에 클로로메틸에틸에테르, NaH 및 DMF(Dimethylformamide)를 가하여 0℃~40℃에서 반응시켜 화학식 16으로 표시되는 화합물 16을 제조하는 단계;나) 상기 화합물 16에 화학식 19로 표시되는 화합물 19를 가하고 KOH를 가하여 MeOH/H2O = 2/1 용매 하, 상온에서 교반하여 화학식 20으로 표시되는 화합물 20을 얻는 단계;다) 상기 화합물 20에 강산과 MeOH를 가하여 에논기를 환원하고, 이후 수소 풍선과 Pd/C, 아세트산을 가하여 EOM(ethoxymethyl)기 탈보호기화 반응으로 화학식 3으로 표시되는 화합물 3을 얻는 단계;를 포함하는 화합물 3으로 표기되는 다이아릴프로판 합성방법
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가) 화학식 15로 표시되는 화합물 15에 클로로메틸에틸에테르, N,N-다이아이소프로필에틸아민과 CH2CI2를 가하여 반응시켜 화학식 17로 표시되는 화합물 17을 얻는 단계;나) 상기 화합물 17에 요오드화 메틸, NaH 및 DMF(Dimethylformamide)를 가하여 상온에서 반응시켜 화학식 18로 표시되는 화합물 18을 얻는 단계;다) 상기 화합물 18에 화학식 19로 표시되는 화합물 19를 가하고 KOH를 가하여 MeOH/H2O = 2/1 용매 하, 상온에서 교반하여 화학식 21로 표시되는 화합물 21을 얻는 단계;라) 상기 화합물 21에 강산과 MeOH를 가하여 에논기를 환원하고, 이후 수소 풍선과 Pd/C, 아세트산을 가하여 EOM(ethoxymethyl)기 탈보호기화 반응으로 화학식 3으로 표시되는 화합물 4를 얻는 단계;를 포함하는 화합물 4로 표기되는 다이아릴프로판 합성방법
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가) 화학식 8로 표시되는 화합물 22에 DMF(Dimethylformamide) 용매에서 클로로메틸에틸에테르, K2CO3 및 테트라부틸암모늄 요오드화물을 가하여 상온에서 반응하여 화학식 9로 표시되는 화합물 23을 얻는 단계;나) 화학식 24로 표시되는 화합물 24에 상기 화합물 23과 KOH를 가하여 MeOH/H2O = 2/1 용매 하, 상온에서 교반하여 화학식 25로 표시되는 화합물 25를 얻는 단계; 및다) 상기 화합물 25에 강산과 MeOH를 가하여 에논기를 환원하고, 이후 수소 풍선과 Pd/C, 아세트산을 가하여 EOM(ethoxymethyl)기 탈보호기화 반응으로 화학식 5로 표시되는 화합물 5를 얻는 단계;를 포함하는 화합물 5로 표기되는 다이아릴프로판 합성방법
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