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2 이상의 볼록부 및 상기 볼록부 사이에 형성된 오목부를 가지는 고분자 패턴층을 준비하는 단계;기판 상에 π-공액계 단분자 또는 고분자를 포함하는 용액을 코팅하는 단계;상기 고분자 패턴층의 볼록부 및 오목부가 상기 용액과 접촉하도록 상기 고분자 패턴층을 상기 용액이 코팅된 기판 상에 위치시키고, 상기 기판 및 고분자 패턴층을 접촉시키는 단계; 및상기 용액을 건조하는 단계를 포함하며,상기 기판 상에 π-공액계 단분자 또는 고분자를 포함하는 2 이상의 볼록부를 가지는 유기 단결정 구조를 형성하고,상기 용액 내의 π-공액계 단분자 또는 고분자의 농도는 상기 용액 100 중량부에 대하여 3 중량부 초과 9 중량부 미만이며,상기 기판 및 고분자 패턴층을 접촉시키는 단계에서, 상기 고분자 패턴층 및 기판 사이에 가해지는 압력은 0
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제 1 항에 있어서, 유기 단결정 구조는 격자 선 구조인 나노 어레이 구조체의 제조방법
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제 2 항에 있어서, 볼록부의 피치(P)가 200 nm 이하인 나노 어레이 구조체의 제조방법
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제 2 항에 있어서, 볼록부의 폭(W)이 1 내지 100 nm인 나노 어레이 구조체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 볼록부는 π-공액계 단분자 또는 고분자의 자기조립에 의해 형성되는 나노 어레이 구조체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, π-공액계 단분자는 아센(acenes)계 화합물, 헤테로아센(heteroacenes)계 화합물, 인돌로카바졸(indolocarbazole), 플러렌(fullerene), PTCDI 및 이들의 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 나노 어레이 구조체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, π-공액계 고분자는 폴리피롤(polypyrrole), 폴리티오펜(polythiophene), 폴리셀레노펜(polyselenophene), 폴리이소티아나프텐(polyisothianaphthene), 폴리(아릴렌비닐렌)(poly(arylenevinylene)), 폴리아닐린(polyaniline), 폴리아줄렌(polyazulene), 폴리피렌(polypyrene), 폴리카바졸(polycarbazole), 폴리퓨란(polyfuran), 폴리페닐렌(polyphenylene), 폴리인돌(polyindole), 폴리피리다진(polypyridazine), 폴리아센(polyacene), 폴리플루오렌(polyfluorene) 및 이들의 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 나노 어레이 구조체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 고분자 패턴층의 겔분율은 10 내지 100%인 나노 어레이 구조체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, ASTM D570 하에서, 측정한 고분자 패턴층의 흡습율은 15% 미만인 나노 어레이 구조체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 고분자 패턴층의 표면 에너지는 30 mJ/m2 이하인 나노 어레이 구조체의 제조방법
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