| 1 |
1
DTWEP 기반 제조공정 이상탐지 장치에서 특정 제품(i)을 제조하는 공정의 이상을 탐지하는 방법에 있어서,n(n은 2 이상의 자연수) 개의 센서(j)로부터 측정된 데이터(xij)를 수집하는 센서 데이터 수집 단계;수집된 센서 데이터(xij)를 정규화하여 정규화된 데이터(zij)를 생성하는 정규화 단계;정규화된 데이터(zij)를 이용하여 각각의 제품 데이터별로 다른 제품 데이터와의 DTW거리(dij, 이하 '제1 DTW 거리'라고 함)를 계산하는 단계;각각의 센서(j)별로 참조(reference) 데이터(rj)를 선정하는 단계;아래의 식을 이용하여 상기 참조 데이터(rj)와 다른 제품 데이터와의 DTW 거리(Dij, 이하 '제2 DTW 거리'라고 함)를 계산하는 단계;상기 제2 DTW 거리(Dij)에 패널티(Pij)를 적용하여 패널티(Pij)가 적용된 제3 DTW 거리를 계산하는 단계;아래의 식을 이용하여, 상기 제3 DTW 거리들을 모두 합산하고 각각의 제품(i)별로 패널티가 적용된 거리(PDi,이하 '패널티 적용 거리'라고 함)를 계산하는 단계;각각의 제품(i)에 대한 패널티 적용 거리(PDi)가 이상탐지기준을 벗어나는지를 판단하는 이상 탐지 단계; 및이상이 탐지된 경우, 이상 탐지 정보를 출력하는 단계;를 포함하는 DTWEP 기반 제조공정 이상탐지 방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 참조 데이터(rj)는 각각의 센서(j)별로 선정하며, 아래의 식을 이용하여 다른 제품 데이터와의 제1 DTW 거리(dij)의 총합이 가장 작은 데이터를 참조 데이터(rj)로 선정하는 DTWEP 기반 제조공정 이상탐지 방법
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 제2 DTW 거리(Dij)에 적용할 상기 패널티(Pij)는 지수적으로 증가하는 형태의 엑스포넨셜 패널티(exponential penalty)이며, 아래의 식을 이용하여 상기 패널티(Pij)를 계산하는 DTWEP 기반 제조공정 이상탐지 방법
|
| 4 |
4
제3항에 있어서,각각의 센서(j)에 대한 상기 관리한계선(ULLj)은 상기 제2 DTW 거리(Dij)의 최대값인 DTWEP 기반 제조공정 이상탐지 방법
|
| 5 |
5
특정 제품(i)을 제조하는 공정에서, n(n은 2 이상의 자연수) 개의 센서(j)로부터 측정된 데이터(xij)를 수집하고 각각의 센서(j)별로 측정하여 수집한 데이터(xij)를 정규화하여 정규화된 데이터(zij)를 생성하는 데이터 관리 모듈,상기 정규화된 데이터(zij)를 이용하여 각각의 제품 데이터별로 다른 제품 데이터와의 DTW거리(dij, 이하 '제1 DTW 거리'라고 함)를 계산하고, 각각의 센서(j)별로 참조(reference) 데이터(rj)를 선정하여, 상기 참조 데이터(rj)와 다른 제품 데이터와의 DTW 거리(, 이하 '제2 DTW 거리'라고 함)를 계산하고, 아래의 식을 이용하여, 상기 제2 DTW 거리(Dij)에 패널티(Pij)를 적용하고 합산하여 각각의 제품(i)별로 패널티가 적용된 거리(PDi,이하 '패널티 적용 거리'라고 함)를 생성하는 거리 계산 모듈, 및각각의 제품(i)에 대한 상기 패널티 적용 거리(PDi)가 이상탐지기준을 벗어나는지를 판단하고, 이상이 탐지된 경우, 이상 탐지 정보를 출력하는 이상 탐지 모듈을 포함하는 DTWEP 기반 제조공정 이상탐지 장치
|
| 6 |
6
제5항에 있어서,상기 참조 데이터(rj)는 각각의 센서(j)별로 선정하며, 아래의 식을 이용하여 다른 제품 데이터와의 제1 DTW 거리(dij)의 총합이 가장 작은 데이터를 참조 데이터(rj)로 선정하는 DTWEP 기반 제조공정 이상탐지 장치
|
| 7 |
7
제5항에 있어서,상기 제2 DTW 거리(Dij)에 적용할 상기 패널티(Pij)는 지수적으로 증가하는 형태의 엑스포넨셜 패널티(exponential penalty)이며, 아래의 식을 이용하여 상기 패널티(Pij)를 계산하는 DTWEP 기반 제조공정 이상탐지 장치
|
| 8 |
8
제7항에 있어서,각각의 센서(j)에 대한 상기 관리한계선(ULLj)은 상기 제2 DTW 거리(Dij)의 최대값인 DTWEP 기반 제조공정 이상탐지 장치
|
