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발광층을 증착하기 위한 마스크 패턴이 형성되어 있는 마스크 패턴층; 및상기 마스크 패턴층을 고정시키기 위한 유리 기판을 포함하고,상기 유리 기판은 상기 마스크 패턴이 형성된 영역이 개구되도록 하는 개구부를 포함하며,상기 마스크 패턴층은, 적어도 하나의 탄소나노튜브(CNT) 층을 포함하고,상기 탄소나노튜브 층은,가느다란 섬유 형태의 탄소나노튜브 가닥들을 결합시켜 형성된 탄소나노튜브 얀(yarn)을 이용하여 메시 구조로 형성된 탄소나노튜브 얀 층; 및상기 탄소나노튜브 얀 층위에 용액성 탄소나노튜브 기반의 스프레이 공정 또는 스핀코팅 공정 기반으로 전면에 형성된 탄소나노튜브 박막층을 포함하는, 탄소나노튜브 기반의 고정세 새도우 마스크
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청구항 1에 있어서,상기 마스크 패턴층은 상기 탄소나노튜브 박막층 상에 형성된 금속박막층을 더 포함하는, 탄소나노튜브 기반의 고정세 새도우 마스크
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청구항 3에 있어서,상기 금속박막층은, 인바(invar), Cr, Al, Mo, Ni, Fe, Ni-Fe 합금으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 어느 하나를 포함하는 금속박막층을 포함하는, 탄소나노튜브 기반의 고정세 새도우 마스크
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청구항 4에 있어서,상기 마스크 패턴층은,상기 탄소나노튜브 얀 층, 상기 탄소나노튜브 박막층, 및 상기 금속박막층으로 이루어진 마스크 패턴 구조층을 복수개 포함하는, 탄소나노튜브 기반의 고정세 새도우 마스크
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청구항 1 또는 청구항 3에 있어서,상기 마스크 패턴층은,육각형 질화 붕소(h-BN: hexagonal boron nitride), 폴리비닐페놀(PVP: poly-vinyl-phenol) 폴리머, SU8 폴리머, 폴리비닐알코올(PVA: poly-vinyl alchol), cross-linked PVA, 폴리이미드(polyimide), PMMA, 및 폴리스티렌(polystyrene) 폴리머로 이루어진 그룹 중에서 선택된 적어도 하나 및 탄소나노튜브의 복합체로 형성된 탄소나노튜브-나노복합체 층을 더 포함하는, 탄소나노튜브 기반의 고정세 새도우 마스크
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청구항 6에 있어서,상기 유리 기판의 하면에 형성되고, 상기 개구부 이외의 영역인 비활성 영역에 형성되는 제1 식각 방지층을 더 포함하는, 탄소나노튜브 기반의 고정세 새도우 마스크
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청구항 7에 있어서,상기 마스크 패턴층은,상기 유리 기판의 상면에 형성되며, 상기 유리 기판과 상기 탄소나노튜브 층 사이에 형성되는 제2 식각 방지층을 더 포함하는, 탄소나노튜브 기반의 고정세 새도우 마스크
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청구항 8에 있어서,상기 제1 식각 방지층과 상기 제2 식각 방지층은 크롬(Cr)으로 이루어진, 탄소나노튜브 기반의 고정세 새도우 마스크
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(a) 유리 기판의 하면의 비활성 영역에 제1 식각 방지층을 형성하는 단계;(b) 상기 유리 기판의 상면에 제2 식각 방지층 및 적어도 하나의 탄소나노튜브(CNT) 층을 형성하는 단계;(c) 상기 제2 식각 방지층 및 적어도 하나의 탄소나노튜브층을 패터닝하여 발광층을 증착하기 위한 마스크 패턴이 형성된 마스크 패턴층을 형성하는 단계; 및(d) 상기 마스크 패턴이 형성된 영역이 개구되도록 상기 유리 기판의 하면을 식각하는 단계를 포함하고,상기 탄소나노튜브 층은,가느다란 섬유 형태의 탄소나노튜브 가닥들을 결합시켜 형성된 탄소나노튜브 얀(yarn)을 이용하여 메시 구조로 형성된 탄소나노튜브 얀 층; 및상기 탄소나노튜브 얀 층위에 용액성 탄소나노튜브 기반의 스프레이 공정 또는 스핀코팅 공정 기반으로 전면에 형성된 탄소나노튜브 박막층을 포함하는, 탄소나노튜브 기반의 고정세 새도우 마스크 제조 방법
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청구항 10에 있어서,상기 단계 (c)는,사진공정 또는 리프트 오프(lift off) 공정을 통해 상기 제2 식각 방지층 및 적어도 하나의 탄소나노튜브층을 패터닝하여 발광층을 증착하기 위한 마스크 패턴이 형성된 마스크 패턴층을 형성하는 단계를 포함하는, 탄소나노튜브 기반의 고정세 새도우 마스크 제조 방법
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청구항 11에 있어서,상기 단계 (c)와 상기 단계 (d) 사이에,상기 마스크 패턴층을 보호하기 위하여, 상기 마스크 패턴층을 폴리머, 무기물 또는 폴리머-무기물 복합체 기반의 봉지(encapsulation) 공정을 실시하는 단계를 더 포함하고,상기 단계 (d) 이후에,상기 봉지용 폴리머, 무기물 또는 폴리머-무기물 복합체를 제거하는 단계를 더 포함하는, 탄소나노튜브 기반의 고정세 새도우 마스크 제조 방법
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청구항 10에 있어서,상기 마스크 패턴층은 상기 탄소나노튜브 박막층 상에 형성된 금속박막층을 더 포함하는, 탄소나노튜브 기반의 고정세 새도우 마스크 제조 방법
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청구항 14에 있어서,상기 금속박막층은, 인바(invar), Cr, Al, Mo, Ni, Fe, Ni-Fe 합금으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 어느 하나를 포함하는 금속박막층을 포함하는, 탄소나노튜브 기반의 고정세 새도우 마스크 제조 방법
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청구항 15에 있어서,상기 마스크 패턴층은,상기 탄소나노튜브 얀 층, 상기 탄소나노튜브 박막층, 및 상기 금속박막층으로 이루어진 마스크 패턴 구조층을 복수개 포함하는, 탄소나노튜브 기반의 고정세 새도우 마스크 제조 방법
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청구항 10 또는 청구항 14에 있어서,상기 마스크 패턴층은,육각형 질화 붕소(h-BN: hexagonal boron nitride), 폴리비닐페놀(PVP: poly-vinyl-phenol) 폴리머, SU8 폴리머, 폴리비닐알코올(PVA: poly-vinyl alchol), cross-linked PVA, 폴리이미드(polyimide), PMMA, 및 폴리스티렌(polystyrene) 폴리머로 이루어진 그룹 중에서 선택된 적어도 하나 및 탄소나노튜브의 복합체로 형성된 탄소나노튜브-나노복합체 층을 더 포함하는, 탄소나노튜브 기반의 고정세 새도우 마스크 제조 방법
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청구항 17에 있어서,상기 제1 식각 방지층과 상기 제2 식각 방지층은 크롬(Cr)으로 이루어진, 탄소나노튜브 기반의 고정세 새도우 마스크 제조 방법
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