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레이저 오실레이터;상기 레이저 오실레이터의 후단에 배치되는 제1 광 증폭부;상기 제1 광 증폭부의 후단에 배치되는 제1 광 조절부; 및상기 제1 광 조절부의 후단에 배치되는 제2 광 증폭부를 포함하되,상기 제1 광 조절부는:포화 흡수체부;상기 포화 흡수체부의 후단에 배치되는 조절 압축부; 및상기 조절 압축부의 후단에 배치되는 제1 플라즈마 미러부를 포함하는 펄스 레이저 시스템
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제 1 항에 있어서,상기 제1 광 증폭부와 상기 포화 흡수체부 사이에 배치되는 비선형 교차 편광 필터부를 더 포함하는 펄스 레이저 시스템
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제 2 항에 있어서,상기 조절 압축부는 제2 조절 압축부이고,상기 제1 광 조절부는, 상기 제1 광 증폭부와 상기 비선형 교차 편광 필터부 사이에 배치되는 제1 조절 압축부를 더 포함하는 펄스 레이저 시스템
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제 2 항에 있어서,상기 비선형 교차 편광 필터부, 상기 포화 흡수체부, 및 상기 제1 플라즈마 미러부 각각은 상기 레이저의 서로 다른 구간들의 대조비를 향상시키는 펄스 레이저 시스템
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제 2 항에 있어서,상기 비선형 교차 편광 필터부는:렌즈;상기 렌즈의 후단에 배치되는 편광자;상기 편광자의 후단에 배치되는 비선형 크리스탈; 및상기 비선형 크리스탈의 후단에 배치되는 검광자를 포함하는 펄스 레이저 시스템
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제 1 항에 있어서,상기 제1 플라즈마 미러부는:제1 및 제2 미러들; 및상기 제1 및 제2 미러들을 이동시키는 구동부를 포함하는 펄스 레이저 시스템
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제 1 항에 있어서,상기 제2 광 증폭부의 후단에 배치되는 제2 광 조절부를 더 포함하되, 상기 제2 광 조절부는 제2 플라즈마 미러를 포함하는 펄스 레이저 시스템
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제 1 항에 있어서,상기 제1 및 제2 광 증폭부들 각각은 처프 펄스 증폭부(CPA) 또는 광 매개 처프 펄스부 증폭부(OPCPA)인 펄스 레이저 시스템
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레이저 오실레이터;상기 레이저 오실레이터에서 생성된 레이저를 증폭하는 제1 및 제2 광 증폭부들; 및상기 제1 및 제2 증폭부들 사이에 배치되어 상기 레이저의 대조비를 향상시키는 제1 광 조절부를 포함하되,상기 제1 광 조절부는:상기 레이저의 제1 구간의 대조비를 향상시키는 비선형 교차 편광 필터부; 및상기 레이저의 제2 구간의 대조비를 향상시키는 제1 플라즈마 미러부를 포함하는 펄스 레이저 시스템
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제 9 항에 있어서,상기 제2 구간은 상기 제1 구간보다 넓은 펄스 레이저 시스템
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제 9 항에 있어서,상기 비선형 교차 편광 필터부와 상기 제1 플라즈마 미러부 사이에 배치되는 포화 흡수체부를 더 포함하되, 상기 포화 흡수체부는 상기 제1 및 제2 구간들보다 좁은 제3 구간의 대조비를 향상시키는 펄스 레이저 시스템
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제 10 항에 있어서,상기 제1 구간은 상기 제3 구간을 포함하고, 상기 제2 구간은 상기 제1 구간을 포함하는 펄스 레이저 시스템
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제 9 항에 있어서,상기 제1 광 조절부는:상기 비선형 교차 편광 필터부의 전단에 배치되는 제1 조절 압축부; 및상기 포화 흡수체부와 상기 제1 플라즈마 미러부 사이에 배치되는 제2 조절 압축부를 더 포함하는 펄스 레이저 시스템
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제 9 항에 있어서,상기 제2 광 증폭부의 후단에 배치되는 제2 광 조절부를 더 포함하되, 상기 제2 광 조절부는 제2 플라즈마 미러를 포함하는 펄스 레이저 시스템
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