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포토레지스트 박리 방법(Method for photoresist stripping)

  • 기술번호 : KST2018002690
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 포토레지스트 박리 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 포토레지스트 박리 방법은 기존의 화학적 박리 방법에 물리적 박리 방법을 가미하여, 동일한 박리액 및 동일한 시간에서 보다 우수한 포토레지스트 박리 효과를 낼 수 있다.
Int. CL H01L 21/027 (2016.09.30) G03F 7/42 (2016.09.30) G03F 7/34 (2016.09.30) G03F 7/20 (2016.09.30)
CPC H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01)
출원번호/일자 1020160111053 (2016.08.30)
출원인 정병현, 서울과학기술대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0024587 (2018.03.08) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.08.30)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 정병현 대한민국 경기도 안양시 동안구
2 서울과학기술대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 노원구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김용성 대한민국 서울특별시 강남구
2 김준현 대한민국 서울시 동대문구
3 주기태 대한민국 경기도 양평군
4 정병현 대한민국 경기도 안양시 동안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 윤재승 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 덕천빌딩 *층 (역삼동)(예준국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2016.08.30 수리 (Accepted) 1-1-2016-0845799-36
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2017.10.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2018.01.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2018-0026465-54
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2018.02.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0118229-08
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2018.04.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0388390-04
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2018.04.19 수리 (Accepted) 1-1-2018-0388389-57
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2018.08.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0579715-10
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
포토레지스트가 형성된 기판을 박리액에 침지시키고, 상기 기판을 좌우 왕복하여 이동시키거나 또는 상기 박리액을 좌우 왕복하여 흔드는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 박리 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 박리 방법은 포토레지스트가 형성된 기판을 바닥을 기준으로 세워서 박리액에 침지시키고, 상기 기판을 좌우 왕복하여 이동시키거나 또는 상기 박리액을 좌우 왕복하여 흔드는 방향과, 기판의 윗측면이 형성하는 선분이 이루는 각도가 10~80°를 이루는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 박리 방법
3 3
제1항에 있어서,상기 박리 방법은 30~70℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 박리 방법
4 4
제1항에 있어서,상기 기판을 좌우 왕복하여 이동시키거나 또는 상기 박리액을 좌우 왕복하여 흔드는 속도는 15~50mm/s이며, 왕복 주기는 4~13초인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 박리 방법
5 5
제1항에 있어서,상기 박리액의 농도는 40~60%인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 박리 방법
6 6
제1항에 있어서,상기 기판을 좌우 왕복하여 이동시키거나 또는 상기 박리액을 좌우 왕복하여 흔드는 방향의 수직이며 지면과 평행한 방향으로 결정되는 수조의 폭이 50~100mm인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 박리 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 (주)덕산테코피아 산업기술혁신사업(청정생산기반전문기술개발사업) 생분해성 기반 평판디스플레이 제조용 친환경 고성능 포토레지스트 박리액 및 적용공정 기술 개발