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인라인 타입 박막 증착 공정 시 박막 두께 제어 방법 및 장치(Apparatus and Method for controlling film-thickness in inline-type vapor deposition process)

  • 기술번호 : KST2018002965
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 목적은 인라인 타입의 대형 박막 증착 장치에 수정진동자를 장착하여 박막의 두께 측정을 수행하며, 이를 통해 증착대상물인 기판 이동 속도를 보정함으로써 전압, 전류, 진공도 등 여러 환경조건이 변하는 것에 따른 증착 박막 두께 변화 발생 영향을 최소화하고 안정적인 박막 두께 제어를 실현할 수 있도록 하는, 인라인 타입 박막 증착 공정 시 박막 두께 제어 방법 및 장치를 제공함에 있다.
Int. CL C23C 14/54 (2016.10.08) C23C 14/34 (2016.10.08) C23C 14/50 (2016.10.08) C23C 14/56 (2016.10.08)
CPC C23C 14/546(2013.01) C23C 14/546(2013.01) C23C 14/546(2013.01) C23C 14/546(2013.01) C23C 14/546(2013.01)
출원번호/일자 1020160114349 (2016.09.06)
출원인 한국원자력연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0027140 (2018.03.14) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.09.06)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조상진 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 플러스 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.09.06 수리 (Accepted) 1-1-2016-0867901-13
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2017.07.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.09.07 수리 (Accepted) 9-1-2017-0031113-10
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.12.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0844970-51
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2018.02.01 수리 (Accepted) 1-1-2018-0115569-44
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.03.02 수리 (Accepted) 1-1-2018-0214659-00
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.03.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0214625-58
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2018.05.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0364240-59
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.06.28 수리 (Accepted) 1-1-2018-0636020-22
10 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2018.06.28 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2018-0635989-69
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2018.07.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0461319-65
12 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
2018.08.06 수리 (Accepted) 1-1-2018-0775524-03
13 법정기간연장승인서
2018.08.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2018-0123956-36
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번호 청구항
1 1
