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대상체에 가간섭광(coherent light)을 조사하는 광원부; 상기 가간섭광에 의해 상기 대상체에서 발생된 스펙클(speckle) 패턴을 촬영하는 촬상부; 및 상기 스펙클 패턴의 대조도(contrast)를 측정하여 상기 대상체가 생체인지 비생체인지를 판별하는 기능을 갖는 연산부;를 포함하는 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 연산부는 상기 스펙클 패턴의 대조도를 문턱 대조도(threshold contrast)(Kth)와 비교하여 상기 대상체의 생체 여부를 판별하도록 구성된 장치
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제 2 항에 있어서, 상기 연산부는, 상기 스펙클 패턴의 대조도가 상기 문턱 대조도(Kth)보다 작은 경우, 상기 대상체를 생체로 판단하고, 상기 스펙클 패턴의 대조도가 상기 문턱 대조도(Kth)보다 큰 경우, 상기 대상체를 비생체로 판단하도록 구성된 장치
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제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 문턱 대조도(Kth)는 0
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제 1 항에 있어서, 상기 연산부는 상기 스펙클 패턴의 대조도(이하, 측정 대조도)와 사용자가 등록한 기준 대조도를 비교하여 상기 측정 대조도가 상기 기준 대조도보다 2배 이상 큰 경우, 상기 대상체를 비생체로 판단하도록 구성된 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 가간섭광은 레이저(laser)를 포함하고, 상기 스펙클 패턴은 레이저 스펙클 패턴을 포함하는 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 대상체가 피부 및 피하 혈관을 포함하는 경우, 상기 장치는 상기 대상체의 피하 혈관에 대한 이미징 없이 상기 대상체의 피부 표면 또는 피부 조직에 대한 스펙클 패턴으로부터 상기 대상체의 생체 여부를 판별하도록 구성된 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 장치는 상기 대상체의 지문이 생체 지문인지 비생체 위조 지문인지를 판별하도록 구성된 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 장치는 상기 대상체의 지문을 인식하기 위한 지문인식모듈을 더 포함하는 장치
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제 9 항에 있어서, 상기 지문인식모듈은 광학 방식의 지문인식모듈 또는 정전 방식의 지문인식모듈인 장치
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제 9 항에 있어서, 상기 장치는 상기 지문인식모듈을 이용해서 상기 대상체의 지문을 인식하고, 상기 광원부와 촬상부 및 연산부를 이용해서 상기 대상체의 지문이 생체 지문인지 비생체 위조 지문인지를 판별하도록 구성된 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 광원부와 상기 대상체 사이에 구비된 제1 광학계; 및 상기 대상체와 상기 촬상부 사이에 구비된 제2 광학계; 중 적어도 하나를 더 포함하는 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 장치의 적어도 일부는 모바일 기기(mobile device)를 구성하는 장치
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대상체의 지문을 인식하기 위한 지문인식 소자부; 및 상기 대상체의 지문이 위조인지를 판별하는 위조판별 소자부;를 포함하고, 상기 위조판별 소자부는, 상기 대상체에 가간섭광(coherent light)을 조사하는 광원부; 상기 가간섭광에 의해 상기 대상체에서 발생된 스펙클(speckle) 패턴을 촬영하는 촬상부; 및 상기 스펙클 패턴의 대조도(contrast)를 이용해서 상기 대상체의 위조 여부를 판별하는 연산부;를 포함하는 장치
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15
제 14 항에 있어서, 상기 연산부는 상기 스펙클 패턴의 대조도를 문턱 대조도(threshold contrast)(Kth)와 비교하여 상기 대상체의 위조 여부를 판별하도록 구성된 장치
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제 15 항에 있어서, 상기 연산부는, 상기 스펙클 패턴의 대조도가 상기 문턱 대조도(Kth)보다 작은 경우, 상기 대상체의 지문을 실제(real) 지문으로 판단하고, 상기 스펙클 패턴의 대조도가 상기 문턱 대조도(Kth)보다 큰 경우, 상기 대상체의 지문을 위조 지문으로 판단하도록 구성된 장치
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제 15 항 또는 제 16 항에 있어서, 상기 문턱 대조도(Kth)는 0
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제 14 항에 있어서, 상기 연산부는 상기 스펙클 패턴의 대조도(이하, 측정 대조도)와 사용자가 등록한 기준 대조도를 비교하여 상기 측정 대조도가 상기 기준 대조도보다 2배 이상 큰 경우, 상기 대상체를 위조로 판단하도록 구성된 장치
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제 14 항에 있어서, 상기 지문인식 소자부는 광학 방식의 지문인식모듈 또는 정전 방식의 지문인식모듈을 포함하는 장치
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제 14 항에 있어서, 상기 장치의 적어도 일부는 모바일 기기(mobile device)를 구성하는 장치
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대상체의 지문을 인식하는 단계; 및 상기 지문의 위조 여부를 판별하는 단계;를 포함하고, 상기 지문의 위조 여부를 판별하는 단계는, 상기 대상체에 가간섭광을 조사하는 단계; 상기 가간섭광에 의해 상기 대상체에서 발생된 스펙클 패턴을 촬영하는 단계; 및 상기 스펙클 패턴의 대조도를 이용해서 상기 지문의 위조 여부를 판별하는 단계;를 포함하는 지문 인증 방법
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제 21 항에 있어서, 상기 지문의 위조 여부를 판별하는 단계는, 상기 스펙클 패턴의 대조도를 문턱 대조도(threshold contrast)(Kth)와 비교하는 단계를 포함하는 지문 인증 방법
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제 22 항에 있어서, 상기 스펙클 패턴의 대조도가 상기 문턱 대조도(Kth)보다 작은 경우, 상기 대상체의 지문을 실제(real) 지문으로 판단하고, 상기 스펙클 패턴의 대조도가 상기 문턱 대조도(Kth)보다 큰 경우, 상기 대상체의 지문을 위조 지문으로 판단하는 지문 인증 방법
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제 22 항 또는 제 23 항에 있어서, 상기 문턱 대조도(Kth)는 0
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제 21 항에 있어서, 상기 지문의 위조 여부를 판별하는 단계는 상기 스펙클 패턴의 대조도(이하, 측정 대조도)와 사용자가 등록한 기준 대조도를 비교하는 단계를 포함하고, 상기 측정 대조도가 상기 기준 대조도보다 2배 이상 큰 경우, 상기 대상체의 지문을 위조로 판단하는 지문 인증 방법
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제 21 항에 있어서, 상기 대상체의 지문을 인식하는 단계는, 상기 대상체의 지문과 기준 지문의 유사도를 측정하는 단계를 포함하는 지문 인증 방법
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