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증착, 세정, 식각 중 적어도 하나의 공정이 진행되는 공정 챔버,상기 공정 챔버에서 사용된 공정 가스를 배출시키기 위한 진공 펌프,상기 공정 챔버와 상기 진공 펌프를 연결하며, 상기 진공 펌프와 접하는 제1 단부와 그 반대측의 제2 단부를 포함하는 제1 배관부와, 상기 제1 배관부의 측면에 접속되며 상기 공정 챔버와 연통하는 제2 배관부를 포함하는 진공 배관, 및상기 제2 단부에 설치되며, 상기 제1 배관부의 내부로 플라즈마 제트를 분사하는 아크 플라즈마 반응기를 포함하는 저압 공정 설비
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제1항에 있어서,상기 제1 배관부에 설치되어 상기 제1 배관부의 내부로 상기 제1 배관부의 길이 방향과 나란한 자기장을 인가하는 자기장 인가부를 더 포함하는 저압 공정 설비
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제2항에 있어서,상기 자기장 인가부는 영구 자석과 솔레노이드 중 어느 하나로 구성되는 저압 공정 설비
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제1항에 있어서,상기 진공 배관은 금속으로 제작되고 접지되며,상기 제2 배관부는 상기 제1 배관부의 제2 단부와 접하는 저압 공정 설비
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제4항에 있어서, 상기 진공 배관은 상기 공정 챔버 및 상기 제2 배관부와 연통하는 제3 배관부를 더 포함하고,상기 공정 챔버는 10㎛ 이상 크기의 파티클을 포집하는 파티클 트랩과 상기 제3 배관부에 의해 직선으로 연결되는 저압 공정 설비
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제5항에 있어서, 상기 제3 배관부는 상기 제1 배관부와 나란하고,상기 제2 배관부는 상기 제1 배관부 및 상기 제3 배관부와 교차하는 저압 공정 설비
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제1항에 있어서,상기 아크 플라즈마 반응기는,내부에 반응 공간을 구비한 접지 전극,상기 반응 공간에 노출된 뾰족한 선단부를 구비한 구동 전극, 및상기 접지 전극과 상기 구동 전극을 절연시키며, 적어도 하나의 가스 주입구를 가지는 절연체를 포함하는 저압 공정 설비
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제7항에 있어서,상기 적어도 하나의 가스 주입구는 가스 공급부와 연결되어 방전 가스로서 아르곤과 질소 중 적어도 하나를 공급받는 저압 공정 설비
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제7항에 있어서,상기 반응 공간은 직경이 일정한 제1 공간과, 상기 제1 공간의 상측과 하측에 각각 위치하는 깔때기 모양의 제2 공간 및 제3 공간으로 구분되며,상기 제1 공간은 상기 반응 공간의 중앙에서 가장 작은 직경으로 형성되고,상기 제2 공간과 상기 제3 공간은 상기 제1 공간으로부터 멀어질수록 큰 직경으로 형성되는 저압 공정 설비
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제7항에 있어서,상기 접지 전극은 상기 제1 배관부의 제2 단부에 고정되는 플랜지를 포함하고, 상기 진공 배관과 함께 접지되는 저압 공정 설비
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