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투명소재의 전도성 회로 패턴 형성방법(Conductive circuit patterning method of transparent material)

  • 기술번호 : KST2018002957
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 흡광용액에 투명소재의 하부 면이 접촉하도록 위치시키는 공정준비 단계, 상기 투명소재를 향해 레이저를 조사하는 레이저 조사단계, 상기 흡광용액이 에너지를 흡수하는 흡광용액 에너지 흡수 단계 및 상기 흡광용액이 상기 레이저의 에너지를 흡수하여, 상기 흡광용액에 포함되는 금속원소의 환원반응을 통해 상기 금속원소가 상기 투명소재에 증착되는 패턴 형성단계를 포함하는 투명소재의 전도성 회로 패턴 형성방법을 제공하여, 모재 하부의 모재와 증착용액의 계면에서 레이저에 의한 반응이 발생하므로 증착층과 모재와의 결합력을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
Int. CL H01B 13/00 (2016.10.11) C23C 18/14 (2016.10.11) C23C 18/16 (2016.10.11)
CPC H01B 13/0026(2013.01) H01B 13/0026(2013.01) H01B 13/0026(2013.01)
출원번호/일자 1020160114652 (2016.09.06)
출원인 서울과학기술대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0027277 (2018.03.14) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.09.06)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울과학기술대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 노원구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박민수 대한민국 서울특별시 노원구
2 김한글 대한민국 인천시 부평구
3 황석민 대한민국 서울특별시 강동구
4 신인주 대한민국 서울특별시 강동구
5 이종휘 대한민국 충청남도 서산시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다나 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *길 **, 신관 *층~*층, **층(역삼동, 광성빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서울과학기술대학교 산학협력단 서울특별시 노원구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.09.06 수리 (Accepted) 1-1-2016-0870338-99
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.03.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0167593-39
3 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.05.09 수리 (Accepted) 1-1-2018-0454913-65
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.05.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0454912-19
5 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2018.09.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0660732-76
6 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
2018.10.30 수리 (Accepted) 1-1-2018-1072841-40
7 법정기간연장승인서
2018.11.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2018-0170865-71
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.11.26 수리 (Accepted) 1-1-2018-1177789-47
9 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2018.11.26 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2018-1177788-02
10 등록결정서
Decision to Grant Registration
2018.12.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0832472-34
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
금속원소가 이온화되어 있는 흡광용액에 투명소재의 하부 면이 접촉하도록 위치시키는 공정준비 단계;상기 투명소재를 향해 레이저를 조사하는 레이저 조사단계;상기 흡광용액이 에너지를 흡수하는 흡광용액 에너지 흡수 단계; 및상기 흡광용액이 상기 레이저의 에너지를 흡수하여, 상기 흡광용액에 포함되는 상기 금속원소의 광화학적 환원반응을 통해 상기 금속원소가 상기 투명소재에 증착되는 패턴 형성단계;를 포함하는 투명소재의 전도성 회로 패턴 형성방법
2 2
제1 항에 있어서,상기 투명소재에 증착되는 상기 금속원소를 바탕으로 무전해 증착 공정이 이루어지는 무전해 증착 공정 단계;를 더 포함하는 투명소재의 전도성 회로 패턴 형성방법
3 3
제1 항에 있어서,상기 흡광용액에는 환원 유발제가 포함되어 다이렉트 금속 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 투명소재의 전도성 회로 패턴 형성방법
4 4
제1 항에 있어서,상기 레이저는 0
5 5
제1 항에 있어서,상기 레이저는 지그재그 패턴으로 이동하는 것을 특징으로 하는 투명소재의 전도성 회로 패턴 형성방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 서울과학기술대학교 산학협력단 신진연구지원사업 적외선 레이저를 이용한 유리의 습식 후면 식각 공정 개발