증착원료인 타겟물질을 방출하는 타겟건, 상기 타겟건 전방에 배치되어 증착대상물인 기판을 이송시키는 기판홀더를 포함하여 이루어져 상기 기판 상에 다층 박막을 형성하는 인라인 타입 박막 증착 장치를 이용하는 인라인 타입 박막 증착 공정 시 박막 두께 제어 방법에 있어서,상기 타겟건 전방에는 수정진동자를 포함하여 이루어지는 두께측정부가 구비되며,최초 제1층 박막 형성 시 상기 수정진동자 상에 형성된 측정용 박막 두께 값 및 상기 기판 상에 형성된 박막 두께 값 간의 비율을 이용하여 이송보정팩터를 산출하는 초기설정단계;각 층 박막 형성 시 상기 수정진동자 상에 형성된 측정용 박막 두께 값 및 미리 결정된 목표 박막 두께 값 간의 비율을 이용하여 환경보정팩터를 산출하고, 상기 환경보정팩터 값에 따라 상기 기판 이송속도를 피드백 제어함으로써 상기 기판 상에 형성되는 박막 두께를 제어하는 두께제어단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 인라인 타입 박막 증착 공정 시 박막 두께 제어 방법
2 2
제 1항에 있어서, 상기 초기설정단계는,상기 타겟건이 타겟물질을 방출하고 상기 기판홀더가 미리 결정된 이송속도로 상기 기판을 이송시켜, 상기 기판 상에 타겟물질로 이루어지는 박막 제1층이 형성되고, 상기 수정진동자 상에 타겟물질로 이루어지는 측정용 박막 제1층이 형성되는 단계;상기 수정진동자 상에 형성된 측정용 박막 제1층의 두께 및 상기 기판 상에 형성된 박막 제1층의 두께가 각각 측정되는 단계;박막 제1층 두께 값을 측정용 박막 제1층 두께 값으로 나눈 값이 이송보정팩터 값으로 결정되는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 인라인 타입 박막 증착 공정 시 박막 두께 제어 방법
3 3
제 1항에 있어서, 상기 두께제어단계는,제n층 박막 형성 시,상기 타겟건이 타겟물질을 방출하고 상기 기판홀더가 미리 결정된 제n층 이송속도로 상기 기판을 이송시켜, 상기 기판 상에 타겟물질로 이루어지는 박막 제n층이 형성되고, 상기 수정진동자 상에 타겟물질로 이루어지는 측정용 박막 제n층이 형성되는 단계;상기 수정진동자 상에 형성된 측정용 박막 제n층의 두께가 측정되는 단계;측정용 박막 제n층의 두께 값을 미리 결정된 목표 박막 두께 값으로 나눈 값이 제n층 환경보정팩터 값으로 결정되는 단계;를 포함하여 이루어지며,제n+1층 박막 형성 시,제n층 환경보정팩터 값을 제n층 이송속도에 곱한 값으로 제n+1층 이송속도가 결정되는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 인라인 타입 박막 증착 공정 시 박막 두께 제어 방법
4 4
제 2항에 있어서, 상기 기판 상에 형성된 박막 제1층의 두께 측정은,X선 반사율 장치 또는 엘립소미터에 의하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 인라인 타입 박막 증착 공정 시 박막 두께 제어 방법
5 5
제 2항 또는 제 3항에 있어서, 상기 수정진동자 상에 형성된 측정용 박막의 두께 측정은,상기 타겟건과 상기 기판 사이의 거리 값을 상기 타겟건과 상기 수정진동자 사이의 거리 값으로 나눈 값으로 결정되는 툴링팩터 값에 의해 보정되는 것을 특징으로 하는 인라인 타입 박막 증착 공정 시 박막 두께 제어 방법
6 6
제 1항에 있어서, 상기 인라인 타입 박막 증착 공정 시 박막 두께 제어 방법은,상기 인라인 타입 박막 증착 장치에는 상기 타겟건이 복수 개 구비되고, 상기 타겟건 하나당 상기 두께측정부가 하나씩 구비되도록 이루어지며,다층 박막 형성을 위해 상기 두께제어단계가 다수 번 반복 수행되되,각각의 상기 두께제어단계 시 사용되는 상기 타겟건은 매번 동일하거나 또는 다르게 이루어지는 것을 특징으로 하는 인라인 타입 박막 증착 공정 시 박막 두께 제어 방법
7 7
제 1항에 있어서, 상기 인라인 타입 박막 증착 공정 시 박막 두께 제어 방법은,각 층 박막 형성 시 상기 수정진동자 상에 형성된 측정용 박막 두께 값 및 상기 이송보정팩터 값을 사용하여 상기 기판 상에 형성된 박막 두께 값을 산출하는 두께산출단계;를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 인라인 타입 박막 증착 공정 시 박막 두께 제어 방법
8 8
증착원료인 타겟물질을 방출하는 타겟건, 상기 타겟건 전방에 배치되어 증착대상물인 기판을 이송시키는 기판홀더를 포함하여 이루어져 상기 기판 상에 다층 박막을 형성하는 인라인 타입 박막 증착 장치에 구비되는 인라인 타입 박막 증착 공정 시 박막 두께 제어 장치에 있어서,상기 타겟건 전방에 배치되며 수정진동자를 포함하여 이루어지는 두께측정부;상기 두께측정부에서 측정된 값을 사용하여 상기 기판 이송속도를 제어하는 제어부;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 인라인 타입 박막 증착 공정 시 박막 두께 제어 장치
9 9
제 8항에 있어서,상기 인라인 타입 박막 증착 장치에는 상기 타겟건이 복수 개 구비되고,상기 타겟건 하나당 상기 두께측정부가 하나씩 구비되도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 인라인 타입 박막 증착 공정 시 박막 두께 제어 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국원자력연구원 주요사업 중성자빔 산업응용장치 운영